表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法及陶瓷管壳技术

技术编号:34006643 阅读:72 留言:0更新日期:2022-07-02 13:33
本发明专利技术提供了一种表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法及陶瓷管壳,属于陶瓷管壳制备技术领域,包括:在陶瓷基板的正面和/或背面刻蚀凹槽;在陶瓷基板的正面和背面气相沉积金属种子层;在金属种子层上粘附n层光敏材料;在光敏材料上进行预设图形的曝光和显影,形成线路图案;在显露出的金属种子层上面沉积金属形成金属化图形,在凹槽内沉积金属形成热沉金属块;通过物理打磨将金属化图形减薄;去除陶瓷基板上剩余的光敏材料;刻蚀露出的金属种子层在非图形区域上制备镍钯金金属层。本发明专利技术在接触芯片的陶瓷表面开槽,生长热沉金属块,热沉金属块将芯片产生的热量带走并散发出去,芯片周围温度较低,工作稳定性大幅提高。工作稳定性大幅提高。工作稳定性大幅提高。

【技术实现步骤摘要】
表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法及陶瓷管壳


[0001]本专利技术属于陶瓷管壳制备
,具体涉及一种表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法及陶瓷管壳。

技术介绍

[0002]随着电子信息技术的快速发展,射频电路朝着集成化、减小芯片尺寸的方向发展。同时电子芯片的功率与功耗急剧增加,大规模集成电路芯片等产生的发热量越来越高,电子芯片的散热问题成为亟待解决的技术难题。
[0003]目前在陶瓷管壳表面贴装芯片时,管壳受尺寸限制,表面金属层比较薄,散热效果较差,芯片工作稳定性降低,影响了电子芯片的可靠性和稳定性。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法及陶瓷管壳,旨在解决陶瓷管壳的散热问题,提高电子芯片的工作可靠性和稳定性。
[0005]第一方面,为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:提供一种表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法,包括:
[0006]在陶瓷基板的正面和/或背面刻蚀凹槽;
[0007]在所述陶瓷基板的正面和背面气相沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法,其特征在于,包括:在陶瓷基板(1)的正面和/或背面刻蚀凹槽(2);在所述陶瓷基板(1)的正面和背面气相沉积金属种子层(4);在所述金属种子层(4)上粘附n层光敏材料(5),n≥1;在所述光敏材料(5)上进行预设图形的曝光和显影,显露出部分金属种子层(4),形成线路图案(15);在所述显露出的金属种子层(4)上面沉积金属形成金属化图形(8),在所述凹槽(2)内沉积金属形成热沉金属块(7);通过物理打磨将金属化图形(8)减薄并平整;去除陶瓷基板(1)上剩余的光敏材料(5),露出其覆盖的金属种子层(4);刻蚀露出的金属种子层(4),以使非图形区域露出所述陶瓷基板(1);在所述非图形区域上制备镍钯金金属层(13);在陶瓷基板(1)四周焊接金属围框(11),芯片键合在所述热沉金属块(7)上;在所述金属围框(11)上盖板(12),形成陶瓷管壳。2.如权利要求1所述的表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法,其特征在于,所述凹槽(2)深的深度为所述陶瓷基板(1)厚度的0

2/3。3.如权利要求1所述的表面凹槽金属化热沉结构陶瓷管壳的制备方法,其特征在于,在沉积金属种子层(4)之前,在所述陶瓷基板(1)上设置贯穿通孔(3);并在沉积金属形成金属化图形(8)时,将所述贯穿通孔(3)填充为实心金属柱(6);所述贯穿通...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐晓赫李仕俊徐达常青松袁彪郭旭光张延青郭建贾岳珉李超张晓荷宋作奇王鹏贺刘松涛
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第十三研究所
类型:发明
国别省市:

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