具有参考结构的可植入阵列及其制造方法技术

技术编号:34121951 阅读:14 留言:0更新日期:2022-07-14 13:15
一种可植入阵列,特别是电极阵列,适合放置在人体或动物体的解剖组织中,包括:结构,用于在磁共振图像中参考可植入电极阵列的预定义的不同点,结构布置在可植入阵列的预定义的部分中,结构包括:多个式样,每个式样具有预定义的形式并且包括材料,材料的磁化率不同于电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率,每个式样与预定义的不同点之一处于预定义的空间关系。于预定义的空间关系。于预定义的空间关系。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有参考结构的可植入阵列及其制造方法


[0001]本专利技术涉及一种可植入阵列,特别涉及一种具有参考结构的可植入电极阵列,以及制造可植入阵列的方法,特别是具有例如当植入人体或动物体内时在磁共振图像(magnetic resonance images,MRI)中可见的具有参考结构的可植入电极阵列的方法。

技术介绍

[0002]上述的阵列被植入大脑表面,例如用于术前评估癫痫患者的皮层电活动。
[0003]因此,MRI用于定位关于患者的解剖结构的可植入阵列的电极触点。然而,金属部件或其他良好的导电材料(如碳和导电聚合物)可能会导致MRI伪影,从而影响结果,尤其是在植入物附近。可能具有100倍以下金属厚度的薄膜植入物可以减轻这些伪影,但薄膜植入物在许多临床MRI序列中会产生不明显的MRI信号空洞,因此不适合通过MRI定位电极触点。
[0004]另一方面,具有非常小的金属触点、非常薄的金属层或根本没有金属的植入物可能在临床MRI中根本看不到。
[0005]但当务之急是,医生需要知道植入物的位置,以及颅内EEG值随电极定位精度的提高而增加。

技术实现思路

[0006]本专利技术基于以下问题:提供一种可植入阵列,用于基于MRI定位其标准或微型平面电极触点,以及一种制造可在MRI中精确定位的此类电极阵列的方法。
[0007]上述问题通过根据各自独立权利要求的可植入阵列,特别是可植入电极阵列,以及制造可植入阵列的方法,特别是可植入电极阵列的方法来解决。本专利技术的其他方面在从属权利要求中定义。
[0008]因此,提供了一种可植入阵列,特别是电极阵列,适合放置在人体或动物体的解剖组织中,包括用于参考磁共振图像中可植入电极阵列的预定义的不同点的结构,该结构布置在可植入阵列的预定义的部分中,该结构包括:多个式样,每个式样具有预定义的形式并且包括具有与电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率不同的磁化率的材料,每个式样与预定义的不同点之一处于预定义的空间关系。
[0009]本专利技术的有利实施方式可以包括以下特征。
[0010]材料可以包括具有选自铁、氧化铁、稀土氧化物和热解碳材料的材料的颗粒。
[0011]式样可以包括具有磁化率的材料,该材料的磁化率高于电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率。
[0012]每个式样可以被隔离并与其他式样隔开。
[0013]该结构可以在电极阵列的预定义的部分上形成网格。
[0014]预定义的点可以是以下至少之一

