一种镀膜材料及其制备方法、电子产品壳体技术

一种镀膜材料及其制备方法、电子产品壳体。本发明专利技术涉及一种镀膜材料，包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠的基础层、过渡层和颜色层，所述基础层位于所述基材的表面，所述基础层包括X1元素；所述过渡层包括X2、Si、Y1和C元素；所述颜色层包括Ti、Si、Y2和C元素，所述Ti、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~3）：（1~3）：（10~18）；其中，所述X1元素包括Cr和/或Ti元素，所述X2元素包括Cr和/或Ti元素，所述Y1包括Zr、W和Nb中的至少一种，所述Y2包括Zr、W和Nb中的至少一种。该镀膜材料的膜层能呈现出均匀的蓝色效果，且耐磨和耐腐蚀的性能好。且耐磨和耐腐蚀的性能好。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜材料及其制备方法、电子产品壳体


[0001]本专利技术涉及镀膜领域，具体涉及一种镀膜材料及其制备方法、电子产品壳体。

技术介绍

[0002]由于电子产品的竞争日趋激烈，消费者对品质和外观的要求更高，采用物理气相沉积方法制备蓝色薄膜可以使产品得到更具金属光泽的外观面，并具有更为优异的耐磨性能等。
[0003]现有技术有利用TiAlN膜层在金属基材表面制备蓝色装饰膜的方法，但该方法对颜色层成膜时间要求较高，工艺稳定性一般；而且TiAlN膜层耐磨、耐腐蚀能力有限，已经难以满足装饰膜表面性能的要求；另外，在基材形状较为复杂时，在形状突变位置容易出现颜色不均匀、泛彩的现象。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于克服上述现有技术中存在的问题，提供一种镀膜材料及其制备方法、电子产品壳体，该镀膜材料的膜层能呈现出均匀的蓝色效果，且耐磨和耐腐蚀的性能好。
[0005]本专利技术的第一方面是提供一种镀膜材料，包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠的基础层、过渡层和颜色层，所述基础层位于所述基材的表面，所述基础层包括X1元素；所述过渡层包括X2、Si、Y1和C元素；所述颜色层包括Ti、Si、Y2和C元素，所述Ti、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~3）：（1~3）：（10~18）；其中，所述X1元素包括Cr和/或Ti元素，所述X2元素包括Cr和/或Ti元素，所述Y1包括Zr、W和Nb中的至少一种，所述Y2包括Zr、W和Nb中的至少一种。
[0006]优选地，所述基础层包括Cr和Ti元素，所述Ti与Cr的摩尔比为2：（1~5）。
[0007]优选地，所述过渡层中X2、Si、Y1与C的摩尔比为3：（1~2）：（1~2）：（6~12）。
[0008]优选地，所述颜色层中还含有Cr元素，其中，Ti、Cr、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~2）：（1~3）：（1~3）：（10~18）。
[0009]优选地，所述基础层的厚度为100
‑
1000nm，所述过渡层的厚度为300
‑
3000nm，所述颜色层的厚度为100
‑
1000nm。
[0010]优选地，所述基础层的厚度为200
‑
500nm，所述过渡层的厚度为500
‑
1500nm，所述颜色层的厚度为100
‑
500nm。
[0011]优选地，所述基材包括金属、陶瓷、玻璃和塑料中的至少一种。
[0012]优选地，所述膜层的颜色值范围为：L值为30~50，a值为
‑
1~
ꢀ‑
10，b值为
‑
1~
ꢀ‑
18。
[0013]本专利技术的第二方面是提供如前述的镀膜材料的制备方法，包括在所述基材的表面依次沉积基础层、过渡层和颜色层。
[0014]本专利技术的第三方面是提供一种电子产品壳体，包括前述的镀膜材料。
[0015]本专利技术提供的镀膜材料包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠
的基础层、过渡层和颜色层，所述过渡层和颜色层含有Zr、W和Nb中的至少一种元素，提高了膜层的耐磨和耐腐蚀性能，同时还能使膜层呈现出蓝色效果；另外，颜色层中的Ti、Si和C元素能保证膜层呈现出均匀的蓝色效果。所述基础层、过渡层和颜色层协同作用，使得基材表面的膜层能呈现出均匀的蓝色效果，且耐磨和耐腐蚀的性能好。
具体实施方式
[0016]在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
