【技术实现步骤摘要】
一种氮化铬
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铬复合涂层活塞环及其制备方法
[0001]本专利技术属于金属加工领域,具体涉及一种氮化铬
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铬复合涂层活塞环及其制备方法。
技术介绍
[0002]本申请人于2020年提出了一项专利技术专利申请D1:CN202010266973.5公开了一种二道环的表面镀CrN的加工工艺,包括如下步骤:步骤1:将加工好的活塞环清洗后采用挂具挂好;步骤2:将步骤1处理得到活塞环装入大弧源多弧离子镀膜机,所述大弧源多弧离子镀膜机内依次布置有12个弧源,依次标号为1
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12号弧源;步骤3:将活塞环的表面采用大弧源多弧离子镀膜机经过镀CrN处理即可。该工艺加工出来的活塞环镀层的硬度为HV1600
±
200。
[0003]此外,D2:CN201480059874.2公开了一种具有低摩擦特性、耐磨性和耐膜剥离性优良的覆盖有非晶硬质碳膜的活塞环以降低汽车的耗油量,在包含钢的活塞环母材的外周面上,隔着基底层和中间层,覆盖厚度为0.4μm~20μm的非晶硬质碳膜;所述 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氮化铬
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铬复合涂层活塞环,包括活塞环基体,其特征在于:所述活塞环基体的摩擦面具有由交替布置的氮化铬层和铬层组成的镀层;所述镀层的厚度为12~15μm;其中,氮化铬层的厚度为1
±
0.05μm;铬层的厚度为0.8
±
0.05μm,所述镀层的最外层为氮化铬层且最内层为铬层。2.根据权利要求1所述的氮化铬
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铬复合涂层活塞环,其特征在于:所述活塞环基体的表面在活化后再沉积所述镀层;所述活塞环基体的活化的方法为:将活塞环基体置于氩气环境、真空度为2.5Pa、调整偏压至
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800V,开启Cr靶,调整靶材电流为100A,以Cr离子高能轰击活塞环基体20min,活化活塞环基体的外圆表面。3.一种如权利要求1所述的氮化铬
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铬复合涂层活塞环的制备方法,其特征在于:所述方法具体为:步骤1:活塞环基体活化;步骤2:在活化后的活塞环基体的摩擦面沉积铬层;步骤3:在步骤2的基础上沉积氮化铬层;重复步骤2
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3,直至镀层的厚度为12~15μm;所述镀层由步骤2和步骤3的铬层和氮化铬层层;所述镀层的最外层为氮化铬层且最内层为铬层;所述氮化铬层的厚度为1
±
0.05μm;铬层的厚度为0.8
±
0.05μm。4.根据权利要求3所述的氮化铬
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铬复合涂层活塞环的制备方法...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚剑鸣,郑立铧,李科志,蒋凯威,
申请(专利权)人:清远市万里丰活塞环有限公司,
类型:发明
国别省市:
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