【技术实现步骤摘要】
用于离子注入机的离子轰击碰撞装置
[0001]本技术涉及离子注入机
,具体涉及一种用于离子注入机的离子轰击碰撞装置。
技术介绍
[0002]离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备,离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术,其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行精确的控制,克服了常规工艺的限制,提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命,降低了成本和功耗。离子注入机广泛用于掺杂工艺,可以满足浅结、低温和精确控制等要求,已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。
[0003]在使用离子注入机时,需要使其对其内部的电离子进行轰击碰撞,以产生电流分子,从而使得在使用时的传输更加稳定。现有的离子注入机一般通过摆动装置带动离子注入机进行摆动,使得其内部的离子能够进行轰击碰撞。但是现有的摆动装置在带动离子注入机时产生的摆动幅度较小,从而导致其内部的离子轰击碰撞不充分,效果较差。
技术实现思路
[0004]针对现有技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于离子注入机的离子轰击碰撞装置,其特征在于,包括:离子注入机外防护筒;固定板,所述固定板对称设置于离子注入机外防护筒两侧;支撑机构,所述支撑机构对称设置于离子注入机外防护筒两侧,并分别于对应固定板连接,所述支撑机构用于对固定板进行支撑;往复摆动机构,所述往复摆动机构对称设置于离子注入机外防护筒两侧,并彼此相向固定在两侧固定板端面上;延长臂,所述延长臂一端与往复摆动机构固定连接,另一端转动连接于离子注入机外防护筒的外壁,以增加离子注入机外防护筒与往复摆动机构之间的连接距离,所述往复摆动机构用于驱动延长臂往复摆动,以带动离子注入机外防护筒往复摆动。2.根据权利要求1所述的一种用于离子注入机的离子轰击碰撞装置,其特征在于,所述往复摆动机构包括:主动齿轮,所述主动齿轮转动连接于固定板端面,所述主动齿轮背向连接梁侧壁的一侧设有凸起的第一啮合部,所述第一啮合部为多个并按圆周均匀分布;从动齿轮,所述从动齿轮转动连接于固定板端面,所述从动齿轮与主动齿轮成中心对称并与主动齿轮相互啮合,所述从动齿轮背向连接梁侧壁的一侧设有凸起的第二啮合部,所述第二啮合部为多个并按圆周均匀分布,所述第二啮合凸起与...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭强祥,刘仁杰,
申请(专利权)人:浙江中科尚弘离子装备工程有限公司,
类型:新型
国别省市:
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