等离子清洗机制造技术

本实用新型专利技术提出一种等离子清洗机。等离子清洗机包括推料机构、转移机构、清洗机构、暂存机构和收料机构，推料机构用于将出料盒内的料条向外推出；转移机构包括转移组件和设于转移组件上的推送组件，转移组件可活动地设于机架上，以使得转移组件可在推料机构、清洗机构和暂存机构之间做回转运动，转移组件用于将推出的料条转移至清洗机构以及将清洗完后的料条转移至暂存机构；清洗机构用于对转移至其上的料条进行清洗；推送组件用于将已转移至暂存机构上的料条推送至收料机构；收料机构用于对推送至其上的料条进行收料。本实用新型专利技术的等离子清洗机，能够解决现有等离子清洗机的结构排布不合理而导致料条清洗效率低的问题。不合理而导致料条清洗效率低的问题。不合理而导致料条清洗效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
等离子清洗机


[0001]本技术涉及清洗
，特别涉及一种等离子清洗机。

技术介绍

[0002]在芯片行业中，基板、引线框架等料条在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物，进而影响焊线效果，目前主要是通过等离子清洗机对料条进行清洗。但是，现有的等离子清洗机的结构排布不合理，导致料条的清洗速度过慢，清洗效率较低，影响料条的生产。
[0003]因此，有必要提出一种新型的等离子清洗机，以解决上述技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是提出一种等离子清洗机，旨在解决现有等离子清洗机的结构排布不合理而导致料条清洗效率低的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提出一种等离子清洗机，包括机架和设于所述机架上的推料机构、转移机构、清洗机构、暂存机构和收料机构，其中：
[0006]所述推料机构适用于供出料盒放置，所述推料机构用于将所述出料盒内的料条向外推出；
[0007]所述清洗机构设于所述推料机构和所述暂存机构之间，所述转移机构包括转移组件和设于所述转移组件上的推送组件，所述转移组件可活动地设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗机，其特征在于，包括机架和设于所述机架上的推料机构、转移机构、清洗机构、暂存机构和收料机构，其中：所述推料机构适用于供出料盒放置，所述推料机构用于将所述出料盒内的料条向外推出；所述清洗机构设于所述推料机构和所述暂存机构之间，所述转移机构包括转移组件和设于所述转移组件上的推送组件，所述转移组件可活动地设于所述机架上，以使得所述转移组件可在所述推料机构、所述清洗机构和所述暂存机构之间做回转运动，所述转移组件用于将推出的所述料条转移至所述清洗机构以及将清洗完后的所述料条转移至所述暂存机构；所述清洗机构用于对转移至其上的所述料条进行清洗；所述收料机构设于所述暂存机构背向所述清洗机构的一侧，所述推送组件用于将已转移至所述暂存机构上的所述料条推送至所述收料机构；所述收料机构用于对推送至其上的所述料条进行收料。2.如权利要求1所述的等离子清洗机，其特征在于，所述暂存机构包括暂存台和多个第一导条，多个所述第一导条设于所述暂存台上且沿其长度方向依次间隔排布，所述第一导条可活动地设于所述暂存台，多个所述第一导条形成有多个第一导向槽，一所述导向槽用于对一所述料条进行承载导向。3.如权利要求2所述的等离子清洗机，其特征在于，多个所述第一导条包括多个第一子导条和多个第二子导条，多个所述第一子导条和多个所述第二子导条沿所述暂存台的长度方向依次交替间隔排布，一所述第一子导条和一所述第二子导条相对设置并形成所述第一导向槽，所述第一子导条和/或所述第二子导条可活动地设于所述暂存台，以使得所述第一导向槽的宽度可调。4.如权利要求3所述的等离子清洗机，其特征在于，所述暂存机构还包括还包括第一连杆、第二连杆和第一驱动件，所述第一连杆和所述第二连杆分别可滑动地设于所述暂存台，多个所述第一子导条在所述第一连杆上依次间隔设置，多个所述第二子导条在所述第二连杆上依次间隔设置，所述第一驱动件设于所述暂存台上并连接所述第一连杆和所述第二连杆，所述第一驱动件用于驱动所述第一连杆和所述第二连杆在所述暂存台上滑动，以调节所述第一子导条和所述第二子导条之间的间距。5.如权利要求2所述的等离子清洗机，其特征在于，所述暂存机构还包括推爪和推爪驱动件，所述推爪设于所述暂存台朝向所述收料机构的一侧，所述收料机构包括第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈天元，谢育林，李文强，杨建新，朱霆，张凯，
申请(专利权)人：深圳泰德半导体装备有限公司，
类型：新型
国别省市：