管件制造技术

本发明专利技术公开了一种管件。所述管件包括：第一管体，所述第一管体的一端设有第一连接端；第二管体，所述第二管体的一端设有第二连接端，所述第一连接端与所述第二连接端螺纹连接；第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，所述第一密封件的内径与所述第一管体的内径、所述第二管体的内径均相等；第二密封件，所述第二密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，且所述第二密封件套设于所述第一管体。第一密封件能够防止气体泄漏，同时防止外界灰尘进入管体的内部，第二密封件用于防止从第一密封件处进入第一管体与第二管体之间的气体泄漏到管件的外部，从而进一步提高管件的密封性。从而进一步提高管件的密封性。从而进一步提高管件的密封性。

【技术实现步骤摘要】
管件


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种管件。

技术介绍

[0002]本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
[0003]真空系统是半导体制造设备的一个重要部分，真空系统的管件大多通过密封结构进行密封，现有的密封结构对管件的密封效果较差，且容易阻碍气体的流速。

技术实现思路

[0004]本专利技术的提出了一种管件，用于真空设备，所述管件包括：
[0005]第一管体，所述第一管体的一端设有第一连接端；
[0006]第二管体，所述第二管体的一端设有第二连接端，所述第一连接端与所述第二连接端螺纹连接；
[0007]第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，所述第一密封件的内径与所述第一管体的内径、所述第二管体的内径均相等；
[0008]第二密封件，所述第二密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，且所述第二密封件套设于所述第一管体。
附图说明
[0009]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。在附图中：
[0010]图1示意性地示出了根据本专利技术实施方式的管件的结构示意图。
[0011]附图标记如下：
[0012]100：管件；
[0013]10：第一管体、11：第一连接端、111：连接件、1111：内螺纹、112：第一连接管体、113：环形凹槽；
[0014]20：第二管体、21：第二连接端、211：第二连接管体、2111：外螺纹、212：环形凸台；
[0015]30：第一密封件；
[0016]40：第二密封件。
具体实施方式
[0017]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0018]应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”、“含有”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、步骤、操作、元件、部件、和/或它们的组合。文中描述的方法步骤、过程、以及操作不解释为必须要求它们以所描述或说明的特定顺序执行，除非明确指出执行顺序。还应当理解，可以使用另外或者替代的步骤。
[0019]尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段，但是，这些元件、部件、区域、层和/或部段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出，否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部段在不脱离示例实施方式的教导的情况下可以被称作第二元件、部件、区域、层或部段。
[0020]为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“内部”、“外部”、“内侧”、“外侧”、“下面”、“下方”、“上面”、“上方”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中装置的不同方位。例如，如果在图中的装置翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在
……
下方”可以包括在上和在下的方位。装置可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。
[0021]如图1所示，根据本专利技术的实施方式，本专利技术提出了一种管件100，用于真空设备，管件100包括：第一管体10、第二管体20、第一密封件30和第二密封件40，具体地，第一管体10的一端设有第一连接端11，第二管体20的一端设有第二连接端21，第一连接端11与第二连接端21螺纹连接，第一密封件30设置在第一连接端11与第二连接端21之间，第一密封件30的内径与第一管体10的内径、第二管体20的内径均相等，第二密封件40设置在第一连接端11与第二连接端21之间，且第二密封件40套设于第一管体10。
[0022]根据本专利技术的实施例，在第一管体10与第二管体20的连接处设置第一密封件30，第一密封件30能够防止气体泄漏，同时防止外界灰尘进入管体100的内部，第一密封件30的内径与第一管体10的内径、第二管体20的内径均相等，当气体在管件100的内部流动时，气体从第一密封件30处流过且气体中夹杂的粉末不会在第一密封件30处堆积，从而避免粉尘在密封件30处堆积，使第一密封件30处的内径越来越小，进而提高气体流动的阻力，降低气体流动速率。另外，在第一管体10与第二管体20之间还设有第二密封件40，第二密封件40用于防止从第一密封件30处进入第一管体10与第二管体20之间的气体泄漏到管件100的外部，从而进一步提高管件200的密封性。
[0023]在本专利技术的一些实施例中，第一连接端11包括连接件111和与第一管体10一体成型的第一连接管体112，第一连接管体112与第一管体10同轴设置且两者的内径相等，连接件111环绕第一连接管体112以设有环形凹槽113，其中，连接件111的长度大于第一连接管体112的长度，以便于在连接件111上设置螺纹。第二连接端21包括与第二管体20一体成型
的第二连接管体211和设置在第二连接管体211上的环形凸台212，第二连接管体211与第二管体20同轴设置且其两者的内径相等，以避免气体从第二连接管体211、第二管体20处流动时，两者的连接处对气体形成阻碍作用，影响气体流动。第一连接管体112、第二连接管体211与第一密封件30的内径均相等，第一密封件30与第一连接管体112、第二连接管体211同轴设置，第一密封件30的两端面分别与第一连接管体112、第二连接管体211紧密接触。第二连接管体211与连接件111螺纹连接，从而保证第一管体10与第二管体20之间连接的牢靠性，同时保证第一密封件30在第二连接管体211与第一连接管体112之间呈压缩状，防止气体从第一密封件30处泄漏。
[0024]进一步地，环形凸台212设置在连接件211靠近第一连接管体112的一端，环形凸台212与环形凹槽113相适配。环形凸台212的顶端与环形凹槽113的底端之间设有第二密封件40，第二密封件40本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种管件，用于真空设备，其特征在于，所述管件包括：第一管体，所述第一管体的一端设有第一连接端；第二管体，所述第二管体的一端设有第二连接端，所述第一连接端与所述第二连接端螺纹连接；第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，所述第一密封件的内径与所述第一管体的内径、所述第二管体的内径均相等；第二密封件，所述第二密封件设置在所述第一连接端与所述第二连接端之间，且所述第二密封件套设于所述第一管体。2.根据权利要求1所述的管件，其特征在于，所述第一连接端包括连接件和与所述第一管体同轴连接的第一连接管体，所述第一连接管体的内径与所述第一管体的内径相等，所述连接件环绕所述第一连接管体以设有环形凹槽；所述第二连接端包括与所述第二管体同轴连接的第二连接管体和设置在所述第二连接管体上的环形凸台，所述第二连接管体的内径与所述第二管体的内径相等，所述第二连接管体与所述连接件螺纹连接，所述第一管体与所述第二连接管体之间设有所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李殷廷，刘金彪，刘青，王垚，张琦辉，李琳，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：