一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机制造技术

本申请涉及镀膜机技术领域，公开了一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，包括卷绕镀膜机本体，所述卷绕镀膜机本体作业端的一边处设置有用于膜卷上料的上料辊，且卷绕镀膜机本体靠近上料辊的一边处设置有用于加工完成后的膜卷下料的下料辊，所述卷绕镀膜机本体靠近上料辊的一边处设置有用于对基膜进行磁控溅射镀膜加工的加工腔室，所述加工腔室内设置有多个镀膜靶材，所述卷绕镀膜机本体靠近加工腔室的一边处设置有用于驱动基膜配合加工腔室作业的驱动辊，本申请便于避免前处理离子源对基膜表面进行清洁作业，而产生的含尘空气逸散在作业环境中对基膜造成二次污染，有利于提高基膜的镀膜加工质量。镀膜加工质量。镀膜加工质量。

【技术实现步骤摘要】
一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机


[0001]本申请涉及镀膜机
，尤其是涉及一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机。

技术介绍

[0002]磁控溅射卷绕镀膜机是通过使用各种阴极(DC，UBMS，DMS，旋转磁石)的磁控溅射法，进行基膜的镀膜作业，搭载有磁控溅射源，可对基膜通过卷到卷方式连续镀膜的卷绕镀膜机，卷绕镀膜机是通过安装在加工腔室内的镀膜靶材对基膜进行镀膜，镀膜靶材是通过磁控溅射的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基膜上形成各种功能薄膜的溅射源。
[0003]现有的卷绕镀膜机在对基膜进行加工时，基膜表面易存在粉尘杂质，需要对粉尘杂质进行清理作业，一般是使用前处理离子源对基膜表面进行清洁作业，但前处理离子源对基膜的清理作业过程中清除的粉尘逸散在其周围的空气环境中，易对基膜造成二次污染，导致基膜的镀膜加工质量不足。

技术实现思路

[0004]为了避免前处理离子源对基膜表面进行清洁作业，而产生的含尘空气逸散在作业环境中对基膜造成二次污染，以提高基膜的镀膜加工质量，本申请提供一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机。
[0005]本申请提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：包括卷绕镀膜机本体(1)，所述卷绕镀膜机本体(1)作业端的一边处设置有用于膜卷上料的上料辊(2)，且卷绕镀膜机本体(1)靠近上料辊(2)的一边处设置有用于加工完成后的膜卷下料的下料辊(3)，所述卷绕镀膜机本体(1)靠近上料辊(2)的一边处设置有用于对基膜进行磁控溅射镀膜加工的加工腔室(4)，所述加工腔室(4)内设置有多个镀膜靶材(5)，所述卷绕镀膜机本体(1)靠近加工腔室(4)的一边处设置有用于驱动基膜配合加工腔室(4)作业的驱动辊(6)，所述卷绕镀膜机本体(1)靠近驱动辊(6)的一边处设置有多个用于驱动基膜进行输送作业的联动辊(7)，所述加工腔室(4)靠近上料辊(2)的一边侧壁处设置有用于对基膜进行在线清洁处理的前处理离子源(8)，所述加工腔室(4)靠近前处理离子源(8)的一边正面处设置有收集处理机构(9)。2.根据权利要求1所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述前处理离子源(8)的输出端朝向基膜的表面一侧处，所述上料辊(2)、下料辊(3)、驱动辊(6)和联动辊(7)均通过卷绕镀膜机本体(1)作业端内部的驱动设备驱动进行转动作业。3.根据权利要求1所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述收集处理机构(9)包括处理箱(91)、抽风机(92)、万向软管(93)和收集罩(94)，所述处理箱(91)固定连接在加工腔室(4)靠近前处理离子源(8)的一边正面处，所述万向软管(93)的一端与处理箱(91)的输...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴平，
申请(专利权)人：安徽嘉硕真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：