一种飞秒激光制备掩膜版的方法技术

本发明专利技术公开了一种飞秒激光制备掩膜版的方法，包括如下步骤：步骤一：剪裁金属箔片；步骤二：将金属箔片包裹在盖玻片一面；步骤三：清洁金属箔片表面；步骤四：在金属箔片上通过飞秒激光技术刻蚀出刻蚀槽，制成掩膜版。本方案通过使用飞秒激光加工掩膜版替代了以往的通过使用光刻机和光刻胶进行曝光的工艺，本方案无需使用光刻胶，掩膜版制作过程环保，并且通过飞秒激光直接蚀刻，加工速度快，可有效节省加工时间。加工时间。加工时间。

【技术实现步骤摘要】
一种飞秒激光制备掩膜版的方法


[0001]本专利技术涉及微型器件与材料
，特别是一种飞秒激光制备掩膜版的方法。

技术介绍

[0002]随着全球能源需求的飙升，新一代能源技术的发展正变得越来越重要。微纳米器件作为重要的表征工具和储能载体，极大促进了能量转换和存储技术的发展。典型的微纳米器件包括正极、负极、电解液、隔膜和集流体部分，其中，集流体作为电子传输的重要途径，是必不可少的部分。制备出平整、均匀和高精度的集流体成为了研究人员探索的目标。
[0003]现有的微纳器件集流体制作方式包括电沉积法(Adv.Mater.,2017,29,1701736.)、3D打印法(Adv.Funct.Mater.,2017,27,1700551)以及电子束光刻技术和物理气相沉积技术结合法(NanoLett.2010,10,4273
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4278)等。然而，电沉积法虽然容易操作，但是却存在沉积不均匀的问题(NanoToday,2019,28,100764.)，从而影响了电极材料表面正常的电场分布和均匀电子转移过程，严重时可影响材料容量的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种飞秒激光制备掩膜版的方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：剪裁金属箔片；步骤二：将金属箔片包裹在盖玻片一面；步骤三：清洁金属箔片表面；步骤四：在金属箔片上通过飞秒激光技术刻蚀出刻蚀槽，制成掩膜版。2.根据权利要求1所述的一种飞秒激光制备掩膜版的方法，其特征在于：所述步骤一至所述步骤四中的金属箔片设置为铝箔。3.根据权利要求1所述的一种飞秒激光制备掩膜版的方法，其特征在于：所述步骤二中，金属箔片的大小大于盖玻片的大小，盖玻片设置于金属箔片的中央，金属箔片的四边大于盖玻片的部分弯折包覆盖玻片。4.根据权利要求3所述的一种飞秒激光制备掩膜版的方法，其特征在于：盖玻片的大小设置为20mm*20mm，金属箔片的大小设置为25mm*25mm。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：王学文，廉思甜，麦立强，柴年垚，喻科菘，潘雪雷，蔡智君，
申请(专利权)人：佛山仙湖实验室，
类型：发明
国别省市：