一种解干涉及抗压的增亮膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种解干涉及抗压的增亮膜，包括基材层、棱镜层，棱镜层上阵列有棱镜，棱镜上设有解干涉区、透光区，透光区沿长度方向呈上下波动，解干涉区沿棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布，解干涉区中最高点与最低点的高度差H为2.5um～3.5um，解干涉区内填充有微粒子。本实用新型专利技术的基材层用于涂覆棱镜层，起到支撑作用，棱镜层起到透光、增亮的作用。上下波动的透光区能够解决现有的棱镜易产生干涉的问题，填充有微粒子的解干涉区能够雾化膜面，进一步解决干涉问题。解干涉区沿棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布，从而能够满足工业上批量制造的技术要求。批量制造的技术要求。批量制造的技术要求。

【技术实现步骤摘要】
一种解干涉及抗压的增亮膜


[0001]本技术涉及增亮膜
，尤其涉及一种解干涉及抗压的增亮膜。

技术介绍

[0002]液晶背光源体系主要的光学膜片包括扩散膜、增亮膜和反射膜。增亮膜结构基本为呈等腰三角形的长条形微棱镜结构，棱镜顶角固定不变，一般为亮度最佳的90
°
。这种增亮膜在使用当中由于有序的棱镜结构会产生干涉现象。
[0003]现有增亮膜存在几个问题：1、增亮膜上有序的棱镜结构容易产生干涉；2、增亮膜顶角容易和上层膜片滑动、产生压伤。

技术实现思路

[0004]本技术针对现有技术中存在的增亮膜的棱镜易产生干涉且棱镜顶角易与上层膜片产生压伤等缺陷，提供了新的一种解干涉及抗压的增亮膜。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术通过以下技术方案实现：
[0006]一种解干涉及抗压的增亮膜，包括基材层、棱镜层，所述棱镜层上阵列有棱镜，所述棱镜上设有解干涉区、透光区，所述透光区沿长度方向呈上下波动，所述解干涉区沿所述棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布，所述解干涉区中最高点与最低点的高度差H为2.5um～3.5um，所述解干涉区内填充有微粒子。
[0007]在上述的解干涉及抗压的增亮膜结构中，基材层用于涂覆棱镜层，起到支撑作用，棱镜层起到透光、增亮的作用。上下波动的透光区能够解决现有的棱镜易产生干涉的问题，填充有微粒子的解干涉区能够雾化膜面，进一步解决干涉问题。解干涉区沿所述棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布，从而能够满足工业上批量制造的技术要求。
[0008]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述解干涉区呈弧形凹槽状。
[0009]解干涉区呈弧形凹槽状，能够最大程度的容纳微粒子，使得微粒子在解干涉区内均匀分布。
[0010]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述解干涉区的长度D为2000um，相邻棱镜的节距pitch为30um～50um。
[0011]解干涉区的长度选择上述参数，能够获得最佳的解干涉效果和批量生产效率。
[0012]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述棱镜的顶角为90
°
。
[0013]本技术棱镜的顶角为90，从而能保证优异的增亮效果。
[0014]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述透光区的折射率为1.55。
[0015]本技术透光区的折射率为1.55，从而能保证优异的增亮效果。
[0016]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，微粒子的粒径为1um～2um。
[0017]本技术选取粒径为1um～2um的微粒子，从而微粒子能够在解干涉区内进行2层以上的堆积，进一步提高解干涉区内微粒子的填充度，有效起到雾化膜面的作用。
[0018]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述基材层的厚度为125um～
188um。
[0019]本技术选择厚度为125um～188um的基材层，能够保证增亮膜强度的同时最大化降低膜厚，可匹配32寸至65寸机种的电视机。
[0020]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，还包括背涂层，所述背涂层与所述基材层的下表面连接。
[0021]背涂层起到防止基材层的下表面与其他膜层粘接的作用。
[0022]作为优选，上述所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，所述背涂层的雾度为15～35％。
[0023]本技术选择具有15～35％雾度的背涂层，能增强雾化的效果。
附图说明
[0024]图1为本技术的结构示意图一；
[0025]图2为本技术的解干涉区未填充微粒子时的结构示意图；
[0026]图3为本技术的结构示意图二；
[0027]图4为本技术的结构示意图三。
具体实施方式
[0028]下面结合附图1
‑
4和具体实施方式对本技术作进一步详细描述，但它们不是对本技术的限制：
[0029]实施例1
[0030]一种解干涉及抗压的增亮膜，包括基材层2、棱镜层3，所述棱镜层3上阵列有棱镜31，所述棱镜31上设有解干涉区312、透光区311，所述透光区311沿长度方向呈上下波动，所述解干涉区312沿所述棱镜31的顶角棱的长度方向阵列排布，所述解干涉区312中最高点与最低点的高度差H为2.5um～3.5um，所述解干涉区312内填充有微粒子33。
[0031]作为优选，所述解干涉区312呈弧形凹槽状。
[0032]作为优选，所述解干涉区312的长度D为2000um，相邻棱镜31的节距pitch为30um～50um。
[0033]作为优选，所述棱镜31的顶角为90
°
。
[0034]作为优选，所述透光区311的折射率为1.55。
[0035]作为优选，微粒子33的粒径为1um～2um。
[0036]作为优选，所述基材层2的厚度为125um～188um。
[0037]作为优选，还包括背涂层1，所述背涂层1与所述基材层2的下表面连接。
[0038]作为优选，所述背涂层1的雾度为15～35％。
[0039]总之，以上所述仅为本技术的较佳实施例，凡依本技术申请专利的范围所作的均等变化与修饰，皆应属本技术的涵盖范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种解干涉及抗压的增亮膜，包括基材层(2)、棱镜层(3)，其特征在于：所述棱镜层(3)上阵列有棱镜(31)，所述棱镜(31)上设有解干涉区(312)、透光区(311)，所述透光区(311)沿长度方向呈上下波动，所述解干涉区(312)沿所述棱镜(31)的顶角棱的长度方向阵列排布，所述解干涉区(312)中最高点与最低点的高度差H为2.5um～3.5um，所述解干涉区(312)内填充有微粒子(33)。2.根据权利要求1所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，其特征在于：所述解干涉区(312)呈弧形凹槽状。3.根据权利要求2所述的一种解干涉及抗压的增亮膜，其特征在于：所述解干涉区(312)的长度D为2000um，相邻棱镜(31)的节距pitch为30um～50um。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁利明，路健，季文静，
申请(专利权)人：常州华威新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：