晶圆掩膜版自动中心系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种晶圆掩膜版自动中心系统，包括底座、X轴顶杆气缸、第一Y轴顶杆气缸、移动板，移动板固定在底座上并在底座上滑动，所述移动板上固定有掩膜版固定板，所述X轴顶杆气缸、第一Y轴顶杆气缸分别固定在底座上且位于移动板相邻的两侧面，X轴顶杆气缸、第一Y轴顶杆气缸的工作端靠近移动板设置并且作用方向相互垂直，底座上位于移动板的另外两个侧面分别固定有X轴对位马达和第一Y轴对位马达，且X轴对位马达与X轴顶杆气缸作用方向相反，第一Y轴对位马达与第一Y轴顶杆气缸作用方向相反，晶圆掩膜版安装简单，对安装要求不高，操作简单，且可以调节其位置。且可以调节其位置。且可以调节其位置。

【技术实现步骤摘要】
晶圆掩膜版自动中心系统


[0001]本技术主要涉及半导体芯片领域，尤其涉及一种晶圆掩膜版自动中心系统。

技术介绍

[0002]在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆 (wafer)制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分。现有机型为手动调节对位系统，不方便调节，对员工安装掩膜版要求较高，安装之后员工要手动调节各个方向，更换掩膜版时间长。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的上述缺陷，本技术提供一种晶圆掩膜版自动中心系统，包括底座1、X轴顶杆气缸3、第一Y轴顶杆气缸4、移动板9，移动板9固定在底座1上并在底座1上滑动，所述移动板9上固定有掩膜版固定板2，所述X轴顶杆气缸3、第一Y轴顶杆气缸4 分别固定在底座1上且位于移动板9相邻的两侧面，X轴顶杆气缸3、第一Y轴顶杆气缸4的工作端靠近移动板9设置并且作用方向相互垂直，底座1上位于移动板9的另外两个侧面分别固定有X轴对位马达 6和第一Y轴对位马达7，且X轴对位马达6与X轴顶杆气缸3作用方向相反，第一Y轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.晶圆掩膜版自动中心系统，其特征在于，包括底座(1)、X轴顶杆气缸(3)、第一Y轴顶杆气缸(4)、移动板(9)，移动板(9)固定在底座(1)上并在底座(1)上滑动，所述移动板(9)上固定有掩膜版固定板(2)，所述X轴顶杆气缸(3)、第一Y轴顶杆气缸(4)分别固定在底座(1)上且位于移动板(9)相邻的两侧面，X轴顶杆气缸(3)、第一Y轴顶杆气缸(4)的工作端靠近移动板(9)设置并且作用方向相互垂直，底座(1)上位于移动板(9)的另外两个侧面分别固定有X轴对位马达(6)和第一Y轴对位马达(7)，且X轴对位马达(6)与X轴顶杆气缸(3)作用方向相反，第一Y轴对位马达(7)与第一Y轴顶杆气缸(4)作用方向相反；所述第一Y轴对位马达(7)、第一Y轴顶杆气缸(4)、X轴顶杆气缸(3)、X轴对位马达(6)的作用端都设有一个顶端结构，所述顶端结构包括滚轮(603)，所述滚轮(603)通过支撑板(604)固定在马达或者气缸的前端用于作用在掩膜版固定板(2)上，所述移动板(9)与滚轮(603)的对应处设有凹槽(901)，支撑板(604)可以在凹槽(901)内前后左右移动，滚轮(603)固定掩膜版固定板(2)。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：石利，
申请(专利权)人：无锡旭电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：