一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法和装置制造方法及图纸

技术编号:33389000 阅读:11 留言:0更新日期:2022-05-11 23:04
本发明专利技术提供一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法和装置。本发明专利技术包括纳流控芯片和反应控制系统,纳流控芯片包含纳米尺寸的液流通道结构和微米尺寸的液流通道结构,纳米液流通道的两端分别和两个微流通道相连,微米液流通道通过芯片储液池接口和外部液流控制系统相连,反应控制系统包括所述外部液流控制系统、反应辅助温控系统和离子直流驱动系统,辅助温控系统用于调节纳流控芯片中的反应温度,外部液流控制系统用于将外部溶液以预设的速度注入微流控芯片的微流通道中,离子直流驱动系统用于对施加在微流通道上的电场进行精准的控制,该电场用于控制进入纳流通道中离子的数量和合成反应过程的速度。本发明专利技术实现超级纳米线异质结的合成。级纳米线异质结的合成。级纳米线异质结的合成。

【技术实现步骤摘要】
一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法和装置


[0001]本专利技术涉及纳米材料的精加工领域,尤其涉及一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法和装置。

技术介绍

[0002]纳米线具有良好的光电、光化学性能,以及催化和储能等特性,因而在电子、通信、计算、微纳传感、微纳电子机械等领域中起到很重要的作用,如锆钛酸钡钙、ZnO纳米线等纳米线在新能源电池、新材料薄膜等方面的应用已有大量报道,再比如纳米线常作为合成材料中的添加剂、量子系统中的连线、场发射器件中核心部件和生物分子纳米感应器等也得到广泛应用;多段异质材料纳米线结构是纳米光电子器件的重要组成单元,这种结构在条形编码、光学检测、生物传感、催化、自组装和磁操纵等方面有广泛的应用前景;但超长纳米线的合成较为困难,尤其是超长纳米线、多段异质结纳米线的合成目前技术复杂且产率较低。
[0003]现阶段纳米线合成普遍采用水热法、模板法、电化学还原法、共沉淀法、种子生长合成法等。这些传统手段均存在一定的技术限制,比如硬模板法制作纳米材料需要多步骤完成,采用硬模板法制备的多级孔分子筛晶化时间较长,孔道连通性较差,不利于大分子传质,且成本较高等问题限制了其实际应用;软模板法虽然具有操作简单且介孔孔径可调控的优点,但是制备分子筛的条件苛刻,过程复杂;电化学还原法制备纳米材料所需要化电池,反应所需要的电压需要控制较精确,电压对生成的纳米材料的影响较大,一旦控制不好生成的产物就会与预想的差很多,而且还会产生电化学污染物;水热/溶剂热法需要一个高温高压的反应环境,而且水的物理化学性质会产生如下改变:离子积变高、热扩散系数变高、介电常数变低、蒸汽压变高、密度变低、黏度和表面张力变低,产生的变化较多,不利于重复实验;共沉淀法中沉淀剂的加入易使局部浓度过高,产生团聚或不够均匀;化学气相沉积法沉积速率不高、对设备具有腐蚀性和对环境具有一定的污染,由此可见传统合成手段实验条件较为苛刻,实验系统较为复杂,而且生长的纳米线形态不一,很难控制纳米线的生长规律,无法实现超长纳米线和纳米线异质结的合成。
[0004]本专利技术采用纳流控芯片在纳米通道中进行超长纳米线和超长多段异质结纳米线的合成,本专利技术装置结构简单,实验过程灵活可控。

