一种剥离液及其制备方法技术

一种剥离液及其制备方法，属于液晶面板和半导体生产技术领域。所述剥离液包括式I所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水。所述剥离液用于光刻胶的剥离，所述剥离液具有剥离效果好，剥离后光刻胶无残留，对金属的防腐蚀性好，使用寿命长等优点。优点。优点。优点。

【技术实现步骤摘要】
一种剥离液及其制备方法


[0001]本专利技术属于液晶面板和半导体生产
，具体涉及一种剥离液及其制备方法。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程。
[0003]现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水，但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属层、光刻胶残留、使用寿命短、剥离效果差等问题。
[0004]因此，仍亟需一种能防止腐蚀金属层、清洗效果好，剥离性能好，寿命长的剥离液。

技术实现思路

[0005]为解决上述问题，本专利技术提供一种剥离液及其制备方法。
[0006]第一方面，本专利技术提供一种剥离液。
[0007]一种剥离液，其包括式I所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水；所述式I所示化合物如下所示：
[0008][0009]所述非离子表面活性剂可以包括或为式II所示化合物，
[0010][0011]其中，n为10
‑
20的整数。在一些实施例中，n为10、11、12、13、14、15、16、17、18、19或20。
[0012]所述水溶性有机溶剂可以包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。在一些实施例中，所述水溶性有机溶剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚中至少一种。在一些实施例中，所述水溶性有机溶剂为二乙二醇甲醚。
[0013]所述胺类试剂可以包括选自环状胺和链烷醇胺中的至少一种。在一些实施例中，所述胺类试剂可以包括环状胺和链烷醇胺。
[0014]所述环状胺可以包括选自羟乙基哌嗪、哌嗪、N
‑
甲基
‑
哌嗪、甲基
‑
哌嗪中的至少一种。在一些实施例中，所述环状胺为羟乙基哌嗪。
[0015]所述链烷醇胺可以包括选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2
‑
(2
‑
氨基乙氧基)乙醇、N，N
‑
二甲基乙醇胺、N，N
‑
二乙基乙醇胺、N，N
‑
二丁基乙醇胺、N
‑
甲基乙醇胺、N
‑
乙基乙醇胺、N
‑
丁基乙醇胺、N
‑
甲基二乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、N
‑
(2
‑
氨基乙基)乙醇胺、三异丙醇胺中的至少一种；优选为二乙醇胺。
[0016]所述缓蚀剂可以包括选自苯并三氮唑和山梨醇中的至少一种。
[0017]基于所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量可以为1wt％
‑
5wt％。在一些实施例中，所述式I所示化合物的含量为1wt％、2wt％、3wt％、4wt％或5wt％。
[0018]基于所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量可以为38.4wt％
‑
78.95wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为40wt％、45wt％、50wt％、55wt％、60wt％、65wt％、70wt％或75wt％。
[0019]基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量可以为5wt％
‑
15wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量为8wt％
‑
12wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量为10wt％
‑
15wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％、9wt％、10wt％、11wt％、12wt％、13wt％、14wt％或15wt％。
[0020]基于所述剥离液的总质量计算，所述缓蚀剂的含量可以为0.05wt％
‑
1.5wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述缓蚀剂的含量为0.1wt％
‑
1.0wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述缓蚀剂的含量为0.05wt％、0.1wt％、0.15wt％、0.5wt％、1.0wt％或1.5wt％。
[0021]基于所述剥离液的总质量计算，所述非离子表面活性剂的含量可以为0
‑
0.1wt％。
在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述非离子表面活性剂的含量为0.05wt％
‑
0.1wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述非离子表面活性剂的含量为0、0.05wt％或0.1wt％。
[0022]基于所述剥离液的总质量计算，所述水的含量可以为15wt％
‑
40wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为20wt％
‑
30wt％。在一些实施例中，基于所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为15wt％、20wt％、25wt％、30wt％、35wt％或40wt％。
[0023]基于所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量可以为100wt％减去式I所示化合物、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水的含量之和后得到的剩余含量。
[0024]基于所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量为1wt％
‑
5wt％，所述胺类试剂的含量为5wt％
‑
15wt％，所述缓蚀剂的含量为0.05wt％
‑
1.5wt％，所述非离子表面活性剂的含量为0
‑
0.1wt％，所述水的含量为15wt％
‑
40wt％，余量为所述水溶性有机溶剂。
[0025]所述胺类试剂可以包括环状胺和链烷醇胺；基于所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量可以为0.5wt％
‑
5wt％，所述链烷醇胺的含量可以为5wt％
‑
14.5wt％。在一些实施例中，所述胺类试剂可以包括环状胺和链烷醇胺；基于所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量为0.5wt％、1.0wt％、1.5wt％、2.0wt％、2.5wt％、3.0wt％、3.5wt％、4.0wt％、4.5wt％或5wt％，所述链烷醇胺的含量为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％、9wt％、10wt％、11wt％、12wt％、13wt％、14wt％或14.5wt％。
[0026]所述缓蚀剂可以包括苯并三氮唑和山梨醇，基于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种剥离液，其包括式I所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水；所述式I所示化合物如下所示：2.根据权利要求1所述的剥离液，所述非离子表面活性剂包括或为式II所示化合物，其中，n为10
‑
20的整数。3.根据权利要求1
‑
2任一项所述的剥离液，所述水溶性有机溶剂包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的剥离液，所述胺类试剂包括选自环状胺和链烷醇胺中的至少一种；任选地，所述胺类试剂包括环状胺和链烷醇胺；任选地，所述环状胺包括选自羟乙基哌嗪、哌嗪、N
‑
甲基
‑
哌嗪、甲基
‑
哌嗪中的至少一种；优选为羟乙基哌嗪；任选地，所述链烷醇胺包括选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2
‑
(2
‑
氨基乙氧基)乙醇、N，N
‑
二甲基乙醇胺、N，N
‑
二乙基乙醇胺、N，N
‑
二丁基乙醇胺、N
‑
甲基乙醇胺、N
‑
(2
‑
氨基乙基)乙醇胺、N
‑
乙基乙醇胺、N
‑
丁基乙醇胺、N
‑
甲基二乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺中的至少一种；优选为二乙醇胺。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的剥离液，所述缓蚀剂包括选自苯并三氮唑和山梨醇中的至少一种。6.根据权利要求1
‑
5任一项所述的剥离液，基于所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量为1wt％
‑
5wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为38.4wt％
‑
78.95wt％；
任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量为5wt％
‑
15wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述缓蚀剂的含量为0.05wt％
‑
1.5wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述非...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢燕燕，张丽燕，
申请(专利权)人：深圳深骏微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：