使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法技术

本发明专利技术涉及一种使用激光清洗机对掩模框架进行表面处理的方法。因此，其技术要点是使用激光清洗机来去除表面处理对象掩膜框架的表面污染物、异物以及杂质的方法，其特征在于，与现有技术相比从源头上排除了使用药品，从而显著改善工作环境和后处理工艺，由于在进行表面处理工作时通过自动化工艺完成，不仅大大缩短工作时间，而且节省劳动力并防止安全事故的发生，从而在降低成本的同时大大改善安全性和生产率，尤其是掩模框架本身的质量大幅提高，从而可以确保高质量的最终产品。从而可以确保高质量的最终产品。从而可以确保高质量的最终产品。

【技术实现步骤摘要】
使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法


[0001]本专利技术涉及一种使用激光清洗机来去除表面处理对象掩膜框架的表面 污染物、异物以及杂质的方法，该方法与现有技术相比从源头上排除了使 用药品(化学化工)，从而显著改善工作环境(确保无害环境)和后处理 工艺(省略了化学药品的后处理工艺和设备线)，由于在进行表面处理工 作时通过自动化工艺完成，不仅大大缩短工作时间，而且节省劳动力并防 止安全事故的发生(不使用化学药品)，从而在降低成本的同时大大改善 安全性和生产率，尤其是掩模框架本身的质量大幅提高(可以去除表面污 染物而不会造成金属材料的损伤和变形)，从而可以确保高质量的最终产 品(显示面板等)。

技术介绍

[0002]一般来说，掩膜框架是指在制作有机发光二级显示装置(organic lightemitting diode display)时，将有机发光层或金属电极在绝缘基板上蒸镀的 过程中，为了支撑蒸镀掩膜的外围而准备的四角框。
[0003]此时，根据客户的要求，上述蒸镀掩膜形成为按照设计好的显示面板 (有机发光显示装置)的规格图案化，以使蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法，其通过使用具有设定配置的激光清洗机来去除掩模框架(10)的表面污染物、异物和杂质，其特征在于，所述激光清洗机设置为控制脉冲(波长)的最高峰值位于损伤阈值和消融阈值之间的区间，从而形成平坦形态的平顶区间，所述平顶区间形成为使多个最高峰点随着非常狭窄间隔的脉冲(波长)周期反复连接，从而形成一条线或一个面积形态的峰值能量来维持的同时确保光束均质化，以使对表面处理对象掩膜框架照射激光时，仅将表面污染物以及异物、杂质气化并蒸发后去除，而不会导致金属表面损伤和热变形。2.根据权利要求1所述的使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法，其特征在于，所述激光清洗机的配置为：激光类型为Nd
‑
YAG
‑
Laser，激光功率为最小130W至最大150W，激光波长为1064
±
4nm，激光束的温度为400至800℃，激光脉冲频率为12至40kHz，最大脉冲能量为14mJ，最小脉冲宽度为80ns，工作环境的温度为10至38℃，湿度为10至95％。3.根据权利要求1所述的使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法，其特征在于，所述激光清洗机设置为从激光振荡器(247)振荡，并在所述激光振荡器(247)的一侧，设置有与真空设备(250)连接的抽吸管(260)，以立即吸入和回收在掩模框架的表面处理时气化的污染物、异物以及杂质。4.根据权利要求1所述的使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法，其特征在于，所述激光清洗机通过安装移送装置(100)和激光加工模块(200)完成三维(X，Y，Z)自动移送清洗。5.根据权利要求4所述的使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法，其特征在于，所述安装移送装置(100)，由装载装配单元(110)和反向器装配单元(120)构成，所述装载装配单元(110)设置为在底架(111)的上表面设置水平平行的多个移送支撑件(112)，并使所...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔宗成，
申请(专利权)人：A成株式会社，
类型：发明
国别省市：