提供诊断癌症患者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法技术

本发明专利技术涉及从癌症患者鉴定对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官的方法及使用该癌类器官的方法。类器官的方法。类器官的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】提供诊断癌症患者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法


[0001]本专利技术涉及提供诊断癌症受试者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法。更具体地，本专利技术涉及通过由从癌症受试者获得的癌症组织培养癌类器官以选择对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官，从而提供诊断对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法。

技术介绍

[0002]类器官(organoid)也称为“器官类似物”或“类器官(organ
‑
like)”，是通过3D培养方法从干细胞或器官起源细胞中分离出来的细胞重新聚集和重组而产生的器官特异性细胞聚集体。类器官包括模型器官的特异性细胞，再现器官的特定功能，并且可以以类似于实际器官的形式在空间上进行组织。据报道，患者来源的肿瘤类器官代表患者的癌细胞和组织的特征，因为它们可以再现患者的癌症组织的遗传变异特征。
[0003]类器官可用于细胞治疗、生物组织工程、新药开发、毒理学和精准医学等领域。需要大量可比较的定量类器官及其分析方法来提高类器官的利用率。然而，迄今为止还没有定量培养类器官的方法。其原因在于，作为最重要的类器官生长元素的基底胶在底部固化成圆顶状后，类器官就会在其中生长，从而使类器官单独生长。
[0004]此外，由于在基底胶中如此生长的类器官可以在3D支架中重叠的同时生长，因此限制是明确的。
[0005]此外，最近，已经开发出结合更稳定和生理患者来源的类器官的高通量筛选技术，用于早期药物发现程序和毒性筛查。
[0006]韩国专利第10
‑
1756901号(专利文献1)公开了一种能够培养3D组织细胞的细胞培养芯片。在专利文献1的细胞培养芯片中，第1培养部、第2培养部和第3培养部在各层中形成，并且能够在各层确认细胞增殖的进展程度。但是，专利文献1的细胞培养芯片存在不能以高收率获得类器官的问题。
[0007]此外，存在在进行细胞培养的过程中更换培养液的移液作业的情况，在能够进行3D细胞培养的Corning球状体微孔板的情况下，细胞培养中的球状体或类器官会受到影响，使得因为存在在移液作业的过程中球状体或类器官会被吸起或位置发生变化的情况，而存在不利于细胞培养环境的问题。
[0008]针对靶向实体癌的现有的药物筛选的细胞，已使用其中大多数患者的细胞已分离并制成球状体形式的简单标本。此类球状体类型无法充分模拟患者的状况，也无法反映可能导致药物抗性的结构和生物学特征。此外，虽然已经开始使用类器官进行筛选，但目前筛选仅限于药物，还没有用于放射治疗的体外平台。迄今为止，尚未开发出针对对药物和放射线具有抗性的癌类器官进行分类的平台模型，也没有开发出可以选择抗性类器官的平台。
[0009]因此，本专利技术人针对对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官进行了持续研究，从而完成了本专利技术。
[0010][相关技术文献][0011][专利文献][0012]1.韩国专利第10
‑
1756901号

