一种具有真空吸附功能的浸釉机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有真空吸附功能的浸釉机构，涉及上釉设备技术领域，包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构；所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘，所述吸盘远离吸附部的一侧设置有抽气管，所述抽气管的一端与所述吸盘吸附部设置的气孔相连通；所述控制机构包括脚踏开关和抽气泵，所述抽气泵与所述抽气管的一端相连，所述脚踏开关用于控制所述抽气泵的启闭。本实用新型专利技术通过人工脚踩脚踏开关，从而控制抽气泵的启动，使得抽气管内部呈现负压，使得吸盘吸附在待上釉的陶瓷坯体的不需上釉的部位上，再将本实用新型专利技术提供的上釉机构整体浸入到釉液中实现陶瓷坯体的上釉，实现对陶瓷坯体的准确高效上釉。上釉。上釉。

A glaze dipping mechanism with vacuum adsorption function

【技术实现步骤摘要】
一种具有真空吸附功能的浸釉机构


[0001]本技术涉及上釉设备
，具体涉及一种具有真空吸附功能的浸釉机构。

技术介绍

[0002]目前陶瓷坯体都是通过操作人员用手抓着产品的底部无釉部分对待上釉产品进行上釉操作的，这样不仅上釉速度慢影响产品生产周期，而且上釉质量很不稳定和非上釉位置出现上釉的现象，影响产品的美观。

技术实现思路

[0003]为解决现有技术问题，本技术提供一种具有真空吸附功能的浸釉机构，包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构；
[0004]所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘，所述吸盘远离吸附部的一侧设置有抽气管，所述抽气管的一端与所述吸盘吸附部设置的气孔相连通；
[0005]所述控制机构包括脚踏开关和抽气泵，所述抽气泵与所述抽气管的一端相连，所述脚踏开关用于控制所述抽气泵的启闭。
[0006]在本实施例中，所述吸盘包括吸盘本体和支撑装置，所述支撑装置围绕所述吸盘本体的外侧边缘密封固定连接；所述支撑装置的边缘呈锯齿状。
[0007]在本实施例中，所述支撑装置通过螺栓本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有真空吸附功能的浸釉机构，其特征在于：包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构；所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘(1)，所述吸盘(1)远离吸附部的一侧设置有抽气管(3)，所述抽气管(3)的一端与所述吸盘(1)吸附部设置的气孔相连通；所述控制机构包括脚踏开关(20)和抽气泵(21)，所述抽气泵(21)与所述抽气管(3)的一端相连，所述脚踏开关(20)用于控制所述抽气泵(21)的启闭。2.根据权利要求1所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构，其特征在于：所述吸盘(1)包括吸盘本体(10)和支撑装置(11)，所述支撑装置(11)围绕所述吸盘本体(10)的外侧边缘密封固定连接；所述支撑装置(11)的边缘呈锯齿...

【专利技术属性】
技术研发人员：尧忠义，尧忠飞，潘群华，尧忠胜，
申请(专利权)人：江西省华星陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：