【技术实现步骤摘要】
电池背面结构及双面TOPCon太阳能电池
[0001]本技术属于光伏组件
,具体涉及一种电池背面结构及包括该背面结构的双面TOPCon太阳能电池。
技术介绍
[0002]TOPCon(Tunnel Oxide Passivation Contact的缩写,隧穿氧化层钝化接触)电池作为一种新型的高效太阳能晶硅电池,具有极限效率高、与现有PERC(Passivated Emitter and Rear Cell的缩写,发射极和背面钝化电池)产线兼容度高、无光衰、温度系数低等优势,备受国内外研究所与生产企业的关注。常规的TOPCon电池无法兼容场钝化与界面钝化效果,背面较高的复合会制约电池效率。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,为了克服现有技术的缺陷和达到上述目的,本技术的目的是提供一种改进的双面TOPCon太阳能电池的背面结构,能够有效改善电池背面的界面钝化效果的同时,改善电池的场钝化,从而提高电池的效率。
[0004]为了达到上述目的,本技术采用以下的技术方案:
[0005]一方面,本技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电池背面结构,其特征在于,包括依次设置在硅片背面的第一隧穿氧化层、第一n+多晶硅掺杂层、第二隧穿氧化层、第二n+多晶硅掺杂层、背面钝化减反膜及背面金属电极;所述第二隧穿氧化层的厚度大于所述第一隧穿氧化层的厚度,所述第二n+多晶硅掺杂层的厚度大于所述第一n+多晶硅掺杂层的厚度;所述硅片为N型硅,所述电池为双面绒面结构。2.根据权利要求1所述的背面结构,其特征在于,所述第一隧穿氧化层的厚度为1
‑
2nm,所述第二隧穿氧化层的厚度为1
‑
4nm。3.根据权利要求1所述的背面结构,其特征在于,所述第一n+多晶硅掺杂层的厚度为20
‑
100nm,所述第二n+多晶硅掺杂层的厚度为50
‑
150nm。4.根据权利要求2所述的背面结构,其特征在于,所述第二隧穿氧化层的厚度为2
‑
3nm。5.根据权利要求3所述的背面结构,其特征在于,所述第一n+多晶硅掺杂层的厚度为40
‑
60nm...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁晓佳,赵福祥,费存勇,
申请(专利权)人:韩华新能源启东有限公司,
类型:新型
国别省市:
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