一种近红外二区染料、纳米粒子及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种近红外二区染料FT

【技术实现步骤摘要】
一种近红外二区染料、纳米粒子及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于生物医药工程领域，更具体地，涉及一种近红外二区染料、纳米粒子及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]近红外二区(NIR
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II，1000
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1700nm)荧光成像是一种新兴的光学成像技术，在分子成像领域引起了人们巨大的研究兴趣。与传统的可见光或近红外一区(NIR
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I，650
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950nm)成像相比，NIR
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II荧光成像具有最小的组织自发荧光和光子散射，从而保证了高穿透深度、高成像分辨率及高的成像信噪比(SBR)。目前无机纳米材料，如稀土纳米粒子量子点和碳纳米管已被广泛地开发为近红外二区的成像造影剂。然而，无机纳米材料通常会遇到潜在的生物安全问题，这是因为其中的重金属毒性和难以快速代谢。另一方面，近年来有机半导体共轭聚合物被报道应用于近红外二区的成像，然而这类聚合物存在合成重复性差、光学性能难以合理控制等问题。因此，开发高效的无毒易代谢的成像造影剂是本领域研究的热点及难点。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种近红外二区染料，其特征在于，该染料为FT
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3T，其结构式为：2.一种权利要求1所述的近红外二区染料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将化合物1和化合物2溶于醋酸中，100℃反应24h得到中间体3；中间体3和N
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溴代琥珀酰亚胺混合溶于四氢呋喃，避光反应过夜得到中间体4；中间体4和化合物5在甲苯
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水混合溶液中反应得到中间体6；中间体6和化合物7在甲苯溶剂中反应得到最终产物FT
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3T；上述化合物1的结构式为：化合物2的结构式为：化合物5的结构式为：化合物7的结构式为：3.根据权利要求2所述的近红外二区染料的制备方法，其特征在于，所述化合物1和化合物2的摩尔比为(1:1)～(1:1.2)；所述中间体3和N
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溴代琥珀酰亚胺的摩尔比为1:1.1；所述中间体4和化合物5的摩尔比为(1:1.5)～(1:2)，甲苯和水的体积比为3:1；所述中间体6和化合物7的摩尔比为(2:1)～(2.2:1)。4.一种权利要求1所述的近...

【专利技术属性】
技术研发人员：王其，刘加伟，范曲立，许兴鹏，
申请(专利权)人：南京邮电大学，
类型：发明
国别省市：