【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光学膜,尤其涉及一种高亮珠光uv纹理膜。
技术介绍
1、近年,uv压印技术广泛发展,越来越多的纹理装饰膜使用uv压印技术实现,uv压印纹理膜可以实现不同的纹理效果,例如拉丝纹理、乱纹理、cd纹理、碳纤维纹理等。只要是压印辊筒模具能够雕刻出来的纹理,都可以通过uv压印在纹理膜上实现。但目前市场上珠光效果的纹理膜,普遍亮度不佳。故需要对上述问题做出改进。
技术实现思路
1、本技术针对现有技术中存在的亮度不佳等缺陷,提供了新的一种高亮珠光uv纹理膜。
2、为了解决上述技术问题,本技术通过以下技术方案实现:
3、一种高亮珠光uv纹理膜,包括基底层,所述基底层上设置有纹理层,所述纹理层上设置有磨砂纹理结构,所述磨砂纹理结构包括虫纹结构、修饰结构,所述修饰结构位于所述虫纹结构的表面。
4、虫纹结构可以在更多角度下反射光线,增强了珠光效果和亮度,在一定的反射面上,能够让整个纹理膜表面均匀折射光线,均匀漫反射光线。修饰结构可以提高纹理层的附着力和耐磨性,提高纹
...【技术保护点】
1.一种高亮珠光UV纹理膜,包括基底层(1),其特征在于:所述基底层(1)上设置有纹理层(2),所述纹理层(2)上设置有磨砂纹理结构(3),所述磨砂纹理结构(3)包括虫纹结构(4)、修饰结构,所述修饰结构位于所述虫纹结构(4)的表面。
2.根据权利要求1所述的一种高亮珠光UV纹理膜,其特征在于:所述虫纹结构(4)包括2条以上的异形弯曲凸起线段结构,所述异形弯曲凸起线段结构为异形排列。
3.根据权利要求2所述的一种高亮珠光UV纹理膜,其特征在于:所述异形弯曲凸起线段结构的长度为100μm以下,所述异形弯曲凸起线段结构的凸起高度为10μm以下。
...【技术特征摘要】
1.一种高亮珠光uv纹理膜,包括基底层(1),其特征在于:所述基底层(1)上设置有纹理层(2),所述纹理层(2)上设置有磨砂纹理结构(3),所述磨砂纹理结构(3)包括虫纹结构(4)、修饰结构,所述修饰结构位于所述虫纹结构(4)的表面。
2.根据权利要求1所述的一种高亮珠光uv纹理膜,其特征在于:所述虫纹结构(4)包括2条以上的异形弯曲凸起线段结构,所述异形弯曲凸起线段结构为异形排列。
3.根据权利要求2所述的一种高亮珠光uv纹理膜,其特征在于:所述异形弯曲凸起线段结构的长度为100μm以下,...
【专利技术属性】
技术研发人员:范国威,丁利明,路健,
申请(专利权)人:常州华威新材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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