干燥单元及包括干燥单元的基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种干燥单元及包括干燥单元的干燥腔及基板处理装置。基板处理装置可包括：包括能够对基板执行所需工程的至少一个工程腔的处理模块、能够将所述基板从外部移送到所述处理模块内的转位模块、以及能够从所述至少一个工程腔去除水分或不必要的气体的干燥单元。所述干燥单元能够从新安装在所述至少一个工程腔内的构成要素去除所述水分或所述不必要的气体。必要的气体。必要的气体。

【技术实现步骤摘要】
干燥单元及包括干燥单元的基板处理装置
[0001]本申请要求于2020年12月16日向韩国特许厅申请的韩国专利技术申请第10
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2020
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0176535号的优先权。


[0002]本专利技术的例示性实施例涉及干燥单元及包括干燥单元的基板处理装置。更具体来讲，本专利技术的例示性实施例涉及能够从工程腔有效去除水分、不必要的气体的干燥单元及包括这种干燥单元的基板处理装置。

技术介绍

[0003]通常集成电路装置或显示装置可采用能够包括沉积腔、溅射腔、蚀刻腔、清洗腔、干燥腔等多种工程腔的基板处理装置制成。为了制造所述集成电路装置或所述显示装置，可在将所述工程腔内部保持真空状态的同时对配置在所述工程腔内的基板执行所要求的工程。
[0004]设置于所述工程腔内的构成要素在执行制造所述集成电路装置、所述显示装置的各种工程期间可发生损伤或磨损，因此周期性或必要情况下更换。可在新安装到所述工程腔内的部件在暴露于含大气的外部环境的状态下导入至所述工程腔内。然而，在所述工程腔内对所述基板进行各种工程期间可能从新安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种干燥单元，其用于从工程腔去除水分或不必要的气体，其特征在于，包括：发光的至少一个光源；以及控制部件，向所述至少一个光源供电，控制所述至少一个光源。2.根据权利要求1所述的干燥单元，其特征在于：所述工程腔包括蚀刻腔、沉积腔、溅射腔、涂布腔、显影腔、清洗腔、或干燥腔。3.根据权利要求2所述的干燥单元，其特征在于：所述干燥单元从新安装在所述工程腔内的构成要素去除所述水分或所述不必要的气体。4.根据权利要求2所述的干燥单元，其特征在于：所述干燥单元具有与装载在所述工程腔内的基板的形状及尺寸相同的形状及相同的尺寸。5.根据权利要求4所述的干燥单元，其特征在于：所述干燥单元通过将所述基板装载到所述工程腔内、从所述工程腔卸载的移送部件装载到所述工程腔内、从所述工程腔卸载。6.根据权利要求1所述的干燥单元，其特征在于：所述至少一个光源包括透明容器及填充在所述透明容器内的重氢。7.根据权利要求6所述的干燥单元，其特征在于：所述透明容器包括选自石英、透光性氧化铝及透光性锆钛酸铅镧的透明陶瓷。8.根据权利要求6所述的干燥单元，其特征在于：所述至少一个光源放出具有100nm至400nm波长范围的紫外光。9.根据权利要求1所述的干燥单元，其特征在于：所述控制部件附着于所述至少一个光源的下部，包括向所述至少一个光源供电的电池要素及控制所述至少一个光源的控制电路。10.根据权利要求1所述的干燥单元，其特征在于：所述至少一个光源包括第一光源及第二光源，所述控制部件配置在所述第一光源与所述第二光源之间。11.根据权利要求10所述的干燥单元，其特征在于：所述控制部件包括向所述第一光源与所述第二光源分别...

【专利技术属性】
技术研发人员：金多贤，李学俊，咸龙炫，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：