一种水冷屏导向装置、单晶炉炉盖和单晶炉制造方法及图纸

技术编号:34066472 阅读:65 留言:0更新日期:2022-07-06 21:39
本实用新型专利技术提供一种水冷屏导向装置、单晶炉炉盖和单晶炉,该水冷屏导向装置用于单晶炉,所述水冷屏导向装置安装在所述单晶炉的炉盖的水冷屏孔位置处,所述水冷屏导向装置包括法兰盘,所述法兰盘的中心部分形成通孔并且边缘部分连接到所述水冷屏孔的边缘上方;多个导向结构,设置在所述法兰盘的所述通孔的边缘下方并且在所述炉盖的水冷屏孔内纵向延伸,多个所述导向结构沿所述通孔的周向间隔布置以在内部围成与所述通孔连通使水冷屏通过的柱状空间。本实用新型专利技术实施例的水冷屏导向装置用于引导水冷屏上下移动,避免了出现因水冷屏偏移而导致单晶炉内部气流不平衡的现象,提高了结晶质量。晶质量。晶质量。

【技术实现步骤摘要】
一种水冷屏导向装置、单晶炉炉盖和单晶炉


[0001]本技术涉及光伏
,具体涉及一种水冷屏导向装置、单晶炉炉盖和单晶炉。

技术介绍

[0002]当代单晶硅正向着高纯度、高完整性、高均匀性和大直径方向发展。单晶硅生产主要使用直拉法通过单晶炉拉制单晶硅棒。
[0003]为了提高硅晶体生长速度,通常在硅晶体的根部位置使用水冷屏,通过热量交换方法快速带走晶体根部的热量,从而加快晶体的生长速度。水冷屏为了更好的对晶体根部进行降温,需要在单晶炉内随晶体根部上下移动,但是由于水冷屏在单晶炉内升降过程中容易发生偏移,从而导致单晶炉内部气流不平衡,影响单晶硅棒的成晶质量。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本技术提供一种水冷屏导向装置,以解决水冷屏在单晶炉内移动发生偏移而影响成晶质量的问题。
[0005]本技术还提供一种单晶炉炉盖。
[0006]此外本技术还提供一种单晶炉。
[0007]为了实现上述目的,本技术采用以下技术方案:
[0008]根据本技术第一方面实施例的水冷屏导向装置,所述水冷屏导向装置安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水冷屏导向装置,用于单晶炉,其特征在于,所述水冷屏导向装置安装在所述单晶炉的炉盖的水冷屏孔位置处,所述水冷屏导向装置包括:法兰盘,所述法兰盘的中心部分形成通孔并且边缘部分连接到所述水冷屏孔的边缘上方;多个导向结构,设置在所述法兰盘的所述通孔的边缘下方并且在所述炉盖的水冷屏孔内纵向延伸,多个所述导向结构沿所述通孔的周向间隔布置以在内部围成与所述通孔连通使水冷屏通过的柱状空间。2.根据权利要求1所述的水冷屏导向装置,其特征在于,每个所述导向结构包括:导向柱,纵向延伸并且形成有纵向排列的多个安装槽;滚轮,上下可转动地安装在所述安装槽内,并且所述滚轮的至少一部分从所述安装槽向所述柱状空间内突出,以与水冷屏接触。3.根据权利要求1所述的水冷屏导向装置,其特征在于,所述法兰盘的边缘部分设置有多个紧固孔,紧固件穿过所述紧固孔将所述法兰盘连接到所述水冷屏孔的边缘上方。4.根据权利要求1所述的水冷屏导向装置,其特征在于,还包括:第一定位套,所述第一定位套设置在所述导向结...

【专利技术属性】
技术研发人员:尤志剑陈铁旦焦继兰
申请(专利权)人:邢台晶龙新能源有限责任公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1