一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法技术

本申请涉及半导体材料技术领域，具体公开了一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法。磷化铟清洗用清洗液包括A组分和B组分，所述A组分包括以下重量份的原料：氨水6

【技术实现步骤摘要】
一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法


[0001]本申请涉及半导体材料
，更具体地说，它涉及一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法。

技术介绍

[0002]磷化铟是重要的
Ⅲ‑Ⅴ
族化合物半导体材料之一，是继硅、砷化镓之后的新一代微电子、光电子功能材料，且磷化铟因电子迁移率高、禁带宽度大等特点，被广泛应用于微波及光电器件领域。
[0003]磷化铟表面覆有有机沾污、氧化物等杂质，因此利用磷化铟做半导体材料时，需先将磷化铟表面的氧化物除去，相关技术中通常采用如下方法：先将磷化铟放入乙醇中浸泡，然后放入丙酮中浸泡，用去离子水冲洗或者用小刷子刷洗去除表面黑胶；然后放入醋酸中浸泡去除粘胶；接着用砂纸去除所有痕迹，磨圆材料边，得到粗产品；将得到的粗产品放入由氨水、过氧化氢和去离子水组成的混合溶剂中浸泡，取出后用去离子水冲洗，超声波清洗，然后放入盛甲醇的容器中清洗，取出晾放得到清洗后的磷化铟衬底材料。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人认为利用相关技术中的清洗方法对磷化铟表面的有机沾污去除不彻底，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磷化铟清洗用清洗液，其特征在于：包括A组分和B组分，所述A组分包括以下重量份的原料：氨水6
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14份、双氧水16
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24份、脂肪醇聚乙烯醚1
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9份、羧甲基纤维素1
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9份、水450
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530份；所述B组分包括以下重量份的原料：硫酸6
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14份、双氧水6
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14份、二乙烯三胺五甲叉膦酸1
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9份、水490
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500份。2.根据权利要求1所述的一种磷化铟清洗用清洗液，其特征在于：所述A组分包括以下重量份的原料：氨水9
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11份、双氧水19
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21份、脂肪醇聚乙烯醚4
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6份、羧甲基纤维素4
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6份、水480
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500份；所述B组分包括以下重量份的原料：硫酸9
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11份、双氧水9
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11份、二乙烯三胺五甲叉膦酸4
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6份、水494
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496份。3.根据权利要求1所述的一种磷化铟清洗用清洗液，其特征在于：所述脂肪醇聚氧乙烯醚为仲醇聚氧乙烯醚。4.根据权利要求1所述的一种磷化铟清洗用清洗液，其特征在于：所述二乙烯三胺五甲叉膦酸为改性二乙烯三胺五甲叉膦酸，改性二乙烯三胺五甲叉膦酸由以下步骤制得：A1、将二乙烯三胺五甲叉膦酸冷冻成型，得到成型后的固体；A2、将交联液喷涂在A1中制得的成型后的固体表面，交联液、二乙烯三胺五甲叉膦酸的重量比为（4
‑
6）:100，得到改性后的固体；A3、将A2制得的改性后的固体烘干，脱去水分，并冷却至室温，得到改性二乙烯三胺五甲叉膦酸。5.根据权利要求4所述的一种磷化铟清洗用清洗液，其特征在于：所述交联液为沸石粉改性羧甲基淀粉钠
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聚乙烯醇交联液，沸...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓白鹭，李海淼，
申请(专利权)人：北京通美晶体技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：