溅射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可抑制在被处理基板的外边缘部处的局部升温的溅射装置。本发明专利技术的溅射装置(SM)具有：将靶(2)和被处理基板(Sw)相对配置的真空室；以及挡板(5)，其在真空室内围绕靶和被处理基板之间的成膜空间(1a)；所述溅射装置上设置有对挡板进行冷却的冷却单元，挡板具有配置在被处理基板周围的第一挡板部(5a)，其具有使被处理基板面向成膜空间的第一开口(51)，所述第一开口与该被处理基板具有同样的轮廓，冷却单元具有第一冷媒通道(55)，其设置在第一挡板部上，并具有延伸到位于第一开口周围的第一挡板部的部分的通道部分(55a)。围的第一挡板部的部分的通道部分(55a)。围的第一挡板部的部分的通道部分(55a)。

【技术实现步骤摘要】
溅射装置


[0001]本专利技术涉及一种溅射装置，其具有：将靶和被处理基板相对配置的真空室；以及挡板，其在真空室内围绕靶和被处理基板之间的成膜空间。

技术介绍

[0002]这种溅射装置例如在专利文献1中已知。该溅射装置通过第一挡板部(下部部分)、第二挡板部(上部部分)以及中间挡板部(圆筒体主体)构成，其中，所述第一挡板部(下部部分)配置在被处理基板的周围，并具有第一开口，所述第一开口使被处理基板面向成膜空间，并与该被处理基板具有同样的轮廓；所述第二挡板部(上部部分)配置在靶周围并具有第二开口，所述第二开口使靶面向成膜空间，并与该靶具有同样的轮廓；所述中间挡板部(圆筒体本体)将第一挡板部和第二挡板部连接。并且，在中间挡板部内，形成作为冷却单元的构成要素的冷媒通道(热传递路径)，通过使冷却水等冷媒在冷媒通道内流通，而在靶的溅射成膜过程中冷却挡板。此外，冷媒的温度通常根据室温(设置溅射装置的洁净室内的温度)，设置为可防止发生冷凝的规定温度(例如20～25℃的温度)。
[0003]此处，例如将靶设置为铝材质，当使用上述以往例子的溅射装置在被处理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射装置，其具有：靶和被处理基板相对配置的真空室；以及挡板，其在真空室内围绕靶和被处理基板之间的成膜空间；其特征在于：所述溅射装置上设置有对挡板进行冷却的冷却单元；挡板具有配置在被处理基板周围的第一挡板部，其具有使被处理基板面向成膜空间的第一开口，所述第一开口与该被处理基板具有同样的轮廓；冷却单元设置在第一挡板部上，并具有第一冷媒通道，所述第一冷媒通道具有延伸到位于第一开口周围的第一挡板部的部分的通道部分。2.根据权利要求1记载的溅射装置，其特征在于：所述挡板具有配置在靶周围的第二挡板部，所述第二挡板部具有使所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木康司，长岛英人，田代征仁，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：