聚焦方法及系统、设备和存储介质技术方案

一种聚焦方法及系统、设备和存储介质，聚焦方法包括：在第一预设拍摄高度区域内，以第一预设步长对待测物在不同的第一拍摄高度位置处进行拍摄，获取多张第一图像；根据多张第一图像获取多个与第一拍摄高度一一对应的聚焦度参数，用于表征第一图像的聚焦质量；从多个聚焦度参数中提取至少三个聚焦度参数值最大的聚焦度参数，并获取由聚焦度参数值最大的聚焦度参数与相对应的第一拍摄高度构成的多个数据点；利用预设高斯宽度对多个数据点进行高斯拟合获取第一高斯拟合曲线，并根据第一高斯拟合曲线获取最佳聚焦高度。本发明专利技术通过提取聚焦度参数值最大的若干个聚焦度参数以及对应的第一拍摄高度进行拟合，提高聚焦速度和聚焦精度。焦精度。焦精度。

【技术实现步骤摘要】
聚焦方法及系统、设备和存储介质


[0001]本专利技术实施例涉及量测领域，尤其涉及一种聚焦方法及系统、设备和存储介质。

技术介绍

[0002]在基于大倍率显微成像进行量测的应用中，聚焦的准确性往往直接影响了量测的精度，例如在套刻误差量测中，不同的高度下即使只差几十纳米，测得的套刻误差都会存在差异性。另一方面，聚焦速度又直接影响了量测的效率，聚焦时间过长将导致量测效率的变低。
[0003]传统的聚焦算法通常有两种，一种是采用成像的方式基于不同高度下拍摄的图像，利用图像聚焦度(例如，图像锐度)对于高度的响应来确定最佳聚焦高度，但是这种做法为了达到较高的量测精度，往往需要在较小的步长下拍摄多张图像，数据采集时间长，量测效率低下。另一种是采用非成像的方式(例如利用干涉的方式)，测量获得物体距离镜头的距离，但是这种方式需要配备额外的光学系统(例如干涉系统)，成本较高，且整体的系统较复杂。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例解决的问题是提供一种聚焦方法及系统、设备和存储介质，在保证聚焦精度的同时，提高聚焦速度。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚焦方法，其特征在于，包括：在第一预设拍摄高度区域内，以第一预设步长对待测物在不同的第一拍摄高度位置处进行拍摄，获取多张第一图像；根据所述多张第一图像，获取多个与所述第一拍摄高度一一对应的聚焦度参数，所述聚焦度参数用于表征所述第一图像的聚焦质量；从所述多个聚焦度参数中提取至少三个聚焦度参数值最大的聚焦度参数，并获取由所述聚焦度参数值最大的聚焦度参数与相对应的所述第一拍摄高度构成的多个数据点；利用预设高斯宽度对所述多个数据点进行高斯拟合获取第一高斯拟合曲线，并根据所述第一高斯拟合曲线获取最佳聚焦高度。2.如权利要求1所述的聚焦方法，其特征在于，根据所述第一高斯拟合曲线获取最佳聚焦高度的步骤包括：进行一次或多次的聚焦高度提取处理，所述聚焦高度提取处理包括：获取待提取高斯拟合曲线的峰值对应的高度位置，作为基准高度位置；获取所述基准高度位置后，在第二预设拍摄高度区域内，以第二预设步长对所述待测物在不同的第二拍摄高度位置处进行拍摄，获取多张第二图像，所述基准高度位置位于所述第二预设拍摄高度区域内，且所述第二预设步长小于所述第一预设步长；获取所述多张第二图像后，根据所述多张第二图像，获取多个与所述第二拍摄高度一一对应的聚焦度参数，所述聚焦度参数用于表征所述第二图像的聚焦质量；获取多个与所述第二拍摄高度一一对应的聚焦度参数后，对获取的所述多个聚焦度参数和第二拍摄高度进行高斯拟合，获取第二高斯拟合曲线；在完成最后一次所述聚焦高度提取处理后，提取所述最后一次聚焦高度提取处理获取的第二高斯拟合曲线的峰值对应的高度位置作为最佳聚焦高度；其中，在第一次的所述聚焦高度提取处理的过程中，所述待提取高斯拟合曲线为所述第一高斯拟合曲线；当所述聚焦高度提取处理的次数为多次时，前一次聚焦高度提取处理获取的所述第二高斯拟合曲线作为后一次聚焦高度提取处理中的待提取高斯拟合曲线，且后一次聚焦高度提取处理中的第二预设步长小于前一次聚焦高度提取处理获取处理中的第二预设步长。3.如权利要求1所述的聚焦方法，其特征在于，利用预设高斯宽度对所述多个数据点进行高斯拟合获取第一高斯拟合曲线的步骤中，所述预设高斯宽度大于所述第一预设步长。4.如权利要求3所述的聚焦方法，其特征在于，所述预设高斯宽度为所述第一预设步长的3倍至5倍。5.如权利要求1所述的聚焦方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，吕肃，李青格乐，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：