一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，包括蒸镀机腔体和位于蒸镀机腔体内的四个镀锅；蒸镀机腔体的顶部下方设置有可在水平面旋转的转盘；转盘在周向上平均间隔且沿着远离转盘中心的方向延伸出四个从动轮；四个镀锅斜倒扣在从动轮下方，每个从动轮在转盘的转动下带动各自的镀锅进行自转，四个镀锅在自转的同时随着转盘同步公转；每个镀锅上均放置有若干产品片。本实用新型专利技术通过合理利用和规划蒸镀机的腔体空间，将现有在蒸镀机腔体内倒扣进行蒸镀的三个镀锅改造成倒扣四个镀锅的形式，增加了产品片的整体数量，再结合四个镀锅的公转和自转，从而提高蒸镀机机台单次进行蒸镀的产品片产能，减少了蒸镀源的耗用量。减少了蒸镀源的耗用量。减少了蒸镀源的耗用量。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构


[0001]本技术涉及半导体蒸镀
，特别涉及一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构。

技术介绍

[0002]真空蒸镀机是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至产品片表面凝聚成膜的工艺方法。而产品片则是放在行星轨道的镀锅上，随着镀锅的自转和镀锅在蒸镀机腔体带动旋转下的公转，从而达到均匀膜厚的目的。
[0003]目前市场上常见的真空镀膜机，多为三个镀锅形式，载片量较少(例如99片机)。随着LED等半导体行业对蒸镀的膜层要求越来越高，蒸镀工艺复杂程度也随之提升，所以蒸镀时长也普遍较长。如果能增加单次蒸镀的产能，那无疑是对降低生产成本有着较大的优势。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是：提供一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，有效提高单次蒸镀的产品片产能，减少蒸镀源耗用量。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：
[0006]一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，包括蒸镀机腔体和位于所述蒸镀机腔体内的四个镀锅；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，其特征在于，包括蒸镀机腔体和位于所述蒸镀机腔体内的四个镀锅；所述蒸镀机腔体的顶部下方设置有可在水平面旋转的转盘；所述转盘在周向上平均间隔且沿着远离所述转盘中心的方向延伸出四个从动轮；四个所述镀锅斜倒扣在所述从动轮下方，每个所述从动轮在所述转盘的转动下带动各自的所述镀锅进行自转，四个所述镀锅在自转的同时随着所述转盘同步公转；每个所述镀锅上均放置有若干产品片。2.根据权利要求1所述的一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，其特征在于，所述蒸镀机腔体的顶部在水平面上的投影形状为圆形且直径为1300mm；每个所述镀锅的直径为610mm。3.根据权利要求1所述的一种蒸镀机及其腔体内的镀锅结构，其特征在于，每个所述镀锅朝向所述转盘的中心倾斜倒扣；所述镀锅所在的平面与水平...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文浩，李刚，林武，
申请(专利权)人：福建兆元光电有限公司，
类型：新型
国别省市：