[0017]本专利技术提供了一种镀膜材料，包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠的基础层、过渡层和颜色层，所述基础层位于所述基材的表面，所述基础层包括X1元素；所述过渡层包括X2、Si、Y1和C元素；所述颜色层包括Ti、Si、Y2和C元素，所述Ti、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~3）：（1~3）：（10~18）；其中，所述X1元素包括Cr和/或Ti元素，所述X2元素包括Cr和/或Ti元素，所述Y1包括Zr、W和Nb中的至少一种，所述Y2包括Zr、W和Nb中的至少一种。
[0018]本专利技术提供的镀膜材料包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠的基础层、过渡层和颜色层，所述过渡层和颜色层含有Zr、W和Nb中的至少一种元素，提高了膜层的耐磨和耐腐蚀性能，同时还能使膜层呈现出蓝色效果；另外，颜色层中的Ti、Si和C元素能保证膜层呈现出均匀的蓝色效果。所述基础层、过渡层和颜色层协同作用，使得基材表面的膜层能呈现出均匀的蓝色效果，且耐磨和耐腐蚀的性能好。
[0019]在一些实施例中，所述基础层中的X1元素与所述过渡层中的X2元素选择可以相同也可以不同，例如，所述基础层中的X1元素选择Cr元素时，所述过渡层中的X2元素可以选择Cr和/或Ti元素。优选地情况下，所述基础层中的X1元素与所述过渡层中的X2元素选择相同，例如，所述基础层中的X1元素选择Cr元素时，所述过渡层中的X2元素选择Cr元素。
[0020]在一些实施例中，所述过渡层中的Y1元素与所述颜色层中的Y2元素选择可以相同也可以不同，例如，所述过渡层中的Y1元素选择Zr元素时，所述颜色层中的Y2元素可以选择Zr、W和Nb中的至少一种。优选地情况下，所述过渡层中的Y1元素与所述颜色层中的Y2元素选择相同，例如，所述过渡层中的Y1元素选择Zr元素时，所述颜色层中的Y2元素选择Zr元素。
[0021]本专利技术所述基础层能提高膜层与基材间的附着力，在一些实施例中，所述基础层包括Cr和/或Ti元素。具体地，所述基础层可以为Cr层或Ti层或CrTi层。在所述基础层包括Cr和Ti元素的情况下，为进一步增加膜层与基材间的附着力，所述Ti与Cr的摩尔比为2：（1~5）。
[0022]在一些实施例中，所述过渡层包括X2、Si、Y1和C元素，其中，X2元素包括Cr和/或Ti元素，所述Y1包括Zr、W和Nb中的至少一种。所述过渡层与所述基础层具有很好的附着力，且能与所述颜色层达到颜色的过渡，呈现出均匀的蓝色效果。为进一步提高过渡效果，优选地，所述过渡层中X2、Si、Y1与C的摩尔比为3：（1~2）：（1~2）：（6~12）。基于降低成本和工艺简易上考虑，优选地，所述Y1为Zr、W和Nb中的一种。
[0023]具体地，所述过渡层可以为CrSiZrC层、CrSiWC层、CrSiNbC层、TiSiZrC层、TiSiWC层、TiSiNbC层、CrTiSiZrC层、CrTiSiWC层、CrTiSiNbC层、CrSiZrWC层、CrSiZrNbC层、CrSiZrWNbC层、TiSiZrWC层、TiSiZrNbC层、TiSiZrWNbC层、CrT本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜材料，其特征在于，包括基材和位于基材表面的膜层，所述膜层包括依次层叠的基础层、过渡层和颜色层，所述基础层位于所述基材的表面，所述基础层包括X1元素；所述过渡层包括X2、Si、Y1和C元素；所述颜色层包括Ti、Si、Y2和C元素，所述Ti、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~3）：（1~3）：（10~18）；其中，所述X1元素包括Cr和/或Ti元素，所述X2元素包括Cr和/或Ti元素，所述Y1包括Zr、W和Nb中的至少一种，所述Y2包括Zr、W和Nb中的至少一种。2.根据权利要求1所述的镀膜材料，其特征在于，所述基础层包括Cr和Ti元素，所述Ti与Cr的摩尔比为2：（1~5）。3.根据权利要求1所述的镀膜材料，其特征在于，所述过渡层中X2、Si、Y1与C的摩尔比为3：（1~2）：（1~2）：（6~12）。4.根据权利要求1所述的镀膜材料，其特征在于，所述颜色层中还含有Cr元素，其中，Ti、Cr、Si、Y2与C的摩尔比为5：（1~2）：（1~3）：（1~3）：（10~18）。5.根据权利要求1所述的镀膜材料，其特征在于，所述基础层的厚度为100
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1000nm，所述过渡...

【专利技术属性】
技术研发人员：许金宝，禹跃斌，刘晨岑，
申请(专利权)人：韶关比亚迪电子有限公司，
类型：发明
国别省市：