一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备制造技术

本发明专利技术涉及一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备。包括机架以及清洁工作模组，机架包括底板、支撑杆体、快换治具、不良品料盘以及上料滑轨组件，上料滑轨组件安装在底板上，料体滑轨组件的一端与快换治具连接，不良品料盘安装在底板上，料体滑轨组件上设置有夹持翻转装置；机架上设置有工作模组滑轨组件，工作模组滑轨组件包括第一滑轨组件、第二滑轨组件以及第三滑轨组件，支撑杆体的两端分别与底板以及第一滑轨组件连接，第一滑轨组件设置有U型固定板，第二滑轨组件安装在U型固定板上，第三滑轨组件设置在第二滑轨组件上。本发明专利技术实用性强，能有效解决人工清洁导致出厂效率过低的问题，同时有效解决清洁设备手段多样性低下的问题。性低下的问题。性低下的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备


[0001]本专利技术涉及自动化设备的
，具体涉及一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备。

技术介绍

[0002]相机镜头是相机中最重要的部件，因为它的好坏直接影响到拍摄成像的质量。同时镜头也是划分相机种类和档次的一个最为重要的标准，镜头从制作到出厂涵盖多个制作工序，其中对镜头的完工清洁工序至关重要，参照专利文件CN201420107542.4中描述的一种用于清洁CCD和CMOS及相机镜头的粘尘胶套，该专利文件存在以下问题：1.清洁操作采用人工操作，影响镜头出厂效率。2.仅对镜头处进行防尘的除静电处理，清洁多样性低下，无法保证镜头整洁率。3.镜头为精细产品，清洁工序无实时监控将影响后续维护以及评定镜头质量。

技术实现思路

[0003]本专利技术为解决上述不足，提供一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备，该双轨道自动上料设备设计合理，能有效解决人工清洁导致出厂效率过低的问题，同时有效解决清洁设备手段多样性低下的问题。
[0004]本专利技术的上述目的通过以下的技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备，包括机架(1)以及设置在机架(1)上的清洁工作模组(2)，其特征在于：所述机架(1)包括底板(11)、支撑杆体(12)、快换治具(13)、不良品料盘(14)以及至少两条的上料滑轨组件(15)，所述底板(11)上设置有料体通孔(110)，所述上料滑轨组件(15)贯穿所述料体通孔(110)活动安装在底板(11)上，所述上料滑轨组件(15)靠近所述清洁工作模组(2)的一端与所述快换治具(13)连接，所述不良品料盘(14)位于所述快换治具(13)一侧且固定安装在所述底板(11)上，所述上料滑轨组件(15)的两侧设置有夹持翻转装置(3)；所述机架(1)上还设置有工作模组滑轨组件(4)，所述工作模组滑轨组件(4)包括第一滑轨组件(41)、第二滑轨组件(42)以及第三滑轨组件(43)，所述支撑杆体(12)的两端分别与所述底板(11)以及第一滑轨组件(41)连接，所述第一滑轨组件(41)活动设置有相对第一滑轨组件(41)纵向中心轴线作往复径向运动的U型固定板(44)，所述第二滑轨组件(42)固定安装在U型固定板(44)远离所述快换治具(13)的一侧面上，所述第三滑轨组件(43)活动设置在所述第二滑轨组件(42)上，所述清洁工作模组(2)安装在所述第三滑轨组件(43)上且所述清洁工作模组(2)朝向所述快换治具(13)。2.根据权利要求1所述的一种除静电及等离子清洁的双轨道自动上料设备，其特征在于：所述清洁工作模组(2)包括镜头夹爪(21)、静电消除器(22)、定位器(23)、等离子清洁器(24)以及运作机组(25)，所述运作机组(25)安装在所述第三滑轨组件(43)的上...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶顺顺，杨兴华，李欣治，张建雄，李文杰，徐智，
申请(专利权)人：珠海市华亚机械科技有限公司，
类型：发明
国别省市：