一种双工位同轴光光源及检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种双工位同轴光光源及检测装置，双工位同轴光光源包括半透半反单元和遮光装置；半透半反单元沿第一方向的两侧分别设置有发光单元与第一检测工位；半透半反单元沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位与第二检测工位；第一方向与第二方向垂直；当第一检测工位设置有工件时，遮光装置阻挡半透半反单元至第二检测工位之间的光路；当第二检测工位设置有工件时，遮光装置阻挡半透半反单元至第一检测工位之间的光路。当工件的位置发生变化时，仅需切换遮光装置的遮挡位置即可完成检测位置的切换，降低了操作的繁琐性，提高了双工位同轴光光源及检测装置的灵活性。了双工位同轴光光源及检测装置的灵活性。了双工位同轴光光源及检测装置的灵活性。

【技术实现步骤摘要】
一种双工位同轴光光源及检测装置


[0001]本技术涉及机器视觉
，尤其涉及一种双工位同轴光光源及检测装置。

技术介绍

[0002]机器视觉中的光源结构包括：背光源、同轴光、非同轴漫反射光、偏正光等多种类型。
[0003]目前，常用的对工件02表面进行检测的同轴光源检测结构如图1所示，其经准直后的平行准直光束以45
°
入射半透半反镜01，一部分光折转90
°
后正入射待测的工件02，由工件02反射的携带有工件02表面信息的光再次到达半透半反镜01，透射进入上方的镜头与相机03中，完成对工件02表面的测量。
[0004]该种同轴光源检测结构存在以下缺点：当同轴光源检测结构的工件02的检测位置变化时，例如，如图2所示，当工件02位于右侧时，需要将同轴光源检测结构的各个部件对应地绕中心旋转90度，对于同轴光源检测结构而言，相当于各个部件都需要重新定位并校正误差，导致同轴光源检测结构切换检测位置时过于繁琐，灵活性低。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种双工位同轴光光源及检测装置，来解决目前同轴光源检测结构切换检测位置时过于繁琐的问题。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种双工位同轴光光源，包括半透半反单元和遮光装置；
[0008]所述半透半反单元沿第一方向的两侧分别设置有发光单元与第一检测工位；
[0009]所述半透半反单元沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位与第二检测工位；所述第一方向与所述第二方向垂直；
[0010]当所述第一检测工位设置有工件时，所述遮光装置阻挡所述半透半反单元至所述第二检测工位之间的光路；
[0011]当所述第二检测工位设置有工件时，所述遮光装置阻挡所述半透半反单元至所述第一检测工位之间的光路。
[0012]可选地，还包括光源底座，所述光源底座内开设有安装槽，所述发光单元设置于所述安装槽的槽底；
[0013]所述安装槽的槽口与所述第一检测工位相对设置；
[0014]所述安装槽的槽壁上还开设有避让口和相机观察口，所述避让口与所述第二检测工位相对设置，所述相机观察口与所述相机安装位相对设置。
[0015]可选地，所述遮光装置包括吸光挡板，所述吸光挡板与所述光源底座转动连接；
[0016]当所述第一检测工位设置有工件时，所述吸光挡板封堵所述避让口；
[0017]当所述第二检测工位设置有工件时，所述吸光挡板封堵所述槽口。
[0018]可选地，所述吸光挡板的两侧表面均涂覆有黑色吸光涂层。
[0019]可选地，所述遮光装置还包括转轴，所述转轴穿过所述安装槽的两侧槽壁，且所述转轴的两端分别连接有旋钮；
[0020]所述吸光挡板与所述转轴固定连接。
[0021]可选地，所述槽口的边沿开设有定位槽；
[0022]当所述第二检测工位设置有工件时，所述吸光挡板与所述定位槽的槽底抵接。
[0023]可选地，所述发光单元与所述半透半反单元之间设置有扩散板。
[0024]一种检测装置，包括如上所述的双工位同轴光光源。
[0025]与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：
[0026]本技术提供的双工位同轴光光源及检测装置，包括两种工况，一是当第一检测工位设置有工件时，通过遮光装置阻挡半透半反单元至第二检测工位之间的光路；此时，发光单元发出的光线沿第一方向穿过半透半反单元，将光线投射于工件上，光线经工件反射后抵达半透半反单元，经过半透半反单元的反射抵达相机安装位上的相机，从而完成对工件表面信息的获取；二是当第二检测工位设置有工件时，通过遮光装置阻挡半透半反单元至第一检测工位之间的光路；此时，发光单元发出的光线沿第一方向抵达半透半反单元，在半透半反单元的反射作用下，沿第二方向投射于工件，光线经工件反射后穿过半透半反单元抵达相机，从而完成对工件表面信息的获取；当工件的位置发生变化时，仅需切换遮光装置的遮挡位置即可完成检测位置的切换，降低了操作的繁琐性，提高了双工位同轴光光源及检测装置的灵活性。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0028]本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。
[0029]图1为
技术介绍
中的同轴光源检测结构的第一状态结构示意图；
[0030]图2为
技术介绍
中的同轴光源检测结构的第二状态结构示意图；
[0031]图3为本技术实施例提供的双工位同轴光光源的第一状态结构示意图；
[0032]图4为本技术实施例提供的双工位同轴光光源的第二状态结构示意图；
[0033]图5为本技术实施例提供的双工位同轴光光源的整体剖面结构示意图。
[0034]图示说明：01、半透半反镜；02、工件；03、相机；
[0035]10、半透半反单元；20、发光单元；31、第一检测工位；32、第二检测工位；40、遮光装置；41、吸光挡板；42、转轴；43、旋钮；50、光源底座；51、安装槽；52、槽口；53、避让口；54、相机观察口；55、定位槽；60、相机安装位；70、扩散板。
具体实施方式
[0036]为使得本技术的技术目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而非全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0037]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。需要说明的是，当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。
[0038]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0039]请参考图3至图5，图3为本技术实施例提供的双工位同轴光光源的第一状态结构示意图，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双工位同轴光光源，其特征在于，包括半透半反单元(10)和遮光装置(40)；所述半透半反单元(10)沿第一方向的两侧分别设置有发光单元(20)与第一检测工位(31)；所述半透半反单元(10)沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位(60)与第二检测工位(32)；所述第一方向与所述第二方向垂直；当所述第一检测工位(31)设置有工件(02)时，所述遮光装置(40)阻挡所述半透半反单元(10)至所述第二检测工位(32)之间的光路；当所述第二检测工位(32)设置有工件(02)时，所述遮光装置(40)阻挡所述半透半反单元(10)至所述第一检测工位(31)之间的光路。2.根据权利要求1所述的双工位同轴光光源，其特征在于，还包括光源底座(50)，所述光源底座(50)内开设有安装槽(51)，所述发光单元(20)设置于所述安装槽(51)的槽底；所述安装槽(51)的槽口(52)与所述第一检测工位(31)相对设置；所述安装槽(51)的槽壁上还开设有避让口(53)和相机观察口(54)，所述避让口(53)与所述第二检测工位(32)相对设置，所述相机观察口(54)与所述相机安装位(60)相对设置。3.根据权利要求2所述的双工位同轴光光源，其特征在于，所述遮光装置(...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟超，
申请(专利权)人：广东奥普特科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：