一种溅射后LCD靶材的处理方法技术

本发明专利技术提供一种溅射后LCD靶材的处理方法，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板上残留的溅射物。所述处理方法操作简单，处理成本较低，实现了溅射后LCD靶材中背板的回收利用；而且喷砂处理中用到的砂料可以回收重复利用，不会对环境造成污染，是一种绿色经济的靶材回收处理方法，适合大规模推广应用。合大规模推广应用。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射后LCD靶材的处理方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种溅射后LCD靶材的处理方法。

技术介绍

[0002]在半导体工业中，靶材组件是由符合溅射性能的靶材和与所述靶材结合、具有一定强度的背板构成。背板可以在所述靶材组件装配至溅射基台中起到支撑作用，并具有传导热量的功效。
[0003]靶材组件的种类相当多，根据形状分为长靶，方靶，圆靶；根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等；根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。
[0004]靶材组件用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为氩气)，在电场的作用下，氩气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，氩离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。
[0005]靶材组件在实际使用过程中，由于溅射原理、方式等原因，靶材的使用率仅为30
‑
50％。对废旧靶材组件进行处理并回收能够降低资源和能源消耗，减轻环境压力。
[0006]CN109320231A公开了一种ITO靶材的回收处理方法，采用抛光和加热的方式去除回收的ITO靶材的表面粗铟和表面杂质，接着再将其粉碎成纳米粉末状，之后放入烧结炉中高温烧结提纯，得到提纯后的旧料粉末，再将旧料粉末混匀到新料粉末中，加入纯水制成混合浆料，然后对混合浆料进行脱泡处理，放入成型模具中制成靶材胚料，最后对靶材胚料进行最终的烧结成型，即得到新的高精度ITO靶材。但该方法并没有对背板进行回收处理，在一定程度上造成了背板的浪费。
[0007]CN113151685A公开了一种超高纯铜锰靶材的回收方法，所述回收方法包括：对超高纯铜锰靶材进行初处理；所述初处理包括依次进行切割、酸浸洗、水浸洗、酒精浸洗和烘干；之后对初处理后的超高纯铜锰靶材进行熔炼；在熔炼后的超高纯铜锰靶材中加入锰，静置，浇铸成形，得到铜锰铸锭；所述回收方法能够将超高纯铜锰靶材完全回收再利用，回收后的铜锰铸锭的纯度能达到99.9999wt％，可用作新的超高纯铜锰靶材的原材料。该回收方法对靶材进行酸浸洗，酸溶液耗费量大，会增加处理成本，而且酸溶液还会对环境造成污染。
[0008]液晶显示屏(LCD)制备过程中用到的LCD靶材在溅射使用后，也需要进行处理并回收利用。
[0009]因此，开发一种可回收处理靶材组件中背板的溅射后LCD靶材的处理方法具有重
要意义。

技术实现思路

[0010]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种溅射后LCD靶材的处理方法，采用喷砂处理的方法将溅射后LCD靶材背板上残留的溅射物清除，而且喷砂处理中用到的砂料也可以回收重复利用，不会对环境造成污染。
[0011]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0012]本专利技术提供一种溅射后LCD靶材的处理方法，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板上残留的溅射物。
[0013]本专利技术所述溅射后LCD靶材的处理方法通过喷砂处理的方式将溅射后LCD靶材中背板上的残留溅射物进行有效清除的同时，也使背板达到了可以重复使用的粗糙度要求，将喷砂处理后的背板与靶材脱焊后可直接重复利用。相较于现有技术中采用药剂清洗的方式去除溅射物残留的方法，药剂会对环境造成污染，而本专利技术采用喷砂处理，砂料是可以回收并重复利用的，既节约了靶材加工处理成本，又不会对环境带来污染，是一种绿色经济的靶材回收处理方法，适合大规模推广应用。
[0014]优选地，所述喷砂处理在喷砂机中进行。
[0015]优选地，所述喷砂处理采用的砂料包括白刚玉。
[0016]优选地，所述喷砂处理的砂料粒径包括12目～60目，例如可以是12目、24目、46目或60目等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为46目。
[0017]优选地，所述喷砂处理的气压为7～8.5MPa，例如可以是7MPa、7.2MPa、7.5MPa、7.7MPa、7.9MPa、8MPa、8.1MPa、8.3MPa或8.5MPa等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0018]本专利技术优选所述喷砂处理的气压为7～8.5MPa，能够很好地将背板上残留的溅射物去除。当喷砂处理的气压低于7MPa时，气压过低，不能有效的将溅射物清除掉。在实际的喷砂处理过程中，喷砂机是无法达到8.5MPa以上的气压。
[0019]优选地，所述喷砂处理的时间为15～20min，例如可以是15min、16min、17min、18min、19min或20min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0020]优选地，所述喷砂处理时，喷砂枪与背板的垂直距离为100～150mm，例如可以是100mm、105mm、110mm、120mm、130mm、140mm或150mm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0021]本专利技术优选所述喷砂处理时，喷砂枪与背板的垂直距离在特定的范围内，可以利用高压气流中喷出的砂料将背板上残留的溅射物清除，实现背板的回收利用。由于出砂枪口的直径只有8
㎜
，当喷砂枪与背板的垂直距离太近，会导致砂料还没有散开，只能局部喷砂，不能很好的去除背板上的溅射物；当喷砂枪与背板的垂直距离太远，喷出的砂料压力就会减小，无法将溅射物喷除干净。
[0022]优选地，所述喷砂处理后背板的粗糙度为5～10μm，例如可以是5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0023]本专利技术优选所述喷砂处理后背板的粗糙度为5～10μm，这样在喷砂处理结束后将该粗糙度范围的背板与靶材进行脱焊处理，背板就可以直接回收，重复使用，无需进行其他复杂的处理。
[0024]优选地，在对所述溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理之前，对溅射后LCD靶材的非喷砂面进行保护处理。
[0025]本专利技术所述非喷砂面为溅射后的靶材的溅射面，由于溅射面已经经过了溅射处理，剩余的未溅射的金属需要回收提纯后才能被重复使用，因此，不需要参与喷砂处理。这样也可以减少喷砂处理的工作量，节约喷砂物料。
[0026]作为本专利技术优选的技术方案，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的非喷砂面进行保护处理后，在喷砂机中对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射后LCD靶材的处理方法，其特征在于，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板上残留的溅射物。2.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理在喷砂机中进行。3.根据权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理采用的砂料包括白刚玉。4.根据权利要求1～3任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的砂料粒径包括12目～60目，优选为46目。5.根据权利要求1～4任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的气压为7～8.5MPa。6.根据权利要求1～5任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的时间为15～20min。7.根据权利要求1～6任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理时，喷砂枪与背板的垂直距离为100～1...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，赵丽，李闯，范文新，周伟君，
申请(专利权)人：广东江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：