防药水交叉污染的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:33890422 阅读:49 留言:0更新日期:2022-06-22 17:25
本实用新型专利技术公开了一种防药水交叉污染的清洗装置,包括:清洗机构,包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘,第一水池和第二水池均存放有用于清洗电路板的药水,第一驱动件驱动多个压水辘旋转,多个压水辘用于避免第一水池和第二水池中的药水混合在一起;喷水机构,包括有喷管和水箱,喷管与水箱连通,喷管开设有多个出水孔,多个出水孔朝向第一水池设置,喷管通过出水孔将水箱中的水向第一水池喷淋;输送机构,设置在第一水池和第二水池,输送机构用于驱动电路板在第一水池和第二水池运动。喷水机构能够防止第一水池和第二水池中的药水交叉污染,提高对电路板的清洗效果。提高对电路板的清洗效果。提高对电路板的清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
防药水交叉污染的清洗装置


[0001]本技术涉及电路板制造
,尤其涉及一种防药水交叉污染的清洗装置。

技术介绍

[0002]目前的电路板清洗装置主要是使电路板通过装有不同药水的水池,以清洗掉附着在电路板上的杂质,但是不同水池中的药水容易混合在一起,从而在水池中产生大量泡沫,泡沫容易粘附在电路板上,减小了电路板与药水的接触面积,而且影响水池的液位,降低了电路板的清洗效果,不利于对电路板进行后续加工。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本技术提供了一种防药水交叉污染的清洗装置,能够避免不同水池中的药水混合在一起,提高对电路板的清洗效果。
[0004]根据本技术实施例的第一方面,提供了防药水交叉污染的清洗装置,包括:清洗机构,包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘,所述第一水池与所述第二水池对接,所述第一水池和所述第二水池均存放有用于清洗电路板的药水,多个所述压水辘分设在所述第一水池和所述第二水池,所述第一驱动件驱动多个所述压水辘旋转,多个所述压水辘用于避免所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.防药水交叉污染的清洗装置,其特征在于,包括:清洗机构,包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘,所述第一水池与所述第二水池对接,所述第一水池和所述第二水池均存放有用于清洗电路板的药水,多个所述压水辘分设在所述第一水池和所述第二水池,所述第一驱动件驱动多个所述压水辘旋转,多个所述压水辘用于避免所述第一水池和所述第二水池中的药水混合在一起;喷水机构,包括有喷管和水箱,所述喷管与所述水箱连通,所述喷管开设有多个出水孔,多个所述出水孔朝向所述第一水池设置,所述喷管通过多个所述出水孔将所述水箱中的水向所述第一水池喷淋;输送机构,设置在所述第一水池和所述第二水池,所述输送机构用于驱动所述电路板在所述第一水池和所述第二水池运动。2.根据权利要求1所述的防药水交叉污染的清洗装置,其特征在于,所述喷水机构还包括有控制阀,所述控制阀用于控制所述喷管的开启或关闭。3.根据权利要求2所述的防药水交叉污染的清洗装置,其特征在于,所述喷水机构还包括有流量计,所述流量计用于检测所...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖红兵
申请(专利权)人:鹤山市中富兴业电路有限公司
类型:新型
国别省市:

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