对光学膜的表面电阻进行改良的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及对光学膜的表面电阻进行改良的装置和方法。本发明专利技术的对光学膜的表面电阻进行改良的装置包括：喷涂部，所述喷涂部对光学膜喷涂表面电阻改良液；擦拭部，所述擦拭部对喷涂后的所述光学膜进行擦拭；干燥部，所述干燥部对擦拭后的所述光学膜进行干燥。根据本发明专利技术，能够在不改变光学膜的既有原料配方的基础上，通过对光学膜喷涂表面电阻改良液来实现整卷光学膜的表面电阻的改良，避免或减少在光学膜的加工过程中及加工之后，在光学膜的表面上产生带电(例如，静电)现象，从而避免或减少导致最终的膜片产品相互吸附而“粘连”。。。

【技术实现步骤摘要】
对光学膜的表面电阻进行改良的装置和方法


[0001]本专利技术涉及对光学膜的表面电阻进行改良的装置和方法。

技术介绍

[0002]在光学膜的加工过程中及加工之后，在光学膜的表面上会产生带电(例如，静电)现象，从而会导致最终的膜片产品相互吸附而“粘连”。
[0003]目前，一般通过改良光学膜的某一组成原料的配方来实现光学膜的表面电阻的改良。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供对光学膜的表面电阻进行改良的装置和方法，能够在不改变光学膜的既有原料配方的基础上，通过对光学膜喷涂表面电阻改良液来实现整卷光学膜的表面电阻的改良。
[0005]本专利技术公开了一种对光学膜的表面电阻进行改良的装置，所述装置包括：
[0006]喷涂部，所述喷涂部对光学膜喷涂表面电阻改良液；
[0007]擦拭部，所述擦拭部对喷涂后的所述光学膜进行擦拭；
[0008]干燥部，所述干燥部对擦拭后的所述光学膜进行干燥。
[0009]可选地，所述喷涂部包括一个或多个喷头组，每个喷头组包括在幅方向上排列的多个单本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对光学膜的表面电阻进行改良的装置，其特征在于，所述装置包括：喷涂部，所述喷涂部对光学膜喷涂表面电阻改良液；擦拭部，所述擦拭部对喷涂后的所述光学膜进行擦拭；干燥部，所述干燥部对擦拭后的所述光学膜进行干燥。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷涂部包括一个或多个喷头组，每个喷头组包括在幅方向上排列的多个单喷头。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，每个单喷头被控制为连续喷涂或开关时间可调的间歇喷涂。4.根据权利要求2
‑
3中任一项所述的装置，其特征在于，单独控制每个单喷头的开启和关闭。5.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：遮罩部，所述遮罩部包围所述喷涂部。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述遮罩部包括排风装置和引流槽。7.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：承接部，所述承接部位于所述喷涂部的下方。8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：承接部，所述承接部位于所述喷涂部的下方。9.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的装置，其特征在于，所述擦拭部包括在幅方向上延伸的擦拭棒和擦拭布。10.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述擦拭部包括在幅方向上延伸的擦拭棒和擦拭布。11.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述擦拭部包括在幅方向上延伸的擦拭棒和擦拭布。12.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：王一峰，蒋鑫磊，
申请(专利权)人：住化电子材料科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：