沉积用坩埚制造技术

技术编号:33425728 阅读:31 留言:0更新日期:2022-05-19 00:17
根据本实施例的沉积用坩埚包括:放置沉积材料的圆柱形下主体;从所述下主体的顶部延伸的上主体,其中所述沉积材料在所述上主体中被蒸发;以及多个凹窝,所述多个凹窝形成在所述下主体的内部底表面上,并且以环形的方式形成有与所述下主体的中心一致的中心。有与所述下主体的中心一致的中心。有与所述下主体的中心一致的中心。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】沉积用坩埚


[0001]本公开涉及用于防止由于热应力引起的损坏的沉积用坩埚。

技术介绍

[0002]沉积是用气态颗粒涂覆物体如金属或玻璃的表面以在其上形成固体薄膜的方法。
[0003]近来,随着有机发光二极管(OLED)在电子器件如TV和移动电话中使用的增加,对用于制造OLED显示面板的器件进行了积极的研究。特别地,OLED显示面板制造工艺包括在真空中将有机或无机材料沉积在玻璃基板上。
[0004]沉积工艺包括加热用于在其中容纳诸如有机/无机材料的沉积原料的坩埚以将沉积原料蒸发成气态沉积材料的工艺以及通过喷嘴将气态沉积材料沉积在基板上的工艺。
[0005]与有机材料不同,无机材料包括金属,在这方面,用于形成金属薄膜的金属如Al、Ag或Mg用作沉积原料。
[0006]为了蒸发金属沉积原料,坩埚需要加热到700℃或更高的高温,热应力降低了坩埚的耐久性。
[0007]韩国专利No.1757925(2010年11月26日申请)公开了一种沉积用坩埚和使用该坩埚的沉积设备,其包括坩埚以及容纳在坩埚喷嘴上的第一内板、第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种沉积用坩埚,所述沉积用坩埚包括:下主体,所述下主体具有用于在其中容纳沉积原料的圆筒形状;上主体,所述上主体从所述下主体的上侧延伸,并且沉积原料从所述上主体蒸发;以及多个凹窝,所述多个凹窝形成在所述下主体的内部的底部上并且具有环形形状,所述环形形状的中心对应于所述下主体的中心。2.根据权利要求1所述的沉积用坩埚,其中,所述多个凹窝以恒定间隔径向间隔开。3.根据权利要求1所述的沉积用坩埚,其中,所述多个凹窝在径向方向上具有相同的厚度。4.根据权利要求1所述的沉积用坩埚,其中,所述多个凹窝在上下方向上具有相同的高度。5.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:文炳竣李相硅曹永秀李镕焕
申请(专利权)人:LG电子株式会社
类型:发明
国别省市:

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