本实用新型专利技术公开了一种防药水交叉污染的清洗装置，包括：清洗机构，包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘，第一水池和第二水池均存放有用于清洗电路板的药水，第一驱动件驱动多个压水辘旋转，多个压水辘用于避免第一水池和第二水池中的药水混合在一起；喷水机构，包括有喷管和水箱，喷管与水箱连通，喷管开设有多个出水孔，多个出水孔朝向第一水池设置，喷管通过出水孔将水箱中的水向第一水池喷淋；输送机构，设置在第一水池和第二水池，输送机构用于驱动电路板在第一水池和第二水池运动。喷水机构能够防止第一水池和第二水池中的药水交叉污染，提高对电路板的清洗效果。提高对电路板的清洗效果。提高对电路板的清洗效果。
【技术实现步骤摘要】
防药水交叉污染的清洗装置
[0001]本技术涉及电路板制造
，尤其涉及一种防药水交叉污染的清洗装置。
技术介绍
[0002]目前的电路板清洗装置主要是使电路板通过装有不同药水的水池，以清洗掉附着在电路板上的杂质，但是不同水池中的药水容易混合在一起，从而在水池中产生大量泡沫，泡沫容易粘附在电路板上，减小了电路板与药水的接触面积，而且影响水池的液位，降低了电路板的清洗效果，不利于对电路板进行后续加工。
技术实现思路
[0003]本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术提供了一种防药水交叉污染的清洗装置，能够避免不同水池中的药水混合在一起，提高对电路板的清洗效果。
[0004]根据本技术实施例的第一方面，提供了防药水交叉污染的清洗装置，包括：清洗机构，包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘，所述第一水池与所述第二水池对接，所述第一水池和所述第二水池均存放有用于清洗电路板的药水，多个所述压水辘分设在所述第一水池和所述第二水池，所述第一驱动件驱动多个所述压水辘旋转，多个所述压水辘用于避免所述第一水池和所述第二水池中的药水混合在一起；喷水机构，包括有喷管和水箱，所述喷管与所述水箱连通，所述喷管开设有多个出水孔，多个所述出水孔朝向所述第一水池设置，所述喷管通过多个所述出水孔将所述水箱中的水向所述第一水池喷淋；输送机构，设置在所述第一水池和所述第二水池，所述输送机构用于驱动所述电路板在所述第一水池和所述第二水池运动。
[0005]本技术实施例的防药水交叉污染的清洗装置，至少具有以下有益效果：输送机构驱动电路板从第一水池运动到第二水池，以清洗附着在电路板上的杂质，第一驱动件驱动压水辘旋转，以防止第一水池和第二水池中的药水混合在一起。电路板经过第一水池清洗后，电路板上残留有第一水池中的药水，喷管通过多个出水孔将水箱中的水向电路板喷淋，使残留在电路板上的药水冲刷回第一水池中，避免第一水池中的药水进入到第二水池中，防止药水交叉污染，提高电路板的清洗效果。
[0006]根据本技术的一些实施例，所述喷水机构还包括有控制阀，所述控制阀用于控制所述喷管的开启或关闭。
[0007]根据本技术的一些实施例，所述喷水机构还包括有流量计，所述流量计用于检测所述喷管的出水量。
[0008]根据本技术的一些实施例，所述喷水机构还包括有检测部件，所述检测部件与所述控制阀电连接，所述检测部件用于检测所述电路板的位置。
[0009]根据本技术的一些实施例，所述检测部件包括有发射器和接收器，所述发射
器和所述接收器对称设置在所述第一水池的两侧。
[0010]根据本技术的一些实施例，所述输送机构包括有第二驱动件和多个导向部件，所述第二驱动件驱动多个所述导向部件同步旋转，以驱动所述电路板在所述第一水池和所述第二水池运动。
[0011]根据本技术的一些实施例，所述导向部件包括有传动杆和滚轮，所述滚轮与所述传动杆套接，所述第二驱动件驱动所述传动杆旋转，所述传动杆驱动所述滚轮旋转，以驱动所述电路板在所述第一水池和所述第二水池运动。
[0012]根据本技术的一些实施例，所述第一驱动件和所述第二驱动件均为电机。
[0013]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0014]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0015]图1是本技术实施例的防药水交叉污染的清洗装置的俯视图；
[0016]图2是本技术实施例的防药水交叉污染的清洗装置的正视图；
[0017]图3是本技术实施例的防药水交叉污染的清洗装置的喷管的示意图。
[0018]附图标记说明：
[0019]清洗机构100、第一水池110、第二水池120、第一驱动件130、压水辘140；
[0020]喷水机构200、喷管210、出水孔211、水箱220、控制阀230、流量计240、检测部件250；
[0021]输送机构300、第二驱动件310、导向部件320、传动杆321、滚轮322。
具体实施方式
[0022]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0023]在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0024]在本技术的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
[0025]本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。
[0026]可以理解的是，参照图1和图2，本技术的防药水交叉污染的清洗装置，包括：清洗机构100，包括有第一水池110、第二水池120、第一驱动件130和多个压水辘140，第一水池110与第二水池120对接，第一水池110和第二水池120均存放有用于清洗电路板的药水，多个压水辘140分设在第一水池110和第二水池120，第一驱动件130驱动多个压水辘140旋转，多个压水辘140用于避免第一水池110和第二水池120中的药水混合在一起；喷水机构200，包括有喷管210和水箱220，喷管210与水箱220连通，喷管210开设有多个出水孔211，多个出水孔211朝向第一水池110设置，喷管210通过多个出水孔211将水箱220中的水向第一水池110喷淋；输送机构300，设置在第一水池110和第二水池120，输送机构300用于驱动电路板在第一水池110和第二水池120运动。
[0027]输送机构300驱动电路板从第一水池110运动到第二水池120，以清洗附着在电路板上的杂质，第一驱动件130驱动压水辘140旋转，避免第一水池110或第二水池120中的药水溢出，防止第一水池110中的药水和第二水池120中的药水混合在一起产生泡沫。电路板经过第一水池110清洗后，此时电路板上残留有第一水池110中的药水，如果直接进入第二水池120中会使第一水池110和第二水池120中的药水混合在一起，容易在第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.防药水交叉污染的清洗装置，其特征在于，包括：清洗机构，包括有第一水池、第二水池、第一驱动件和多个压水辘，所述第一水池与所述第二水池对接，所述第一水池和所述第二水池均存放有用于清洗电路板的药水，多个所述压水辘分设在所述第一水池和所述第二水池，所述第一驱动件驱动多个所述压水辘旋转，多个所述压水辘用于避免所述第一水池和所述第二水池中的药水混合在一起；喷水机构，包括有喷管和水箱，所述喷管与所述水箱连通，所述喷管开设有多个出水孔，多个所述出水孔朝向所述第一水池设置，所述喷管通过多个所述出水孔将所述水箱中的水向所述第一水池喷淋；输送机构，设置在所述第一水池和所述第二水池，所述输送机构用于驱动所述电路板在所述第一水池和所述第二水池运动。2.根据权利要求1所述的防药水交叉污染的清洗装置，其特征在于，所述喷水机构还包括有控制阀，所述控制阀用于控制所述喷管的开启或关闭。3.根据权利要求2所述的防药水交叉污染的清洗装置，其特征在于，所述喷水机构还包括有流量计，所述流量计用于检测所...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖红兵，
申请(专利权)人：鹤山市中富兴业电路有限公司，
类型：新型
国别省市：
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