电极触点,

流体接口,

几何意义的点。
[0015]预定义的形式可以是十字形形式。
[0016]预定义的部分可以包括以下至少一项

顶表面(8),

后表面,

边缘,

拐角。
[0017]至少三个式样可以沿着笔直的第一线对齐,并且至少三个式样可以沿着笔直的第二线对齐,第二线垂直于第一线。
[0018]该材料可以是聚合物,特别是选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
[0019]可植入电极阵列可以包括至少一层聚合物,特别是选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
[0020]接触可以形成具有第一网格常数的第一网格,并且式样可以形成具有与金属接触相同的网格常数的第二网格。
[0021]本专利技术还包括一种制造适合放置在人体或动物体的解剖组织中的可植入阵列的方法,特别是根据前述权利要求之一的电极阵列,包括以下步骤:a.将第一层聚合物沉积在机械载体上;b.固化第一聚合物层;c.将导电层层压或沉积到第一聚合物层上;d.使用激光对导电层进行式样化,从而形成电极触点、互连轨道和焊盘;e.沉积第二层聚合物;f.固化第二层聚合物;g.使用激光将沟槽切入聚合物层,沟槽定义了MRI参考结构;h.沟槽填充有聚合物,该聚合物包含的材料的磁化率不同于电极阵列周围的解剖组织在放入人体或动物体内时的磁化率;i.固化沟槽的填充;j.沉积并固化聚合物覆盖层;
ķ
.使用激光去除覆盖层,露出电极触点;l.通过使用激光切割所有沉积层来定义电极阵列的轮廓;m.电极阵列与机械载体分离。
[0022]聚合物可以选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
[0023]该材料可以选自铁、氧化铁、稀土氧化物和热解碳。
[0024]导电层可以选自金属、导电聚合物、碳。
[0025]当放置在人体或动物体内时,该材料可以具有磁化率,该磁化率高于电极阵列周围的解剖组织的磁化率。
[0026]如上所述,可植入阵列可以是可植入电极阵列。
附图说明
[0027]下面结合附图对本专利技术及其实施方式进一步详细说明。
[0028]图1示出了根据本专利技术实施方式的可植入电极阵列,图2示出了根据本专利技术实施方式的可植入电极阵列中的距离,图3示出了根据本专利技术实施方式的可植入电极阵列的截面图,图4示出了根据本专利技术另一个实施方式的可植入电极阵列。
具体实施方式
[0029]图1和图2示出了根据本专利技术实施方式的可植入电极阵列。可植入电极阵列包括至少一个由生物相容性聚合物制成的基底层1。聚合物可以选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
[0030]可植入电极阵列是柔性的,因此它可以使其形式适应人类或动物皮层中放置它的位置的形式。电极阵列在其表面8上包括直径c的传感器触点2。电极触点2可以位于聚合物1中直径小于直径c的孔6中。
[0031]电极阵列还包括结构5,用于在MRI中参考可植入电极阵列的预定义的不同点2,例如,触点2。结构5布置在可植入电极阵列上,即,表面8上或表面8下方,并包括单个式样51、52、53。
[0032]每个式样51、52、53包括颗粒(即,纳米颗粒,NP),其材料相对于周围环境产生大的磁化率差异,周围环境是要放置电极阵列的患者组织。
[0033]磁化率的这种差异与各自的有效横向弛豫时间(T2*)的差异有关,例如,具有高磁化率的材料的T2*非常短,而周围具有较小的磁化率的人体组织的T2*则较长,使得式样中和式样附近的MRI信号丢失,因此与周围材料形成对比,其结果是式样在电极阵列的磁共振图像中变得可见。
[0034]具有非常短的T2*的材料式样可以选自例如铁、氧化铁和稀土氧化物。
[0035]参考结构5在电极阵列的预定义的部分上形成网格;每个式样51、52、53、54、55与要参考的金属触点2之一处于预定义的空间关系,例如,距离d。
[0036]从图中可以看出,每个式样51、52、53、54、55被隔离并且与其他式样间隔开。式样可以具有十字形形式。
[0037]式样51、52、53、54、55可以彼此等距。至少两个式样51、52、53、54、55可以沿着笔本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种适合放置在人体或动物体的解剖组织中的可植入阵列,包括结构(5),用于在磁共振图像中参考可植入电极阵列的预定义的不同点(2),所述结构(5)布置在所述可植入电极阵列的预定义的部分中,所述结构(5)包括:多个式样(51、52、53、54、55),每个所述式样(51、52、53、54、55)具有预定义的形式并且包括一种材料,所述材料的磁化率不同于所述可植入阵列周围的解剖组织在置于所述人体或动物体内时的磁化率,每个所述式样(51、52、53、54、55)与所述预定义的不同点(2)之一处于预定义的空间关系中。2.根据权利要求1所述的可植入阵列,其特征在于,所述材料包括选自铁、氧化铁、稀土氧化物和热解碳的颗粒。3.根据权利要求1或2所述的可植入阵列,其特征在于,所述式样(51、52、53、54、55)包括的材料的磁化率高于所述电极阵列周围的所述解剖组织在置于所述人体或动物体内时的磁化率。4.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,每个所述式样(51、52、53、54、55)独立设置并与其他所述式样(51、52、53、54、55)间隔开。5.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,所述结构(5)在所述电极阵列的所述预定义的部分上形成网格。6.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,所述预定义的点至少是以下之一

电极触点,

流体接口,

几何意义的点。7.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,所述预定义的部分包括以下至少一项

顶表面(8),

后表面,

边缘,

拐角。8.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,至少三个所述式样(51、52、53)沿着笔直的第一线对齐,并且至少三个所述式样(52、54、55)...

【专利技术属性】
技术研发人员:约翰纳斯
申请(专利权)人:柯泰克股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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