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本实用新型公开了一种具有真空吸附功能的浸釉机构，涉及上釉设备技术领域，包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构；所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘，所述吸盘远离吸附部的一侧设置有抽气管，所述抽气管的一端与所述吸盘吸附部设置...
该专利属于江西省华星陶瓷有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西省华星陶瓷有限公司授权不得商用。

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