一种溅射后LCD靶材的处理方法技术

本发明专利技术提供一种溅射后LCD靶材的处理方法，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板上残留的溅射物。所述处理方法操作简单，处理成本较低，实现了溅射后LCD靶材中背板的回收利用；而且喷砂处理中用到的砂料可以回收重复利用，不会对环境造成污染，是一种绿色经济的靶材回收处理方法，适合大规模推广应用。合大规模推广应用。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射后LCD靶材的处理方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种溅射后LCD靶材的处理方法。

技术介绍

[0002]在半导体工业中，靶材组件是由符合溅射性能的靶材和与所述靶材结合、具有一定强度的背板构成。背板可以在所述靶材组件装配至溅射基台中起到支撑作用，并具有传导热量的功效。
[0003]靶材组件的种类相当多，根据形状分为长靶，方靶，圆靶；根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等；根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。
[0004]靶材组件用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为氩气)，在电场的作用下，氩气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射后LCD靶材的处理方法，其特征在于，所述处理方法包括对溅射后LCD靶材的背板进行喷砂处理，去除背板上残留的溅射物。2.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理在喷砂机中进行。3.根据权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理采用的砂料包括白刚玉。4.根据权利要求1～3任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的砂料粒径包括12目～60目，优选为46目。5.根据权利要求1～4任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的气压为7～8.5MPa。6.根据权利要求1～5任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理的时间为15～20min。7.根据权利要求1～6任一项所述的处理方法，其特征在于，所述喷砂处理时，喷砂枪与背板的垂直距离为100～1...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，赵丽，李闯，范文新，周伟君，
申请(专利权)人：广东江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：