一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置，包括传送带；其特征在于：还包括EUV辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元；所述EUV辐射源产生单元包括反光杯和激光器；在传送带的带体上设置有通光孔，在通光孔内设置有激光晶体，在激光晶体上部设置有涂层，在涂层上设置有多个微米孔，在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料；所述清洗单元包括碎片清洗腔和蒸汽喷头；所述燃料注入单元包括燃料注入腔和高压喷嘴；在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源，在燃料注入腔后部设置有第二机械臂。本实用新型专利技术有效实现了装置的连续运行，保证了燃料加注的可靠，提高了装置的产生效率，同时达到提高光刻精度的目的。的目的。的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置


[0001]本技术属于光刻机辅助装置
，具体涉及一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置。

技术介绍

[0002]极紫外光刻（Extreme Ultra
‑
violet），常称作EUV光刻，它是以波长为10
‑
14纳米的极紫外光作为辐射源的光刻技术，现阶段通用的波长为13.4nm。在现有的光刻机中，目前最先进的光刻机已经达到3nm级别水平，1nm级别的NA EUV光刻机的设计方案也已经完成；而制造高端光刻机的难点中的难点是EUV光的制造与收集，但现有的国产光刻机中，缺乏EUV极紫外光的制造技术。
[0003]光致发光（Photoluminescence，简称PL）是冷发光的一种，指物质吸收光子（或电磁波）后重新辐射出光子（或电磁波）的过程。
[0004]专利号为ZL 202120462649.0的技术公开了一种用于光刻机的EUV光源发生器结构，其包括传送带，在传送带上设置有多组EUV光源发生器，在传送带下部设置有激光器；所述EUV光源发生器包括带体，在带本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置，包括传送带；其特征在于：还包括EUV辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元；所述EUV辐射源产生单元包括套设在传送带上的反光杯和设置在反光杯下方的激光器；所述反光杯的下部设置有弧形的封口，在封口上设有与激光器相配合的激光发射孔；在传送带的带体上设置有通光孔，在通光孔内设置有激光晶体，在激光晶体上部设置有涂层，在涂层上设置有多个微米孔，在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料；所述激光器设置有可识别颜色的探头；所述清洗单元包括套设在传送带上的碎片清洗腔，在碎片清洗腔内部的传送带设置有回环；在清洗腔内设置有蒸汽喷头，所述蒸汽喷头与圆环顶部的激光晶体相对应；所述燃料注入单元包括燃料注入腔，在燃料注入腔内设置有高压喷嘴，所述高压喷嘴与燃料储液罐相连通并与微米孔相对应；在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源，所述第一机械臂用于将感光挡片移设在激光晶体上，所述辅助光源用于向激光晶体发射光束以击穿感光挡片；在燃料注入腔后部设置有第二机械臂，所述第二机械臂用于将感光挡片移除。2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置，其特征在于：所述反光杯内部涂有反射涂层。3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置，其特征在于：所述燃料为金属锡。4.根据权利要求2所述的一种用于光刻机的EUV辐...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玥，
申请(专利权)人：张玥，
类型：新型
国别省市：