大面积纳米压印拼接模板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种大面积纳米压印拼接模板，其包括基板和多个压印模板单元；所述基板上设有多个阵列排布的基准光栅，所述多个阵列排布的基准光栅在所述基板上界定多个拼接区域；所述多个压印模板单元分别设于所述多个拼接区域内，且任意相邻的两个所述压印模板单元相互拼接。本实用新型专利技术提供的大面积纳米压印拼接模板，通过在基板上设置多个阵列排布的基准光栅，该基准光栅能够在拼接压印模板单元时，作为对准准星，以使得压印模板单元能够精确的被布置在基板上预定的拼接区域内，从而实现压印模板单元间的精准过渡。现压印模板单元间的精准过渡。现压印模板单元间的精准过渡。

【技术实现步骤摘要】
大面积纳米压印拼接模板


[0001]本技术是关于纳米压印
，特别是关于一种大面积纳米压印拼接模板。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是一种使用压印模板单元下压压印胶，生成微小图案形状的一种微纳加工技术。自上世界90年代该技术被从实验室引入生产领域，在薄膜材料制作(例如LED显示技术、平板显示屏)领域有大规模的应用；并且随着技术材料的发展，模板的制作技术也随之产生巨大的变化。其中，大面积的模板制作，从之前单一的离子(电子)束刻蚀，到模板的形状转移技术，再到模板拼接技术，使压印模板单元的制作成本大规模降低，同时生产效率大大提高。
[0003]现有技术中大面积压印模板单元的制作方式，通常是在压印模板单元边缘设置牺牲层，在两个压印模板单元间重复压印(在接缝处二次压印)。然而，这种拼接结构不能保证压印模板单元的精确对准。
[0004]因此，针对上述技术问题，有必要提供一种新的面积纳米压印拼接模板。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种面积纳米压印拼接模板，该纳米压印拼接模板通过基准光栅的设置，能够提高拼接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，包括：基板，所述基板上设有多个阵列排布的基准光栅，所述多个阵列排布的基准光栅在所述基板上界定多个拼接区域；多个压印模板单元，分别设于所述多个拼接区域内，且任意相邻的两个所述压印模板单元相互拼接。2.如权利要求1所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基板上任意相邻的两个所述基准光栅的对准中心之间的间距为D；所述压印模板单元上形成有多个微纳结构，相邻的两个所述微纳结构之间的间距为A；其中，D为A的正整数倍。3.如权利要求1所述的大面积纳米压印拼接模板，其特征在于，所述基准光栅呈矩阵排布...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗刚，
申请(专利权)人：苏州鸿兴微纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：