一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法技术

本发明专利技术属于光隔离器技术领域，尤其为一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法，所述光隔离器包括磁环本体，所述磁环本体的表面涂覆有呈黑色的环氧树脂涂层，所述环氧树脂涂层用于降低光的反射作用，继而降低对光波传输的干扰，所述环氧树脂涂层的涂料是由分别占比为10～15％、13～18％、67～77％的固化剂、环氧树脂稀释剂和环氧树脂喷涂漆料组成。本发明专利技术在磁环表面改由涂覆一层黑环氧树脂，替代传统的金属镍，利用环氧树脂可以吸收光的特性，其对光的反射作用大幅降低，当光波通过光隔离器传输时，光的散射被环氧树脂吸引，反射大幅度降低，从而可以大大降低对光波传输的干扰。扰。扰。

【技术实现步骤摘要】
一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光隔离器
，具体为一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法。

技术介绍

[0002]光隔离器的功能是让正向传输的光通过，而隔离反向传输的光，从而防止反射光影响光纤传输系统的稳定性。它由一个磁环、一个法拉第旋光片、两个偏振片组成，两个偏振片的光轴成45
°
角。磁环的作用是给法拉第旋光片一个外加的磁场，当光信号通过法拉第旋光片时，法拉第效应会使光的偏振方向产生旋转，利用这个原理，光经过隔离器之后，入射光与其二次经过旋转器的反射光偏振方向正好相差90
°
，这样入口处的偏振片就可以完全阻止反射光的透过。
[0003]目前的光隔离器用磁环在机加工完成后，其磁环结构一般都是在磁环表面电镀一层金属镍。金属镍层虽然在空气中的稳定性很高，具有较高的化学稳定性，但在较长波段上的吸收性能并不理想，不能降低反射光的干扰影响，当光隔离器组装完成后，需要用CCD视觉检测系统对磁环内部的晶片组装情况进行检查时，不能降低反射光对相机的干扰，影响检测的精准度。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法，解决了现有的光隔离器磁环结构一般都是在磁环表面电镀一层金属镍，金属镍在较长波段上的吸收性能并不理想，不能降低反射光的干扰影响，当光隔离器组装完成后，需要用CCD视觉检测系统对磁环内部的晶片组装情况进行检查时，不能降低反射光对相机的干扰，影响检测的精准度的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]本专利技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
[0008]一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构，包括磁环本体，所述磁环本体的表面涂覆有呈黑色的环氧树脂涂层，所述环氧树脂涂层用于降低光的反射作用，继而降低对光波传输的干扰，所述环氧树脂涂层的涂料是由分别占比为10～15％、13～18％、67～77％的固化剂、环氧树脂稀释剂和环氧树脂喷涂漆料组成。
[0009]本专利技术还提供了一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构的制备方法，包括以下制备步骤：
[0010]S1、按一定配比将固化剂、环氧树脂稀释剂、环氧树脂喷涂漆料进行混合均匀，其中固化剂、环氧树脂稀释剂分别占比10～15％、13～18％，余下为环氧树脂喷涂漆料，制得环氧树脂溶液，备用；
[0011]S2、利用胶合剂将两个半圆磁芯的接触面对应粘合，通过将磁环产品在100℃以上
的温度环境中放置1～2h完成固化，得到磁环产品，备用；
[0012]S3、使用自动喷漆机将经步骤S1制配好的环氧树脂溶液滚喷到经步骤S2制得的磁环表面上，形成一层厚度为5～15um的均匀薄膜，喷涂完的磁环100℃以上的温度环境中放置1～3h完成固化。
[0013]进一步地，所述步骤S1中，其中固化剂、环氧树脂稀释剂分别占比12％、15％，余下为环氧树脂喷涂漆料。
[0014]进一步地，所述步骤S2中，胶合剂是由3mm左右的玻璃珠介质和胶着物按照1：9的比例配制成，其中胶着物可选用环氧树脂。
[0015]进一步地，所述步骤S3中，喷枪流量的调整以每小时产品表面上涂层1～3um的厚度为宜，根据需要的膜层厚度控制喷涂时间。
[0016](三)有益效果
[0017]与现有技术相比，本专利技术提供了一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构及其制备方法，具备以下有益效果：
