一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统技术方案

技术编号:34142457 阅读:25 留言:0更新日期:2022-07-14 18:09
本发明专利技术公开了一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统,涉及立体投影优化相关领域,获得第一相对位置集合,通过对第一相对位置集合中的各个相对位置进行阶段变化位置分析,输出标识相对位置集合,获得所述第一曲面屏幕和所述第一用户的投影环境信息;获得第一光线影响性;判断第一光线影响性是否处于预设光线影响性中;若第一光线影响性处于预设光线影响性中,对投影环境信息进行阶段性光线采集,获得第一光线信息;根据标识相对位置集合和第一光线信息,搭建双投影校正模型;根据双投影校正模型,输出第一投影校正结果。解决了现有技术中在进行立体投影显示的过程中,由于环境因素和用户因素等变化影响,导致显示效果不佳的技术问题。不佳的技术问题。不佳的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统


[0001]本专利技术涉及立体投影优化相关领域,尤其涉及一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统。

技术介绍

[0002]在当今信息时代中,人们通过图书报纸到电视网络进行信息的获取和交流。随着科技的发展和进步,通过显示终端进行信息交互的越来越受到重视。在进行显示影像的过程中,为了使用户获得更好的视听体验,3D立体投影技术应运而生。
[0003]现有技术中在进行立体投影显示的过程中,由于环境因素和用户因素等变化影响,缺少进行智能化实时校正,导致显示效果不佳的技术问题。

技术实现思路

[0004]本申请通过提供一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统,解决了现有技术中在进行立体投影显示的过程中,由于环境因素和用户因素等变化影响,导致显示效果不佳的技术问题,通过进行环境和显示位置信息的采集分析,智能化、实时化进行显示投影的校正优化,达到提高显示效果,提高用户体验的技术效果。
[0005]鉴于上述问题,提出了本申请提供一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法及系统。
[0006本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于曲面屏幕的立体投影优化方法,其特征在于,所述方法应用于一种基于曲面屏幕的立体投影优化系统,所述系统与光线传感器通信连接,所述方法包括:获得第一曲面屏幕与第一用户的第一相对位置集合,其中,所述第一相对位置信息包括多组相对距离集合;通过对所述第一相对位置集合中的各个相对位置进行阶段变化位置分析,输出标识相对位置集合,其中,所述标识相对位置集合为所述第一相对位置集合的子集合;获得所述第一曲面屏幕和所述第一用户的投影环境信息;根据所述光线传感器对所述投影环境信息进行光线影响分析,获得第一光线影响性;判断所述第一光线影响性是否处于预设光线影响性中;若所述第一光线影响性处于所述预设光线影响性中,对所述投影环境信息进行阶段性光线采集,获得第一光线信息;根据所述标识相对位置集合和所述第一光线信息,搭建双投影校正模型;根据所述双投影校正模型,输出第一投影校正结果。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述投影环境信息进行阶段性光线采集,获得第一光线信息,所述方法还包括:根据所述光线传感器对所述投影环境信息进行光线信息的样本采集,获得第一光线样本信息;通过对所述第一光线样本信息进行K

均值聚类分析,获得投影光线聚类结果;根据所述投影光线聚类结果,生成所述第一光线信息,其中,所述第一光线信息为所述第一光线样本信息的聚类代表光线。3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述通过对所述第一光线样本数据进行K

均值聚类分析,获得投影光线聚类结果,所述方法还包括:通过计算所述第一光线样本数据的差异性数据方差,根据计算后的方差集合进行统计,获得第一差异性系数;根据所述第一差异性系数配置预设聚类取值阈,基于所述预设聚类取值阈,确定预设K值区间;通过对所述K值区间进行K值寻优训练搜索,获得第一寻优K值;根据所述第一寻优K值对所述第一光线样本数据进行K

均值聚类,获得所述投影光线聚类结果。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过对所述第一相对位置集合中的各个相对位置进行阶段变化位置分析,输出标识相对位置集合,所述方法还包括:根据所述第一相对位置集合,获得第一相对角度集合,其中,所述第一相对角度集合为所述第一用户的移动视角集合,且与所述第一相对位置集合一一对应;根据所述第一相对角度集合进行立体成像投影采集,生成多角度投影;按照所述多角度投影进行投影拼接关系分析,生成第一拼接投影;按照所述第一拼接投影,输出所述标识相对位置集合。5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,按照所述多角度投影进行投影拼接关系分析,生成第一拼接投影,所述方法还包括:对所述第一拼接投影进行投影拼接自检,获得第一自检结果,其中,所述第一自检结果

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡新元
申请(专利权)人:华中科技大学
类型:发明
国别省市:

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