本实用新型专利技术公开了一种工业废气处理装置，其包括柜体，其为中空腔体；固定设置在所述柜体中的至少一个等离子发生装置，所述等离子发生装置包括多组电极片，每组电极片包括正极电极片和两个负极电极片，两个所述负极电极片对称设置且中间设置有间隙，所述正极电极片和两个所述负极电极片呈反向折流设计；设置在所述柜体中的至少一个光催化发生装置；设置在所述柜体内的控制箱，所述控制箱分别与至少一个所述等离子发生装置、至少一个所述光催化发生装置电气连接；分别设置在所述柜体两侧的进气口和出气口。本实用新型专利技术能够有效地实现对有机工业废气进行净化功能。业废气进行净化功能。业废气进行净化功能。
【技术实现步骤摘要】
一种工业废气处理装置
[0001]本技术涉及的是废气处理装置
，具体而言，尤其涉及一种工业废气处理装置。
技术介绍
[0002]工业废气是指企业厂区内燃料燃烧和生产工艺过程中产生的各种排入空气的含有污染物气体的总称。这些废气有：二氧化碳、二硫化碳、硫化氢、氟化物、氮氧化物、氯、氯化氢、一氧化碳、硫酸(雾)铅汞、铍化物、烟尘及生产性粉尘，排入大气，会污染空气。这些物质通过不同的途径呼吸道进入人的体内，有的直接产生危害，有的还有蓄积作用，会更加严重的危害人的健康。从形态上分析，工业废气可以分为颗粒性废气和气态性废气。目前气态性有机废气的处理通常只是单一的采用液体药剂或固定药剂对有毒有害气体进行处理，这样的有机废气处理方式效果不佳。因此，鉴于上述方案于实际制作及实施使用上的缺失之处，而加以修正、改良，同时本着求好的精神及理念，并由专业的知识、经验的辅助，以及在多方巧思、试验后，方创设出本设计，故提供一种工业废气处理装置，用于解决上述问题。
技术实现思路
[0003]本技术的目的之一在于提供一种工业废气处理装置，以便于解决上述问题。
[0004]本技术一种工业废气处理装置可以通过下列技术方案来实现：
[0005]本技术一种工业废气处理装置包括柜体，其为中空腔体；固定设置在所述柜体中的至少一个等离子发生装置，所述等离子发生装置包括多组电极片，每组电极片包括正极电极片和两个负极电极片，两个所述负极电极片对称设置且中间设置有间隙，所述正极电极片和两个所述负极电极片呈反向折流设计；设置在所述柜体中的至少一个光催化发生装置，其设置在至少一个所述等离子发生装置的侧边；设置在所述柜体内的控制箱，所述控制箱分别与至少一个所述等离子发生装置、至少一个所述光催化发生装置电气连接；分别设置在所述柜体两侧的进气口和出气口，所述进气口设置在至少一个所述等离子发生装置的侧边，所述出气口设置在至少一个所述光催化发生装置的侧边。
[0006]在其中一种实施方式中，所述柜体上设置有两个柜门，两个所述柜门对称设置在所述柜体上。
[0007]在其中一种实施方式中，多个显示装置分别设置在相对应的所述柜门上且与所述控制箱电气连接。
[0008]在其中一种实施方式中，两个所述等离子发生装置并列设置在所述柜体中。
[0009]在其中一种实施方式中，所述正极电极片采用的材质为钛合金，所述负极电极片采用的材质为不锈钢。
[0010]在其中一种实施方式中，三个所述光催化发生装置从上到下依次设置在所述柜体中。
[0011]在其中一种实施方式中，所述光催化发生装置包括第一光谱源、反射板和第二光
谱源；所述第一光谱源和所述第二光谱源相对设置；所述反射板设置在所述第一光谱源和所述第二光谱源之间，其上下面都设置有反射面。
[0012]在其中一种实施方式中，所述反射板采用的是石墨烯反射板。
[0013]在其中一种实施方式中，所述进气口和所述出气口上可拆卸安装有过滤网。
[0014]在其中一种实施方式中，所述柜体的下方设置有多个车轮，所述车轮上还设置有刹车装置。
[0015]与现有技术相比，本技术一种工业废气处理装置的有益效果为：
[0016]本技术一种工业废气处理装置通过正极电极板和负极电极片之间的等离子强电场区域，强电场中的带电离子使有机废气因子失去固有体链，从而产生臭氧和极强的自由基，自由基分解断裂有机物炭能键，从而改变有机废气因子结构；再通过光催化发生装置，使得所有不饱和分子链完全氧化，将所含的氢碳键变成水和二氧化碳，使有机废气得到降解净化；正极电极板和负极电极片采用反向折流设计，使得废气在等离子强电场中充分接触，从而一定程度上增强了净化功能。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0018]图1是本技术一种工业废气处理装置的正面结构示意图；
[0019]图2是图1所示本技术一种工业废气处理装置的侧面结构示意图；
[0020]图3是图1所示本技术一种工业废气处理装置的另一侧面结构示意图；
[0021]图4是图1所示本技术一种工业废气处理装置的内部结构示意图。
[0022]图中标示：11，柜体；111，柜门；1111，透视窗；1112，门锁；12，等离子发生装置；121，正极电极片；122，负极电极片；13，光催化发生装置；131，第一光谱源；132，反射板；132，第二光谱源；14，控制箱；141，电极总控箱；142，光催化总控箱；15，进气口；16，出气口；17，支撑座；18，显示装置。
具体实施方式
[0023]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和展示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0024]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前所述提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0027]此外，在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之上或之下可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征之上、上方和上面包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征之下、下方和下面包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0028]此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
[0029]在本技术的描述中，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种工业废气处理装置，其特征在于，包括柜体，其为中空腔体；固定设置在所述柜体中的至少一个等离子发生装置，所述等离子发生装置包括多组电极片，每组电极片包括正极电极片和两个负极电极片，两个所述负极电极片对称设置且中间设置有间隙，所述正极电极片和两个所述负极电极片呈反向折流设计；设置在所述柜体中的至少一个光催化发生装置，其设置在至少一个所述等离子发生装置的侧边；设置在所述柜体内的控制箱，所述控制箱分别与至少一个所述等离子发生装置、至少一个所述光催化发生装置电气连接；分别设置在所述柜体两侧的进气口和出气口，所述进气口设置在至少一个所述等离子发生装置的侧边，所述出气口设置在至少一个所述光催化发生装置的侧边。2.根据权利要求1所述的一种工业废气处理装置，其特征在于，所述柜体上设置有两个柜门，两个所述柜门对称设置在所述柜体上。3.根据权利要求2所述的一种工业废气处理装置，其特征在于，多个显示装置分别设置在相对应的所述柜门上且与所述控制箱电气连接。4.根据权利要求1所述的一种工业废气处理装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：孔念，
申请(专利权)人：深圳市净源达环境工程技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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