[0018]1、本专利技术，相较于通常的磁环表面电镀一层金属镍，本专利技术在磁环表面改由涂覆一层黑环氧树脂，利用环氧树脂可以吸收光的特性，其对光的反射作用大幅降低，当光波通过光隔离器传输时，光的散射被环氧树脂吸引，反射大幅度降低，从而可以大大降低对光波传输的干扰。
[0019]2、本专利技术，当光隔离器组装完成后，需要用CCD视觉检测系统对磁环内部的晶片组装情况进行检查时，将磁环的表面由原来的电镀镍改为喷涂黑环氧树脂，可以降低反射光对相机的干扰，提高检测的精准度。
附图说明
[0020]图1为本专利技术低反射光干扰型光隔离器磁环的结构示意图。
[0021]图中：1、磁环本体；2、环氧树脂涂层。
具体实施方式
[0022]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0023]实施例1
[0024]如图1所示，本专利技术一个实施例提出的一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构，包括磁环本体1，磁环本体1的表面涂覆有呈黑色的环氧树脂涂层2，环氧树脂涂层2用于降低光的反射作用，继而降低对光波传输的干扰，环氧树脂涂层2的涂料是由分别占比为12％、15％、73％的固化剂、环氧树脂稀释剂和环氧树脂喷涂漆料组成。
[0025]本专利技术还提供了一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构的制备方法，包括以下制备步骤：
[0026]S1、按一定配比将固化剂、环氧树脂稀释剂、环氧树脂喷涂漆料进行混合均匀，其中固化剂、环氧树脂稀释剂分别占比12％、15％，余下为环氧树脂喷涂漆料，制得环氧树脂
溶液，备用；
[0027]S2、利用胶合剂将两个半圆磁芯的接触面对应粘合，通过将磁环产品在100℃以上的温度环境中放置1.5h完成固化，得到磁环产品，备用；其中胶合剂是由3mm左右的玻璃珠介质和胶着物按照1：9的比例配制成，其中胶着物可选用环氧树脂；
[0028]S3、使用自动喷漆机将经步骤S1制配好的环氧树脂溶液滚喷到经步骤S2制得的磁环表面上，形成一层厚度为10um的均匀薄膜(即环氧树脂涂层2)，其中喷枪流量的调整以每小时产品表面上涂层2um的厚度为宜，根据需要的膜层厚度控制喷涂时间；喷涂完的磁环100℃以上的温度环境中放置2h完成固化。
[0029]实施例2
[0030]如图1所示，本专利技术一个实施例提出的一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构，包括磁环本体1，磁环本体1的表面涂覆有呈黑色的环氧树脂涂层2，环氧树脂涂层2用于降低光的反射作用，继而降低对光波传输的干扰，环氧树脂涂层2的涂料是由分别占比为10％、13％、77％的固化剂、环氧树脂稀释剂和环氧树脂喷涂漆料组成。
[0031]本专利技术还提供了一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构的制备方法，包括以下制备步骤：
[0032]S1、按一定配比将固化剂、环氧树脂稀释剂、环氧树脂喷涂漆料进行混合均匀，其中固化剂、环氧树脂稀释剂分别占比10％、13％，余下为环氧树脂喷涂漆料，制得环氧树脂溶液，备用；
[0033]S2、利用胶合剂将两个半圆磁芯的接触面对应粘合，通过将磁环产品在100℃以上的温度环境中放置1h完成固化，得到磁环产品，备用；其中胶合剂是由3m本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构，包括磁环本体(1)，其特征在于：所述磁环本体(1)的表面涂覆有呈黑色的环氧树脂涂层(2)，所述环氧树脂涂层(2)用于降低光的反射作用，继而降低对光波传输的干扰，所述环氧树脂涂层(2)的涂料是由分别占比为10～15％、13～18％、67～77％的固化剂、环氧树脂稀释剂和环氧树脂喷涂漆料组成。2.根据权利要求1所述的一种低反射光干扰型光隔离器磁环结构的制备方法，其特征在于：包括以下制备步骤：S1、按一定配比将固化剂、环氧树脂稀释剂、环氧树脂喷涂漆料进行混合均匀，其中固化剂、环氧树脂稀释剂分别占比10～15％、13～18％，余下为环氧树脂喷涂漆料，制得环氧树脂溶液，备用；S2、利用胶合剂将两个半圆磁芯的接触面对应粘合，通过将磁环产品在100℃以上的温度环境中放置1～2h完成固化，得到磁环产品，备用；...

【专利技术属性】
技术研发人员：张殿义，冯海瑜，黄义文，冯文瀚，
申请(专利权)人：清远市安研电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：