表面清洁设备及表面清洁系统技术方案

本公开提供一种表面清洁设备，其包括：手柄；开关机操作机构和/或功率调节操作机构，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构设置于所述手柄，并能够被用户触发；以及给水操作机构，所述给水操作机构设置于所述手柄，并使得所述给水操作机构与开关机操作机构和/或功率调节操作机构之间的间隔距离大于预设值。本公开还提供一种表面清洁系统。公开还提供一种表面清洁系统。公开还提供一种表面清洁系统。

【技术实现步骤摘要】
表面清洁设备及表面清洁系统


[0001]本公开涉及一种表面清洁设备及表面清洁系统。

技术介绍

[0002]当今的表面清洁装置用于湿清洁硬地板或短毛地毯。该装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的清洁部或清洁盘，它们可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。当机器在污垢上移动时，已经被清洁部擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢用沿清洁部运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。
[0003]但是，顽固的污渍通常难以清理，奶渍、果汁和酱汁等，散落在地板表面，蒸发水分后，则会在清洁表面形成难以祛除的顽固污渍。通常，在擦洗过程中，并非所有这些顽固的污垢都可以通过吸尘来清除，因此其中一些残留在地板上，从而降低了清洁质量。
[0004]现有的表面清洁装置，无论是自主移动式清洁装置还是手持式清洁装置，其均需要设置污水箱和清水箱等结构，以使得能够通过热水对表面进行清洁。
[0005]但是，当表面清洁设备包括清水箱和污水箱等结构时，需要设置多个操作机构来实现表面清洁设备的不同功能。因此，需要对表面清洁设备的操作机构进行合理的布置，以提高用户的使用体验。

技术实现思路

[0006]为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种表面清洁设备及表面清洁系统。
[0007]根据本公开的一个方面，提供了一种表面清洁设备，其包括：
[0008]手柄；
[0009]开关机操作机构和/或功率调节操作机构，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构设置于所述手柄，并能够被用户触发；以及
[0010]给水操作机构，所述给水操作机构设置于所述手柄，并使得所述给水操作机构与开关机操作机构和/或功率调节操作机构之间的间隔距离大于预设值。
[0011]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：
[0012]自清洁操作机构，所述自清洁操作机构设置于所述手柄，并使得所述自清洁操作机构与开关机操作机构和/或功率调节操作机构之间的间隔距离大于预设值。
[0013]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述手柄包括：
[0014]握持部，当使用者操作所述手柄时，使用者握持该握持部。
[0015]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构位于所述握持部的一端，所述给水操作机构和/或自清洁操作机构位于所述握持部的另一端。
[0016]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述手柄还包括：
[0017]杆部，当所述杆部处于竖直状态时，所述握持部的上端连接于所述杆部的上端，以
此使得所述杆部与握持部的连接处形成所述手柄的顶端。
[0018]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述给水操作机构和/或自清洁操作机构设置于所述手柄的顶端或者手柄的顶端附近。
[0019]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构设置于所述握持部的下端，并使得使用者握持开关机操作机构和/或功率调节操作机构与给水操作机构和/或自清洁操作机构之间的部分。
[0020]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述开关机操作机构、功率调节操作机构、给水操作机构和自清洁操作机构中的至少一个通过触摸、按压或者推动而被触发。
[0021]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：
[0022]控制装置，所述控制装置用于接收开关机操作机构、功率调节操作机构、给水操作机构和自清洁操作机构中的至少一个的控制信号，并根据该控制信号控制表面清洁设备。
[0023]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，当所述表面清洁设备包括开关机操作机构和功率调节操作机构时，所述开关机操作机构位于所述功率调节操作机构的下方。
[0024]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，当所述表面清洁设备包括给水操作机构和自清洁操作机构时，所述自清洁操作机构位于所述给水操作机构的上方。
[0025]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：
[0026]清水箱，所述清水箱用于存储表面清洁设备清洁待清洁表面前的清洁液体；
[0027]其中，当给水操作机构被操作时，允许向清水箱加入清洁液体。
[0028]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：
[0029]清洁组件，所述清洁组件用于清洁待清洁表面；
[0030]其中，当自清洁操作机构被操作时，允许清洁所述清洁组件的清洁部。
[0031]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，当所述清洁组件的清洁部被清洁时，所述清水箱向所述清洁组件的清洁部提供清洁液体。
[0032]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：液体接头，所述液体接头与所述清水箱连通，以通过所述液体接头向清水箱提供清洁液体，或者将所述清水箱内的清洁液体抽出至所述清水箱的外部。
[0033]根据本公开的另一方面，提供一种表面清洁系统，其包括上述的表面清洁设备。
附图说明
[0034]附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
[0035]图1是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图(仅示出手柄)。
[0036]图2是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。
[0037]图3是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的另一角度结构示意图。
[0038]图4是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图(去除机身)。
[0039]图5是根据本公开的一个实施方式的污水箱的结构示意图。
[0040]图6是根据本公开的另一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。
[0041]图7是本公开的至少一个实施方式的基站的结构示意图之一。
[0042]图8是本公开的至少一个实施方式的基站的结构示意图之二。
[0043]图9是本公开的至少一个实施方式的基站的结构示意图之三。
[0044]图10是本公开的至少一个实施方式的基站的基座的结构示意图之一。
[0045]图11是本公开的至少一个实施方式的基站的基座的局部结构示意图之一。
[0046]图12是本公开的至少一个实施方式的基站的托盘部的局部结构示意图之一。
[0047]图13是本公开的至少一个实施方式的基站的托盘部的局部结构示意图之二。
[0048]图14是本公开的至少一个实施方式的基站的基座的分解结构示意图之一。
[0049]图15是本公开的至少一个实施方式的基站的烘干机构的整体结构示意图。
[0050]图16是本公开的至少一个实施方式的基站的烘干机构的内部结构示意本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表面清洁设备，其特征在于，包括：手柄；开关机操作机构和/或功率调节操作机构，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构设置于所述手柄，并能够被用户触发；以及给水操作机构，所述给水操作机构设置于所述手柄，并使得所述给水操作机构与开关机操作机构和/或功率调节操作机构之间的间隔距离大于预设值。2.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：自清洁操作机构，所述自清洁操作机构设置于所述手柄，并使得所述自清洁操作机构与开关机操作机构和/或功率调节操作机构之间的间隔距离大于预设值。3.如权利要求1或2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述手柄包括：握持部，当使用者操作所述手柄时，使用者握持该握持部。4.如权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构位于所述握持部的一端，所述给水操作机构和/或自清洁操作机构位于所述握持部的另一端。5.如权利要求3所述的表面清洁设备，其特征在于，所述手柄还包括：杆部，当所述杆部处于竖直状态时，所述握持部的上端连接于所述杆部的上端，以此使得所述杆部与握持部的连接处形成所述手柄的顶端。6.如权利要求5所述的表面清洁设备，其特征在于，所述给水操作机构和/或自清洁操作机构设置于所述手柄的顶端或者手柄的顶端附近。7.如权利要求6所述的表面清洁设备，其特征在于，所述开关机操作机构和/或功率调节操作机构设置于所述握持部的下端，并使得使用者握持开关机操作机构和/或功率调节操作机构与给水操作机构和/或自清洁操作机构之间的部分。8.如权利要求7所述的表面清洁设备，其特征在于，所述开关机操作机构、功率调节操作机构、给水...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐晓龙，曹传源，唐成，段飞，钟亮，
申请(专利权)人：北京顺造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：