一种硅片金属层电镀设备制造技术

本实用新型专利技术涉及技术领域，且公开了一种硅片金属层电镀设备，包括电镀框和固定安装在电镀框一端的支撑框架，所述活动组件包括滑动设置在支撑框架内的支撑杆，所述支撑杆的下端固定安装有支撑外壳，所述支撑外壳内固定安装有第一电机，所述第一电机的输出端设置有旋转轴，所述旋转轴的侧壁固定安装有支撑台，将电镀的产品挂在挂环上，开启第一电机工作，第一电机带动旋转轴转动，旋转轴带动支撑台转动，通过支撑台的转动，带动产品跟随支撑台一起转动，通过旋转轴带动第一齿轮转动，第一齿轮带动第二齿轮转动，第二齿轮带动活动杆在支撑台上转动，即可带动将电镀的产品实现自转，更进一步地将产品进行电镀。一步地将产品进行电镀。一步地将产品进行电镀。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片金属层电镀设备


[0001]本技术涉及电镀设备
，具体为一种硅片金属层电镀设备。

技术介绍

[0002]电镀时的表面状况和加工要求，选择其中适当的几个步骤，对零件表面进行必要的修整加工，使零件具有平整光洁的表面，这是能否获得优质镀层的重要环节。镀前处理工艺中，所用的主要设备有磨、抛光机、刷光机、喷砂机、滚光机和各类固定槽。电镀处理是整个生产过程中的主要工艺。根据零件的要求，有针对性选择某一种或几种单金属或合金电镀工艺对零件进行电镀或浸镀等加工，以达到防蚀、耐磨和美观的目的。电镀处理过程中所用的设备主要有各类固定槽、滚镀槽、挂具、吊篮等。
[0003]现有的电镀设备，在对硅片进行电镀时，通常都是将被电镀的产品浸泡在电解液里，这种方式不能很好的将产品进行电镀，且电镀的产品在电镀的过程中，通常需要人工将其提起并往复的将产品从电解液中提取出来再放入其中，费时费力。

技术实现思路

[0004]本技术提供了一种硅片金属层电镀设备，具备可以让产品与电解液更全面的进行接触，且在电镀的过程中不需要人工往复的将产品从电解液中拿取的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片金属层电镀设备，包括电镀框（1）和固定安装在电镀框（1）一端的支撑框架（2），所述电镀框（1）的侧表面相互连通有出水管道（11），所述电镀框（1）的下端设置有万向轮（12），其特征在于：所述支撑框架（2）的侧表面固定安装有固定外壳（3），所述固定外壳（3）内设置有传动组件（4），所述支撑框架（2）的一端设置有活动组件（5）；所述活动组件（5）包括滑动设置在支撑框架（2）内的支撑杆（51），所述支撑杆（51）的下端固定安装有支撑外壳（53），所述支撑外壳（53）内固定安装有第一电机（55），所述第一电机（55）的输出端设置有旋转轴（56），所述旋转轴（56）的侧壁固定安装有支撑台（54），所述支撑台（54）的底壁贯穿有活动杆（573），所述活动杆（573）的下端固定安装有挂环（574）。2.根据权利要求1所述的一种硅片金属层电镀设备，其特征在于：所述支撑框架（2）的侧壁开设有活动口（52），所述活动口（52）内固定安装有滑动杆（58），所述滑动杆（58）与所述支撑杆（51）滑动连接，所述支撑台（54）内设置有旋转组件（57）。3.根据权利要求2所述的一种硅片金属层电镀设备，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王瑞斌，
申请(专利权)人：宁波赛邦芯微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：