低温氧化/氮化处理提高钕铁硼抗蚀性的方法技术

本发明专利技术公开一种低温氧化/氮化处理提高钕铁硼抗蚀性的方法，通过200～400℃的低温氧化/氮化处理，在钕铁硼磁体表面原位生长氧化物、氮化物或氮氧化物薄层，大幅提高磁体的抗蚀性。本方法操作简单，生产成本低，不同于传统电镀和化学镀等方法，是一种绿色、安全、高效的技术方法。根据工艺调整，磁体表面生成的氧化物、氮化物或氮氧化物薄层厚度在10nm～100μm间连续可调，提高磁体抗蚀性的同时可保持优异的磁性能。并且，本方法磁体表面薄层为原位生成，与基体结合力强，长时稳定，可大批量推广应用。用。

【技术实现步骤摘要】
低温氧化/氮化处理提高钕铁硼抗蚀性的方法


[0001]本专利技术涉及腐蚀防护领域，具体涉及低温氧化/氮化处理提高钕铁硼抗蚀性的方法。

技术介绍

[0002]钕铁硼永磁材料具有高矫顽力、高剩磁、高磁能积等优异的综合磁性能，是应用最广泛的稀土永磁材料，已发展成为新能源、轨道交通、电子信息和航天航空等国民经济和国防建设的关键基础材料之一。尽管钕铁硼磁性很强，其极易腐蚀的缺陷严重影响了在海上风电、国防军工等重要领域的应用。已经发现，钕铁硼低抗蚀性的主要原因是晶界富钕相的电极电位太低，优先氧化腐蚀和吸氢粉化，形成晶间腐蚀并导致铁磁性Nd2Fe
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B主相晶粒脱落，最终导致磁体磁性失效。
[0003]为了提高钕铁硼的抗蚀性，过去研究人员主要关注合金成分和表面防护两方面的研究。由于需要保持Nd2Fe
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B主相的晶体结构以保障优异的磁性能，通过调整钕铁硼合金成分提高抗蚀性的作用十分有限。表面防护需要对钕铁硼磁体进行复杂的多次电镀、化学镀或电泳处理等，不仅提高了生产成本，易引起各种环保问题，而且由于钕铁硼基体与镀层结本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.低温氧化/氮化处理提高钕铁硼抗蚀性的方法，其特征在于：通过低温氧化/氮化处理，在钕铁硼磁体表面原位生长氧化物、氮化物或氮氧化物薄层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：在管式炉或气氛炉中，抽真空至10
‑2～10
‑4Pa后，通入气体，气体为O2、N2、NH3或水蒸气中的一种或几种，流量为15～5000ml/min，低温氧化/氮化的温度控制在200～400℃，反应时间控制在0.5～24h。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述氧化物、所述氮化物或所述氮氧化物的薄层厚度在10nm～100μm间连续可调。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述钕铁硼磁体的成分，以原子百分数计，为(RE
a
RE
’1‑
a
)
x

【专利技术属性】
技术研发人员：严密，金佳莹，陈望，吴琛，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：