清洁头及湿式表面清洁设备制造技术

本公开提供一种清洁头，其包括：壳体；搅拌件；以及侧面清洁模块；其中，所述侧面清洁模块包括柱状结构，所述柱状结构的外周面形成有槽结构，该槽结构的至少部分沿所述柱状结构的轴向方向延伸，并且所述槽结构的至少部分沿所述柱状结构的周向方向延伸；所述连接组件包括盖结构，所述盖结构包括正面、与所述正面相对的反面以及从所述反面向下延伸的延伸部；所述延伸部包括锁定结构，所述锁定结构用于与所述槽结构配合，从而防止盖结构与所述柱状结构分离；其中，当所述盖结构的锁定结构与所述槽结构配合时，所述盖结构还用于与所述壳体配合。本公开还提供一种湿式表面清洁设备。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种清洁头及湿式表面清洁设备。

技术介绍

1、现有的地面清洁器以能够完全润湿待清洁的地板的方式以高流量的清洁液对地板实施清洁。通过使坚硬的地板面湿润，清洗头将尘埃从地板转移到清洁液中，之后，该清洁液从坚硬的地板面被除去，并且作为被污染的清洁液而被保持在回收存储部内。

2、湿式表面清洁器通常具备：容纳清洁溶液的清洁液存储部；回收从被清洗的地板回收的污染物的回收存储部；马达驱动的真空源，以形成从被清洗地板到回收存储部的抽真空流道；可再充电电池，为各部件提供能量；基站，用于湿式表面清洁器的充电和清洁后维护。

3、但是湿式表面清洁器在使用时，由于其清洁部位于整个湿式表面清洁器的前方，在一些使用场合，例如清理墙角等位置时，无论湿式表面清洁设备从哪个方向靠近墙壁，总存在部分区域无法被清洁。

4、为解决上述技术问题，中国专利技术专利公开文件cn117064284a公开了一种侧面清洁组件，并通过该侧面清洁组件实现对靠近墙壁等位置处的清扫。

5、但是该中国专利技术专利公开文件cn117064284a所记载的设备在使用本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁头，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的清洁头，其特征在于，所述锁定结构包括从所述延伸部的内表面向内延伸的凸起部。

3.根据权利要求1所述的清洁头，其特征在于，所述槽结构包括第一凹槽和第二凹槽，其中，所述第一凹槽被构造为沿所述柱状结构的轴向方向延伸，所述第二凹槽被构造为沿所述柱状结构的周向方向延伸。

4.根据权利要求3所述的清洁头，其特征在于，所述柱状结构包括上端和下端，沿从柱状结构的上端至柱状结构的下端观察，所述第二凹槽被构造为沿第一方向延伸。

5.根据权利要求4所述的清洁头，其特征在于，所述第二凹槽包括与第一凹槽贯通...

【技术特征摘要】

1.一种清洁头，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的清洁头，其特征在于，所述锁定结构包括从所述延伸部的内表面向内延伸的凸起部。

3.根据权利要求1所述的清洁头，其特征在于，所述槽结构包括第一凹槽和第二凹槽，其中，所述第一凹槽被构造为沿所述柱状结构的轴向方向延伸，所述第二凹槽被构造为沿所述柱状结构的周向方向延伸。

4.根据权利要求3所述的清洁头，其特征在于，所述柱状结构包括上端和下端，沿从柱状结构的上端至柱状结构的下端观察，所述第二凹槽被构造为沿第一方向延伸。

5.根据权利要求4所述的清洁头，其特征在于，所述第二凹槽包括与第一凹槽贯通连接的起始端以及与所述起始端相对的终止端，所述起始端与所述终止端间隔设置。

6.根据权利要求3所述的清洁头，其特征在于，所述壳体包括互锁组件，当所述柱状结构和所述盖结构结合时，所述互锁组件用于防止盖结构相对于柱状结构转动，以防止柱状结构与盖结构分离。

7.根据权利要求6所述的清洁头，其特征在于，当所述柱状结构和所述盖结构结合时，所述互锁组件位于所述盖结构的延伸部的外侧。

8.根据权利要求6所述的清洁头，其特征在于，所述互锁组件包括从所述壳体向上延伸的至少一组锁止件，所述锁止件包括固定部和从固定部延伸的自由部；沿从上至下的方向观察，所述固定部和所述自由部沿第一方向依次排布。

9.根据权利要求8所述的清洁头，其特征在于，所述自由部包括弹性条，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏程，周道煌，谢明健，唐成，
申请(专利权)人：北京顺造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：