【技术实现步骤摘要】
一种可调慢提拉清洗系统及干燥方法
[0001]本专利技术属于太阳能硅片烘干设备
，尤其是涉及一种可调慢提拉清洗系统及干燥方法。
技术介绍
[0002]硅片清洗完成后需要进行烘干脱水，以去除硅片表面的水液，主要是在慢提拉水槽内进行烘干脱水，通过缓慢地控制片篮放置架，从而带动硅片向上提起，使硅片表面的水膜自然流下，避免硅片烘干后表面有水印形成。而现有慢提拉的片篮放置架均是全程水平设置，导致硅片上升过程中片篮一直处于水平状态，使得片篮离开水槽后，片篮内仍然有水液残留，从而导致硅片表面烘干效果不均匀，仍有水印残留。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种可调慢提拉清洗系统及干燥方法，解决了现有慢提拉上升过程中片篮中有水液残留而导致硅片烘干效果差的技术问题。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：
[0005]一种可调慢提拉清洗系统，在水槽内具有：
[0006]用于放置片篮的承载装置；
[0007]以及用于限定所述承载装置升降位置的限位装置；
[...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调慢提拉清洗系统，其特征在于，在水槽内具有：用于放置片篮的承载装置；以及用于限定所述承载装置升降位置的限位装置；其中，所述承载装置靠近所述片篮一侧的平面被设置为沿所述水槽长度方向任一侧倾斜设置；所述承载装置带动所述片篮倾斜地沿所述水槽高度方向上下移动；所述限位装置使所述承载装置在所述承载装置下限位置和上限位置时使所述承载装置靠近所述片篮一侧的平面水平设置。2.根据权利要求1所述的一种可调慢提拉清洗系统，其特征在于，所述承载装置包括：用于放置片篮的放置架；用于支撑所述放置架并带动所述放置架竖直上下移动的托盘架；以及用于使所述放置架和所述托盘架铰接并使所述放置架沿所述托盘架长度方向倾斜设置的转轴；其中，所述放置架和所述托盘架均沿所述水槽长度方向设置，且所述托盘架水平设置；所述转轴被设置于所述托盘架两端，且位于沿所述放置架宽度方向的任一侧远离所述放置架宽度中心线的位置。3.根据权利要求2所述的一种可调慢提拉清洗系统，其特征在于，所述转轴距离最近的所述放置架长度侧边的距离小于所述放置架宽度的1/2，且大于所述放置架宽度的1/3。4.根据权利要求2或3所述的一种可调慢提拉清洗系统，其特征在于，至少在所述放置架上端面两侧边均设有用于校准所述片篮放置位置的导向条，所述导向条沿所述放置架周缘并朝远离所述放置架一侧斜向上设置。5.根据权利要求4所述的一种可调慢提拉清洗系统，其特征在于，所述放置架还至少包括一个朝远离所述转轴一侧方向延伸的延长块，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：王大伟，武治军，危晨，赵越，李建弘，范俊杰，
申请(专利权)人：天津市环智新能源技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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