技术实现思路

[0013]技术问题
[0014]本专利技术的目的是通过选择对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官，提供诊断癌症受试者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息。
[0015]本专利技术的另一个目的是通过选择对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官，提供筛选药物的方法。
[0016]然而，本专利技术要解决的技术问题不限于上述问题，本领域技术人员可以通过以下描述清楚地理解未提及的其他问题。
[0017]技术方案
[0018]为了实现这些目的，本专利技术提供一种提供诊断癌症受试者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法，所述方法包括：
[0019]从癌症受试者分离癌组织；
[0020]在3D细胞培养板中将所述癌组织培养成癌类器官：
[0021]用抗癌剂和/或放射线处理培养的癌类器官；和
[0022]当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官具有等于或大于用抗癌剂和/或放射线处理之前的癌类器官的生存率时，选择用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官，
[0023]其中，在所述类器官的培养中，所述3D细胞培养板包含0至2体积％的基于胞外基质的水凝胶，以及
[0024]其中，3D细胞培养板包括：
[0025]孔板，所述孔板包括多个主孔和多个子孔(sub well)，所述多个子孔形成在主孔的下部以注入细胞培养液并且包括在其底表面上的凹入部；和支持所述孔板的用于大容量和高速高内涵筛选(HCS)的连接件，并且
[0026]用于高内涵筛选(HCS)的连接件包括配备有固定装置以与所述孔板的下端连接并且从所述孔板的下端分离的底座以及位于所述孔板的上部以连接到所述底座的盖，所述主孔具有形成为在预定位置逐渐变细的台阶，所述台阶相对于主孔的壁具有10
°
至60
°
的倾斜角(θ)。
[0027]癌症受试者可以是哺乳动物，并且优选地是人。
[0028]“对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官”指即使用抗癌剂和/或放射线处理也难以杀死的类器官，并且包括：i)对抗癌剂具有抗性的癌类器官，ii)对放射线具有抗性的癌类器官，和iii)对抗癌剂和放射线都具有抗性的癌类器官。
[0029]在选择用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官中，“当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官具有等于或大于用抗癌剂和/或放射线处理之前的癌类器官的生存率时”是指用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官具有与用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官相同的生存率或不低于用抗癌剂和/或放射线
处理前的类器官的生存率的情况。具体而言，是指用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官的生存率为用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官的生存率的100％至70％的情况。可替代地，它指的是用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官的大小与用抗癌剂和/或放射线处理之前的类器官的大小相比没有减少30％至60％或更多。癌类器官的大小显著减小，意味着有抗癌治疗作用，但是也意味着，如果大小不显著减小，癌类器官就有药物抗性。
[0030]在选择用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官中，根据抗癌剂的浓度和放射线照射的程度，当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官的大小与用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官的大小相比没有减少30％至60％或更多时，可以选择该癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官。
[0031]本专利技术使用制备标准型癌类器官的方法从癌症受试者的癌组织制备标准型癌类器官。接着，当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官与用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官相比大小不减小时，选择该癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官。并且，将作为以这种方式选择的对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官的主要人物的癌症受试者选择为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的受试者。
[0032]具体地，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种提供诊断癌症受试者对抗癌剂和/或放射线的抗性必要的信息的方法，所述方法包括：从癌症受试者分离癌组织；在3D细胞培养板中将所述癌组织培养成癌类器官：用抗癌剂和/或放射线处理培养的癌类器官；和当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官具有等于或大于用抗癌剂和/或放射线处理之前的癌类器官的生存率时，选择所述用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官，其中，在所述类器官的培养中，所述3D细胞培养板包含0至2体积％的基于胞外基质的水凝胶，以及其中，所述3D细胞培养板包括：孔板，所述孔板包括多个主孔和多个子孔，所述多个子孔形成在主孔的下部以注入细胞培养液并且包括在其底表面上的凹入部；和支持所述孔板的用于大容量和高速高内涵筛选(HCS)的连接件，并且用于高内涵筛选(HCS)的连接件包括配备有固定装置以与所述孔板的下端连接并且从所述孔板的下端分离的底座以及位于所述孔板的上部以连接到所述底座的盖，所述主孔具有形成为在预定位置逐渐变细的台阶，所述台阶相对于主孔的壁具有10
°
至60
°
的倾斜角(θ)。2.权利要求1所述的方法，其中，在选择所述用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官中，当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官的生存率与用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官的生存率相比为100％至70％时，选择该癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官。3.权利要求1所述的方法，其中，在选择所述用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官中，当用抗癌剂和/或放射线处理的癌类器官的大小与用抗癌剂和/或放射线处理前的类器官的大小相比没有减少30％至60％或更多时，选择该癌类器官作为对抗癌剂和/或放射线具有抗性的癌类器官。4.权利要求1所述的方法，其中，所述基于胞外基质的水凝胶是基底胶。5.权利要求1所述的方法，其中，所述癌类器官的大小是直径为300μm至500μm。6.权利要求1所述的方法，其中，所述癌症是结肠直肠癌、肺癌、胃癌、皮肤癌、前列腺癌、乳腺癌、宫颈癌、甲状腺癌、纤维肉瘤、子宫肉瘤或血液学癌症。7.权利要求1所述的方法，其中，所述抗癌剂是选自由细胞毒性抗癌剂、免疫抗癌剂、靶向抗癌治疗剂、代谢性抗癌剂和新型抗癌治疗剂组成的组中的一种或多种抗癌剂。8.权利要求1所述的方法，其中，所述子孔具有形成为朝向所述凹入部逐渐变细的倾斜表面，所述子孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑锡，梁智勋，崔东熙，丁庸勋，
申请(专利权)人：株式会社下一代生物，
类型：发明
国别省市：