蒸镀装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够对蒸镀源的监视装置进行冷却的技术。一种蒸镀装置，具备：蒸镀源，向基板放出蒸镀物质；以及监视部件，监视蒸镀物质从所述蒸镀源的放出状态，其中，所述蒸镀装置具备搭载所述监视部件的台座构件，所述台座构件具有供冷却介质流动的流路。座构件具有供冷却介质流动的流路。座构件具有供冷却介质流动的流路。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及蒸镀装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器等的制造中，使用掩模在基板上蒸镀有机材料、金属材料等蒸镀物质。以蒸镀到基板上的蒸镀物质的膜厚管理等为目的，提出了设置有监视蒸镀物质从蒸镀源的放出状态的监视装置的蒸镀装置(专利文献1及专利文献2)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019－137877号公报
[0006]专利文献2：日本特开2019－99870号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的课题
[0008]监视装置有时会受到蒸镀源的热的影响，监视精度降低。例如，在具备晶体振荡器的监视装置中，利用振动频率根据附着于晶体振荡器的蒸镀物质的量而变化这一点来监视放出状态。晶体振荡器根据其温度变化而振动特性发生变化，振动频率的变化与放出状态的相关关系发生变动。因此，当由于蒸镀源的热而使晶体振荡器的温度上升时，监视精度降本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置，所述蒸镀装置具备：蒸镀源，向基板放出蒸镀物质；以及监视部件，监视蒸镀物质从所述蒸镀源的放出状态，其特征在于，所述蒸镀装置具备搭载所述监视部件的台座构件，所述台座构件具有供冷却介质流动的流路。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，具有壁构件，所述壁构件以介于所述监视部件与所述蒸镀源之间的方式设置于所述台座构件，具有使所述监视部件向所述蒸镀源露出的窗部，所述壁构件具有供所述冷却介质流动的流路。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述台座构件的所述流路与所述壁构件的所述流路在所述台座构件与所述壁构件的连接部分连通。4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述监视部件具备晶体振荡器，所述晶体振荡器配置成使从所述蒸镀源放出的蒸镀物质附着。5.一种成膜装置，所述成膜装置具备：输送基板的输送装置；以及在所述基板上蒸镀蒸镀物质的蒸镀装置，所述成膜装置是一边输送所述基板一边进行蒸镀的直列型的成膜装置，其特征在于，所述蒸镀装置具备：蒸镀源，在与所述基板的输送方向交叉的方向上延伸设置，向所述基板放出蒸镀物质；监视部件，监视蒸镀物质从所述蒸镀源的放出状态；以及台座构件，搭载所述监视部件，所述台座构件具有供冷却介质流动的流路。6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，所述蒸镀装置具有壁构件，所述壁构件以介于所述监视...

【专利技术属性】
技术研发人员：砂川贵宏，佐藤功康，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：