一种双重响应的光刻胶组合物及其应用制造技术

本发明专利技术公开一种双重响应的光刻胶组合物及其应用。本发明专利技术公开的光刻胶组合物包含功能单体、聚合物以及光引发剂。该组合物中的功能单体、聚合物和光引发剂在飞秒激光的照射下发生聚合反应，将功能单体结合到聚合物链中，从而实现对pH和温度双重刺激的智能响应，同时具有较低的飞秒激光直写阈值，飞秒激光直写速度快。选用的光刻胶组合物多为烯烃类物质，原料易得、容易合成，简化了智能材料的获取流程。简化了智能材料的获取流程。简化了智能材料的获取流程。

【技术实现步骤摘要】
一种双重响应的光刻胶组合物及其应用


[0001]本专利技术涉及光刻胶及激光直写
更具体地，涉及一种双重响应的光刻胶组合物及其应用。

技术介绍

[0002]飞秒激光加工技术是实现微结构制备的重要手段。该技术利用飞秒激光作为光源对光刻胶进行光照，使得光照射处的光刻胶同时吸收两个及两个以上的光子发生聚合反应。因此，飞秒激光直写技术具有高精度、无掩模、突破光学衍射极限、可加工三维微结构的能力。目前广泛用于制备微纳机器人，微流体结构和光学结构等。光刻胶是一种对飞秒激光具有双光子吸收的材料体系，但现阶段使用的传统商用光刻胶以及无机非金属材料所得到的微结构在加工完成后无法灵活改变自身结构，无刺激响应或可控自适应变形能力。CN113835296A公开了一种飞秒激光直写光刻胶组合物，涉及一种丙烯酸酯类单体、光引发剂和聚合物组合形式，通过特定结构的单体和聚合物，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，不仅提高了飞秒激光直写精度，同时降低了飞秒激光直写阈值、增强了机械强度，但文中并未涉及有关于刺激响应的技术概念。
[0003]目前在本领域出现一类刺激响应材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双重响应的光刻胶组合物，其特征在于，包含功能单体、光引发剂和聚合物；所述功能单体包含具有如下结构式Ⅰ的丙烯酸酯类单体和结构式Ⅱ的丙烯酸酯类单体；其中，m1表示1
‑
50的整数，R1、R2各自对立地表示为C1
‑
C5的直链或支链烷基；X
‑
(Y)
m2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀⅡ
；其中，X表示C1
‑
C50的直链或支链烷基，m2表示1
‑
20的整数；Y表示
‑
OOC
‑
CR3＝CH2；R3表示甲基或氢；所述聚合物为具有如下结构式Ⅲ的聚合物：2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述聚合物的平均分子量为200
‑
20000；优选地，所述聚合物的平均分子量为500
‑
5000；更优选地，所述聚合物的平均分子量为700
‑
3000。3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，结构式Ⅰ中的m1表示1
‑
20的整数；优选地，m1表示1
‑
10的整数；优选地，结构式Ⅰ中的R1表示C1
‑
C3的直链或支链烷基；R2表示C1
‑
C2的直链或支链烷基。4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，结构式Ⅱ中的X表示C1
‑
C30的直链或支链烷基；优选地，结构式Ⅱ中的X的氢选择性被羟基、卤素、羧基或氨基部分取代；优选地，m2表示1
‑
10的整数；优选地，m2表示3
‑
6的整数。5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述结构式Ⅰ具有如下
Ⅰ‑
1～
Ⅰ‑
3任一所示的结构：6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光引发剂选自双光子吸收的光引发剂；优选地，所述光引发剂包括二苯基乙二酮、2,2
...

【专利技术属性】
技术研发人员：金峰，王健羽，郑美玲，董贤子，
申请(专利权)人：中国科学院理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：