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本发明公开了一种生成OPC测试图形的方法，包括：步骤一、建立基本可重复单元库，基本可重复单元库中包括了多个所需要的最小重复单元版图；步骤二、将最小重复单元版图路径，最小重复单元版图名称，OPC测试图形的阵列块间距，OPC测试图形的重复周期输...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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