一种光学粉尘测量暗室结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种光学粉尘测量暗室结构，属于测量设备技术领域。本实用新型专利技术包括箱体，箱体上部分一侧设置有进气口，进气口内部设置有激光器，激光器与进气口开口方向呈反向设置，箱体上与进气口相对的一侧设置有光穴，光穴下方设置有排气口，箱体内部与排气口位置对应处设置有导流板，箱体上方设置有光电倍增管，光电倍增管与箱体内部连通，本实用新型专利技术有效避免了探测仪器被粉尘污染的问题，提高了探测仪器的探测精度，延长了使用寿命，且结构简单，操作简便。操作简便。操作简便。

【技术实现步骤摘要】
一种光学粉尘测量暗室结构


[0001]本技术涉及一种光学粉尘测量暗室结构，属于测量设备


技术介绍

[0002]现有的粉尘质量浓度的测量的光散色法的难点在于光学检测暗室，现有检测暗室光学探测器直接接触含尘气流，光学探测器容易被粉尘污染，难于清理，暗室结构复杂清理积灰难等问题，容易造成测量不准确，甚至无法使用，必须定期进行灰尘清理工作。

技术实现思路

[0003]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光学粉尘测量暗室结构，用于解决现有技术中现有的光学检测暗室结构复杂，清理积灰困难，光学探测器容易被粉尘污染的问题。
[0004]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光学粉尘测量暗室结构包括：箱体，所述箱体上部分一侧设置有进气口，进气口内部设置有激光器，激光器与进气口开口方向呈反向设置，箱体上与进气口相对的一侧设置有光穴，光穴下方设置有排气口，箱体内部与排气口位置对应处设置有导流板，箱体上方设置有光电倍增管，光电倍增管与箱体内部连通，光电倍增管与箱体连接处设置有滤光镜，箱体下方开设有排污口。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学粉尘测量暗室结构，其特征在于，包括箱体(10)，所述箱体(10)上部分一侧设置有进气口(8)，进气口(8)内部设置有激光器(7)，激光器(7)与进气口(8)开口方向呈反向设置，箱体(10)上与进气口(8)相对的一侧设置有光穴(3)，光穴(3)下方设置有排气口(1)，箱体(10)内部与排气口(1)位置对应处设置有导流板(2)，箱体(10)上方设置有光电倍增管(6)，光电倍增管(6)与箱体(10)内部连通，光电倍增管(6)与箱体(10)连接处设置有滤光镜(5)，箱体(10)下方开设有排污口(9)。2.根据权利要求1所述的一种光学粉尘测量...

【专利技术属性】
技术研发人员：任茂林，
申请(专利权)人：重庆蓝格科技开发有限公司，
类型：新型
国别省市：