研磨液容器、摇匀装置、供应单元以及供应方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种研磨液容器，包括：筒形侧壁，具有一研磨液出口；顶部封口，与所述筒形侧壁的顶部密封连接；底部封口，与所述筒形侧壁的底部密封连接。还提供一种研磨液摇匀装置，设置在研磨液供应单元内，包括：容器夹具，与研磨液容器相适配，以将所述研磨液容器夹住；驱动机构，驱动所述容器夹具旋转或振动，以使研磨液容器中的研磨液分布均匀。本发明专利技术提供的技术方案能够避免研磨液的沉降导致的悬浮物分布不均。布不均。布不均。

【技术实现步骤摘要】
研磨液容器、摇匀装置、供应单元以及供应方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种研磨液容器、摇匀装置、供应单元以及供应方法。

技术介绍

[0002]研磨液是CMP工艺中的一种关键物料，在CMP研磨过程中，通常会向研磨垫供应研磨液，并且使半导体器件与研磨垫表面进行接触和旋转，通过研磨液与半导体器件的化学反应以及研磨垫与半导体器件之间的机械力作用，使得半导体器件被成功的研磨。研磨液在放置过程中会发生沉降，从而，研磨液的上层和下层之间的悬浮物分布不均匀，在使用前，需要对研磨液进行摇匀，以确保研磨过程中供给的研磨液浓度是一致的。
[0003]在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下技术问题：
[0004]现有的技术方案是将研磨液进行摇匀后再采用泵提供动力向混合罐中供给研磨液，这种方式在摇匀完成到开始供给研磨液具有一个时间差，容易使研磨液再次发生沉降。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供的研磨液容器、摇匀装置、供应单元以及供应方法，避免研磨液的沉降导致的悬浮物分布不均。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨液容器，其特征在于，包括：筒形侧壁，具有一研磨液出口；顶部封口，与所述筒形侧壁的顶部密封连接；底部封口，与所述筒形侧壁的底部密封连接。2.根据权利要求1所述的研磨液容器，其特征在于，所述研磨液出口为半径0.1mm～100mm的椭圆形形态。3.一种研磨液摇匀装置，其特征在于，设置在研磨液供应单元内，包括：容器夹具，与研磨液容器相适配，以将所述研磨液容器夹住；驱动机构，驱动所述容器夹具旋转或振动，以使研磨液容器中的研磨液分布均匀。4.根据权利要求3所述的研磨液摇匀装置，其特征在于，所述容器夹具用于将所述研磨液固定，以使所述研磨液出口位于所述研磨液容器的最低位置。5.根据权利要求3所述的研磨液摇匀装置，其特征在于，所述驱动机构用于驱动所述容器夹具在竖直平面内或水平平面内旋转；或者，所述驱动机构用于驱动所述容器夹具在竖直平面内或水平平面内以预定频率振动。6.一种研磨液供应单元，其特征在于，包括：支撑框架；...

【专利技术属性】
技术研发人员：李善雄，张月，杨涛，卢一泓，刘青，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：