微弱光光谱测量器件和光谱仪制造技术

本发明专利技术属于光谱设备领域，提供一种微弱光光谱测量器件和光谱仪，包括衬底和设置在衬底上表面的至少两个探测单元，一个探测单元包括一个光调制微纳结构单元和一个超导纳米线单光子探测器单元。光调制微纳结构单元可以对入射光光谱实现一定的调制作用，超导纳米线单光子探测器单元用于探测调制后的光子，或者本身也作为光调制结构与已有的光调制微纳结构单元共同对光子产生光谱调制作用并探测光子，使每个探测单元均具有宽光谱探测特征，可使用计算光谱重建的方法测量光谱，使光子利用率大大提高。光调制微纳结构本身的谐振作用也具有增强超导纳米线单光子探测器探测效率的作用，缩短测量时间。短测量时间。短测量时间。

【技术实现步骤摘要】
微弱光光谱测量器件和光谱仪


[0001]本专利技术涉及光谱设备
，尤其涉及一种微弱光光谱测量器件和光谱仪。

技术介绍

[0002]作为一种常用的光学信息感知技术，光谱测量经过多年发展已经广泛的应用于多个
单光子水平的微弱光光谱测量在科学研究、环境监测、遥感遥测等领域具有重要应用。然而，目前针对微弱光的光谱测量方法普遍依赖可调窄带滤波器，如单色仪，配合单光子探测器，通过对不同波长点逐点扫描的方式，测量每个波长点对应的光子计数率实现光谱测量。测量过程中，滤波器通带外的光子不能被探测，使得该方法的光子利用率低，测量时间长，不易实现器件功能集成，严重限制了此类技术的实际应用。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种微弱光光谱测量器件和光谱仪，用以解决现有技术中可调窄带滤波器配合单光子探测器进行微弱光光谱测量时，光子利用低、测量时间长的缺陷，实现提高光子利用率以及缩短测量时间的效果。
[0004]本专利技术提供一种微弱光光谱测量器件，包括衬底和设置在所述衬底的上表面的至少两个探测单元，其中，每个所述探测单元包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微弱光光谱测量器件，其特征在于，包括衬底和设置在所述衬底的上表面的至少两个探测单元，其中，每个所述探测单元包括：光调制微纳结构单元，包括底板和设置在所述底板上的多个调制孔，多个所述调制孔排布成二维图形结构；超导纳米线单光子探测器单元，包括至少一条超导纳米线，所述超导纳米线排布成二维图形结构，且所述超导纳米线的纵向投影穿插在多个所述调制孔之间。2.根据权利要求1所述的微弱光光谱测量器件，其特征在于，多个所述探测单元包括至少两种结构参数的所述调制孔，和\或，包括至少两种二维图形结构的调制孔排布形式，和\或，至少两种二维图形结构的超导纳米线排布形式。3.根据权利要求2所述的微弱光光谱测量器件，其特征在于，所述底板位于所述衬底的上表面，所述超导纳米线单光子探测器单元设置在所述底板的上表面。4.根据权利要求2所述的微弱光光谱测量器件，其特征在于，所述底板与所述超导纳米线单光子探测器单元之间设置有缓冲层，且所述底板和所述超导纳米线单光子探测器单元，两者中的其...

【专利技术属性】
技术研发人员：张巍，郑敬元，冯雪，刘仿，崔开宇，黄翊东，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：