用于制造OLED的掩模以及OLED制造方法技术

本发明专利技术涉及OLED掩模及OLED制造方法。本发明专利技术的用于制造OLED的掩模，包括：掩模外壳，其至少一侧开放，且提供用于布置沉积源供给部的空间；以及掩模片，其设置于掩模外壳开放的一侧，且形成有多个掩模图案。且形成有多个掩模图案。且形成有多个掩模图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造OLED的掩模以及OLED制造方法


[0001]本专利技术涉及用于制造OLED的掩模及OLED制造方法。更详细地，涉及一种能够进行用于实现高分辨率像素的有机物沉积的用于制造OLED的掩模及OLED制造方法。

技术介绍

[0002]在OLED制造工艺中，作为用于形成像素的技术，主要采用精细金属掩膜法(Fine Metal Mask，FMM)，该方法将薄膜的金属掩模(Shadow Mask)紧贴在基板上并在所需的位置上进行有机物沉积。
[0003]在现有的OLED制造工艺中，一般在制造掩模薄膜之后，将掩模焊接固定于OLED像素沉积框架并使用，然而固定过程中存在很难准确地对准大面积掩模的问题。此外，在框架上进行固定的过程中，由于掩模膜的厚度过薄且面积较大，因此存在荷重导致的掩模下垂或者扭曲的问题。
[0004]在超高画质的OLED制造工艺中，即使数μm的细微的对准误差也会导致像素沉积失败，因此急需开发一种能够防止掩模下垂或扭曲等变形且能够准确对准的技术等。
[0005]另外，最近应用于VR(virtual realit本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制造OLED的掩模，包括：掩模外壳，其至少一侧开放且提供用于布置沉积源供给部的空间；以及掩模片，其设置于掩模外壳开放的一侧，且形成有多个掩模图案。2.如权利要求1所述的用于制造OLED的掩模，其中，为了形成OLED像素，在沉积源供给部生成有机物源，有机物源通过掩模片的掩模图案并在目标基板上形成像素。3.如权利要求2所述的用于制造OLED的掩模，其中，目标基板为硅晶圆，而且包括多个掩模图案的掩模单元形成为对应硅晶圆上的至少一个或者多个管芯区域。4.如权利要求1所述的用于制造OLED的掩模，其中，掩模图案的分辨率至少大于1000PPI。5.如权利要求1所述的用于制造OLED的掩模，其中，掩模片的材料为因瓦合金、超因瓦合金、镍合金中的任意一种。6.如权利要求1所述的用于制造OLED的掩模，其中，进一步包括用于加热掩模片的加热单元。7.如权利要求6所述的用于制造OLED的掩模，其中，掩模片为导电性材料，通过电连接掩模片或者对掩模片施加感应磁场进行加热。8.如权利要求1所述的用于制造OLED的掩模，其中，进一步包括遮板部，其面向掩模片设置，且形...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴振源，李永浩，
申请(专利权)人：韩商则舒穆公司，
类型：发明
国别省市：