生成OPC测试图形的方法技术

本发明专利技术公开了一种生成OPC测试图形的方法，包括：步骤一、建立基本可重复单元库，基本可重复单元库中包括了多个所需要的最小重复单元版图；步骤二、将最小重复单元版图路径，最小重复单元版图名称，OPC测试图形的阵列块间距，OPC测试图形的重复周期输入到脚本中；步骤三、运行脚本生成OPC测试图形阵列。本发明专利技术能简化生成复杂测试图形的流程，能减轻绘制测试图形的工作量和提高工作效率。形的工作量和提高工作效率。形的工作量和提高工作效率。

【技术实现步骤摘要】
生成OPC测试图形的方法


[0001]本专利技术涉及一种半导体集成电路制造方法，特别涉及一种生成光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction，OPC)测试图形的方法。

技术介绍

[0002]从90nm技术节点开始基于模型的光学临近修正(MBOPC)被广泛使用，成为版图修正必不可少的一个步骤。测试图形的设计是建模第一步。当前我们使用TpGen工具绘制测试图形，它是基于tcl语言编写的脚本，该工具对一些复杂图形无法直接调用函数生成，需要工程师自己编写代码来实现图形构造。如图1所示，是现有生成OPC测试图形的方法的流程图；现有生成OPC测试图形的方法包括步骤：
[0003]如标记101的步骤所示，在构造图形的过程中首先要在TpGen库中添加新图形的参数及坐标构造函数。
[0004]如标记102的步骤所示，然后在xls2tp文件中添加新图形的定义，用于解析如标记103步骤所输入的格式为CSV的文件即.csv文件和进行标记104的步骤进行调用TpGen绘制图形，最后输出(Output)绘制的图形，图形格式为O本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种生成OPC测试图形的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、建立基本可重复单元库，所述基本可重复单元库中包括了多个所需要的最小重复单元版图；步骤二、将最小重复单元版图路径，最小重复单元版图名称，OPC测试图形的阵列块间距，OPC测试图形的重复周期输入到脚本中；步骤三、运行脚本生成OPC测试图形阵列。2.如权利要求1所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：步骤一中，各所述最小重复单元版图都设置为GDS格式，所述基本可重复单元库为GDS文件。3.如权利要求2所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：步骤三中，所述OPC测试图形阵列为GDS文件。4.如权利要求2所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：所述最小重复单元版图采用EDA软件绘制。5.如权利要求4所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：步骤一中，在将所述最小重复单元版图保存为GDS格式的同时设置格点精度。6.如权利要求1所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：步骤二中，所述脚本采用python语言编写。7.如权利要求1所述的生成OPC测试图形的方法，其特征在于：步骤三中，所述OPC测试图形阵列中的各所述OPC...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青，康萌，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：