技术实现思路

[0005]根据上述提出的技术问题,而提供一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法和装置,以克服现有技术合成的纳米线短及合成多段异质结的纳米线过程不可控等困难。本专利技术采用的技术手段如下:
[0006]一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,包括纳流控芯片和反应控制系统,所述纳流控芯片包含纳米尺寸的液流通道结构和微米尺寸的液流通道结构,纳米液流通道的两端分别和两个微流通道相连,微米液流通道通过芯片储液池接口和外部液流
控制系统相连,所述反应控制系统包括所述外部液流控制系统、反应辅助温控系统和离子直流驱动系统,辅助温控系统用于调节纳流控芯片中的反应温度,所述外部液流控制系统用于将外部溶液以预设的速度注入微流控芯片的微流通道中,所述离子直流驱动系统用于对施加在微流通道上的电场进行精准的控制,该电场用于控制进入纳流通道中离子的数量和合成反应过程的速度。
[0007]进一步地,所述外部液流控制系统包括微流泵、液流管道、液流混合储液池、废液池,其中微流泵通过液流管道和液流混合储液池相连,液流混合储液池通过液流导管和所述纳流控芯片的储液池入口接口相连,纳流控芯片的储液池出口接口通过微流导管和废液池相连。
[0008]进一步地,辅助温控系统包含传热平台和温控控制结构,所述纳流控芯片放置于传热平台之上,传热平台通过温度控制结构实现对纳流控芯片中的反应温度的精准控制。
[0009]进一步地,所述纳流控芯片包括两层结构,下层为平板基底,上层包含纳米尺寸的液流通道结构和微米尺寸的液流通道结构。
[0010]进一步地,所述离子直流驱动系统包含直流电源模块、导线、惰性微电极,其中惰性微电极通过导线和直流电源模块相连,惰性微电极布置于纳流控芯片的基板上且和微流通道接触;直流电源模块的控制系统可对施加在微流通道上的电场进行精准的控制。
[0011]本专利技术还公开了一种基于纳流控芯片的超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工方法,包括如下步骤:
[0012]S1、将纳流控芯片放置于传热平台上,并将液流控制系统和离子直流驱动系统通过液流导管和导线与纳流控芯片相连;
[0013]S2、调节温控系统和传热平台温度:启动温度控制结构,使芯片温度达到纳米线合成所需的温度;
[0014]S3、添加试剂样品:在微流泵中加入反应溶液,通过控制控制系统将溶液泵入混合储液池进行混合,而后将溶液以固定的速度注入微流控芯片的微流通道中;
[0015]S4、样品反应:两侧反应溶液在毛细力的作用下分别沿微流通道进入纳米通道,在纳米通道中汇合发生反应合成纳米线,进而合成纳米晶核;
[0016]S5、调节电源:待通道中液流稳定且产生初始纳米晶核,调节所述直流电源为纳流控芯片提供电压,加速离子进入纳流通道实现阴离子和阳离子的混合,通过调节施加直流电场的强度调节纳米线合成速度;
[0017]S6、样品回收:反应物在所述纳流控芯片中反应完全后,反应废液进入所述废液池中。
[0018]进一步地,所述步骤S4中,为控制纳米线合成的初始位置,在其中一侧反应溶液中添加20%PEG聚合物以增加溶液的粘度,基于这种操作可使纳米线在流有PEG聚合物侧纳米通道的端口进行合成。
[0019]进一步地,所述步骤S6后还包括如下步骤:
[0020]S7、制备基于纳流控芯片的超长纳米线异质结材料:获得一段纳米线,后将所述试剂液流控制系统中的溶液换成超纯水或者无水乙醇冲洗微通道,并将废液排至所述废液池;
[0021]微通道冲洗干净后,通过液流控制系统向纳流控芯片中加入另两种反应试剂,在
纳米通道中继续生成另一种材质的纳米线,形成纳米线异质结,该合成过程可重复多次,或者通过置换多种反应溶液合成多种材料的异质结结构纳米线。
[0022]本专利技术具有以下优点:本专利技术采用纳流控芯片在纳米通道中进行超长纳米线和超长多段异质结纳米线的合成,合成装置结构简单,实验过程灵活可控、可实现超级纳米线异质结的合成。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1为本专利技术制备方法流程图。
[0025]图2为本专利技术一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置示意图。其中,(a)为装置连接关系图;(b)为纳流控芯片内部通道结构示意图;(c)为合成的超长纳米线,超长纳米线异质结和超级异质结结构示意图。
[0026]图3为本专利技术纳流控芯片的结构示意本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,其特征在于,包括纳流控芯片和反应控制系统,所述纳流控芯片包含纳米尺寸的液流通道结构和微米尺寸的液流通道结构,纳米液流通道的两端分别和两个微流通道相连,微米液流通道通过芯片储液池接口和外部液流控制系统相连,所述反应控制系统包括所述外部液流控制系统、反应辅助温控系统和离子直流驱动系统,辅助温控系统用于调节纳流控芯片中的反应温度,所述外部液流控制系统用于将外部溶液以预设的速度注入微流控芯片的微流通道中,所述离子直流驱动系统用于对施加在微流通道上的电场进行精准的控制,该电场用于控制进入纳流通道中离子的数量和合成反应过程的速度。2.根据权利要求1所述的超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,其特征在于,所述外部液流控制系统包括微流泵、液流管道、液流混合储液池、废液池,其中微流泵通过液流管道和液流混合储液池相连,液流混合储液池通过液流导管和所述纳流控芯片的储液池入口接口相连,纳流控芯片的储液池出口接口通过微流导管和废液池相连。3.根据权利要求1所述的超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,其特征在于,辅助温控系统包含传热平台和温控控制结构,所述纳流控芯片放置于传热平台之上,传热平台通过温度控制结构实现对纳流控芯片中的反应温度的精准控制。4.根据权利要求1所述的超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,其特征在于,所述纳流控芯片包括两层结构,下层为平板基底,上层包含纳米尺寸的液流通道结构和微米尺寸的液流通道结构。5.根据权利要求1所述的超长纳米线和超长纳米线异质结材料的加工装置,其特征在于,所述离子直流驱动系统包含直流电源模块、导线、惰性微电极,其中惰性微电极通过导线和直流电源模块相连,惰性微电极布置于纳流控芯片的基板上且和微流通道接触;直流电源模块的控制系统可对施加...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭冉宋涵琼李橦宋永欣潘新祥李冬青
申请(专利权)人:大连海事大学
类型:发明
国别省市:

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